JP4890403B2 - 平版印刷版原版 - Google Patents
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Description
また、下部記録層における分散相を構成する樹脂としては、マトリックス相を構成する樹脂よりもアルカリ水溶液に対する溶解速度が遅いものでるあることが好ましい。本発明において分散相を構成するポリマーとしては、後に詳述する樹脂の中から選択することができ、その中でも、分散相を構成するポリマーとしてはノボラック樹脂であることが特に好ましい。
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、樹脂及び赤外線吸収剤を含み、赤外レーザー露光によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大するポジ型記録層を少なくとも2層以上有し、該2層以上のポジ型記録層のうち支持体に最も近接するポジ型記録層は、下記一般式(I)で表される構造単位を有するポリマー(特定ポリマー)を含む2種以上の樹脂を含有する層であり、且つ、該2種以上の樹脂のうち少なくとも1種は層中で分散相を形成していることを特徴とする。
以下、特定ポリマーについて詳細に説明する。
本発明における特定ポリマーは、下記一般式(I)で表される構造単位を有するポリマーである。
このような化合物としては、具体的には、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。
(m1)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
(m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
(m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキルメタクリレート。
(m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
(m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
(m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(m10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(m11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(m12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
上部記録層で用いられるアルカリ可溶性高分子としては、未露光部では強い水素結合性を生起し、露光部においては、一部の水素結合が容易に解除される点においてフェノール性水酸基を有する樹脂が望ましい。更に好ましくはノボラック樹脂である。重量平均分子量が500〜20,000であり、数平均分子量が200〜10,000のものが好ましい。
本発明において、下層の海島構造を構成する分散相を最大長径0.8μm以下、平均長径0.6μm以下とするためには、塗布溶媒の選択が重要な要因であり、適切な塗布溶媒系を用いることで目的のサイズを有する海島構造を作製することが可能となる。
(2)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
(3)1分子中に、窒素原子上に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基と重合可能な不飽和結合をそれぞれ一つ以上有する低分子化合物、例えば、下記式(i)〜(v)で示される化合物。
本発明では上記のアクリル系高分子化合物とウレタン系高分子化合物とを併用してもよい。
分散相には、露光部におけるアルカリ水可溶高分子化合物のアルカリ水溶解性を向上させるために、光又は熱により分解して酸を発生する酸発生剤を含有させることができる。
酸発生剤としては、200〜500nmの波長の光照射又は100℃以上の加熱により酸を発生する化合物を意味し、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、公知の熱分解して酸を発生する化合物、及びそれらの混合物等が挙げられる。発生する酸としては、スルホン酸、塩酸等のpKaが2以下の強酸であることが好ましい。
本発明において好適に用いられる開始剤は特開平11−95415号公報に記載のトリアジン系化合物、又特開平7−20629号公報に記載の潜伏性ブレンステッド酸などが挙げられる。ここで、潜伏性ブロンステッド酸とは、分解してブロンステッド酸を生成する前駆体をいう。ブロンステッド酸は、レゾール樹脂とノボラック樹脂との間のマトリックス生成反応を触媒すると信じられる。この目的に適切なブロンステッド酸の典型的な例は、トリフルオロメタンスルホン酸及びヘキサフルオロホスホン酸である。
RCH2X、RCHX2、RCX3、R(CH2X)2、及びR(CH2X)3、(式中、Xは、Cl、Br、F、もしくはCF3SO3であり、Rは、芳香族基、脂肪族基もしくは芳香族基及び脂肪族基の結合体である)を包含する。
有用なイオン性潜伏性ブロンステッド酸は、下記式によって表されるものである。
このような赤外線吸収剤が、下層において分散相内に含まれる場合、分散相に赤外線吸収剤が局在化することになり、相互作用解除性を向上させたり、酸発生剤が含まれる場合にはその分解性を向上させるものと考えられる。
本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長760nmから1200nmの赤外線を有効に吸収する染料又は顔料である。好ましくは、波長760nmから1200nmに吸収極大を有する染料又は顔料である。
染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
例えば、(a−1)アニオン性金属錯体、(a−2)アニオン性フタロシアニンが挙げられる。
ここで、(a−1)アニオン性金属錯体とは、実質的に光を吸収する錯体部の中心金属及び配位子全体でアニオンとなるものを指す。
(a−2)アニオン性フタロシアニンは、フタロシアニン骨格に、置換基としてスルホン酸、カルボン酸、ホスホン酸基等のアニオン基が結合し、全体としてアニオンとなっているものを指す。
さらに特願平10−237634号の[0014]ないし[0105]に記載の[Ga-−M−Gb]mXm+で示されるアニオン性赤外線吸収剤〔Ga-はアニオン性置換基を表し、Gbは中性の置換基を表す。Xm+は、プロトンを含む1〜m価のカチオンを表し、mは1ないし6の整数を表す。〕を挙げることができる。
オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。
本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例えば、J.コーサー著「ライト センシティブ・システムズ」(John Wiley & Sons.Inc.)第339〜352頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403号公報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120 号及び同第3,188,210 号に記載されているベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。
o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の添加量は、好ましくは1〜50質量%、更に好ましくは5〜30質量%、特に好ましくは10〜30質量%である。
本発明の添加剤と結着剤は、同一層へ含有させることが好ましい。
上記の非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の記録層中に占める割合は、0.05〜15質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%である。
本発明において記録層などの各層を塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
特に、上部記録層塗布時に下部記録層へのダメージを防ぐため、上部記録層塗布方法は非接触式であることが望ましい。また、接触型ではあるが溶剤系塗布に一般的に用いられる方法としてバーコーター塗布を用いることも可能であるが、下部記録層へのダメージを防止するために順転駆動で塗布することが望ましい。
本発明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、第3,280,734号及び第3,902,734号に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号、同第4,689,272号に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
本発明においては、特に近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源により露光されることが好ましく、具体的には、波長760nmから1200nmの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザにより画像露光されることが好ましい。
本発明の平版印刷版原版の現像処理に適用することのできる現像液は、pHが9.0〜14.0の範囲、好ましくは12.0〜13.5の範囲にある現像液である。現像液(以下、補充液も含めて現像液と呼ぶ)には、従来公知のアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤が挙げられる。これらのアルカリ水溶液は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
トレハロース型少糖類としては、トレハロース型少糖類には、サッカロースやトレハロースがあり、配糖体としては、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体などが挙げられる。また糖アルコールとしてはD,L−アラビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビット、D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシットおよびアロズルシットなどが挙げられる。更に二糖類の水素添加で得られるマルチトールおよびオリゴ糖の水素添加で得られる還元体(還元水あめ)が好適に用いられる。これらの中で特に好ましい非還元糖は糖アルコールとサッカロースであり、特にD−ソルビット、サッカロース、還元水あめが適度なpH領域に緩衝作用があることと、低価格であることで好ましい。
非還元糖に組み合わせる塩基としては従来公知のアルカリ剤が使用できる。例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウムなどの無機アルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。
この様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
本実施例においては、特定ポリマーとして、以下のごとく合成したポリマー1〜3を用いた。
ポリマー1は以下に示す方法により合成した。
ポリマー1は、(a)N−ビニルカプロラクタム、(b)下記構造を有するモノマー1、及び(c)アクリル酸の共重合体である(共重合モル比:a/b/c=23/25/20)。
1.52gのジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート(商品名:V601、和光純薬工業(株)製より入手可能なアゾ開始剤)を28.9gのγ−ブチロラクトンに溶解した。得られた溶液を、上記にて得られた反応混合物に30分間滴下した。その後、反応を90℃で更に7時間続けた。反応完了後、温度を室温に調整した。得られたポリマー溶液は、約20%の濃度であった。
ポリマー2は以下に示す方法により合成した。
ポリマー2は、(a)N−ビニルカプロラクタム、(b)前記構造を有するモノマー1、及び(c)メタクリル酸の共重合体である(共重合モル比:a/b/c=23/57/20)。
1.52gのジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート(商品名:V601、和光純薬工業(株)製より入手可能なアゾ開始剤)を28.9gのγ−ブチロラクトンに溶解した。得られた溶液を、上記にて得られた反応混合物に30分間滴下した。その後、反応を90℃で更に7時間続けた。反応完了後、温度を室温に調整した。得られたポリマー溶液は、約20%の濃度であった。
ポリマー3を以下に示す方法により合成した。ポリマー3は、(a)N−ビニルカプロラクタム、(b)前記構造を有するモノマー1、及び(c)メタクリル酸の共重合体である(共重合モル比:a/b/c=11/69/20)。
