WO2026070509A1 - Procédé de gravure et dispositif de traitement au plasma - Google Patents

Procédé de gravure et dispositif de traitement au plasma

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WO2026070509A1
WO2026070509A1 PCT/JP2025/032579 JP2025032579W WO2026070509A1 WO 2026070509 A1 WO2026070509 A1 WO 2026070509A1 JP 2025032579 W JP2025032579 W JP 2025032579W WO 2026070509 A1 WO2026070509 A1 WO 2026070509A1
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plasma
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亨 久松
嘉英 木原
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Tokyo Electron Ltd
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Tokyo Electron Ltd
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Abstract

L'invention concerne, dans un mode de réalisation donné à titre d'exemple, un procédé de gravure qui comprend : (a) une étape consistant à fournir un substrat sur un support de substrat dans une chambre, le substrat comprenant une première région et une seconde région, la première région comprenant un premier matériau qui contient de l'azote et du silicium, la seconde région comprenant un second matériau qui est différent du premier matériau ; (b) une étape consistant à exposer le substrat à un premier gaz de traitement qui contient un gaz de fluorure d'hydrogène ; et (c) une étape consistant, après l'étape (b), à exposer le substrat à un plasma qui a été généré à partir d'un second gaz de traitement qui contient un gaz inerte, le plasma contenant des ions du gaz inerte.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2019012759A (ja) * 2017-06-30 2019-01-24 東京エレクトロン株式会社 エッチング方法およびエッチング装置
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