1.52gのジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート(商品名:V601、和光純薬工業(株)製より入手可能なアゾ開始剤)を28.9gのγ−ブチロラクトンに溶解した。得られた溶液を、上記にて得られた反応混合物に30分間滴下した。その後、反応を90℃で更に7時間続けた。反応完了後、温度を室温に調整した。得られたポリマー溶液は、約20%の濃度であった。
<支持体の作製>
Si:0.06質量%、Fe:0.30質量%、Cu:0.014質量%、Mn:0.001質量%、Mg:0.001質量%、Zn:0.001質量%、Ti:0.03質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物のアルミニウム合金を用いて溶湯を調製し、溶湯処理およびろ過を行った上で、厚さ500mm、幅1200mmの鋳塊をDC鋳造法で作成した。表面を平均10mmの厚さで面削機により削り取った後、550℃で、約5時間均熱保持し、温度400℃に下がったところで、熱間圧延機を用いて厚さ2.7mmの圧延板とした。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を500℃で行った後、冷間圧延で、厚さ0.24mmのアルミニウム板に仕上げた。このアルミニウム板を幅1030mmにした後、以下に示す表面処理に供した。
表面処理は、以下の(a)〜(j)の各種処理を連続的に行うことにより実施した。なお、各処理及び水洗の後にはニップローラで液切りを行った。
比重1.12の研磨剤(ケイ砂)と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。研磨剤の平均粒径は8μm、最大粒径は50μmであった。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロン、毛長は50mm、毛の直径は0.3mmであった。ナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して7kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は200rpmであった。
上記で得られたアルミニウム板をカセイソーダ濃度2.6質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%、温度70℃の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を10g/m2溶解した。その後、スプレーによる水洗を行った。
温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。
前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10.5g/L水溶液(アルミニウムイオンを5g/L、アンモニウムイオンを0.007質量%含む。)、液温80℃であった。交流電源波形は図1に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。使用した電解槽は図2に示すものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で220C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。その後、スプレーによる水洗を行った。
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.20g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
温度30℃の硝酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
二段給電電解処理法の陽極酸化装置(第一及び第二電解部長各6m、第一及び第二給電部長各3m、第一及び第二給電電極長各2.4m)を用いて陽極酸化処理を行った。第一および第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度170g/L(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度43℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は2.7g/m2であった。
陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体を温度30℃の3号ケイ酸ソーダの1質量%水溶液の処理層中へ、10秒間、浸せきすることでアルカリ金属ケイ酸塩処理(シリケート処理)を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
上記のようにして得られたアルカリ金属ケイ酸塩処理後のアルミニウム支持体上に、下記組成の下塗液を塗布し、80℃で15秒間乾燥し、塗膜を形成した。乾燥後の塗膜(下塗層)の被覆量は15mg/m2であった。
・下記高分子化合物1 0.3g
・メタノール 100g
・水 1g
得られた支持体に、以下の下部記録層用塗布液を塗布量が0.85g/m2になるよう塗布したのち、TABAI社製、PERFECT OVEN PH200にてWind Controlを7に設定して140℃で50秒間乾燥し、その後、上部記録層用塗布液を塗布量が0.15g/m2になるよう塗布したのち、120℃で1分間乾燥し、実施例1〜5及び比較例1〜4の平版印刷版原版を得た。
・下記表1に示す2種のポリマー(表1に示す質量比で併用) 2.15g
・シアニン染料A(下記構造) 0.13g
・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.11g
・無水テトラヒドロフタル酸 0.15g
・p−トルエンスルホン酸 0.01g
・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン
ヘキサフルオロホスフェート 0.03g
・エチルバイオレットの対イオンを
4−ヒドロキシ−1−スルホン酸に変えたもの 0.10g
・フッ素系界面活性剤(面状改良界面活性剤) 0.035g
〔メガファックF781F、大日本インキ化学工業(株)製)
・メチルエチルケトン 24g
・2−ヒドロキシ−1−プロパノール 13g
・γ−ブチロラクトン 14g
ポリマー1〜3:前記のごとく合成した特定ポリマー
ポリマー4 :N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/
アクリロニトリル/メタクリル酸メチル
(36/34/30、重量平均分子量100000、酸価2.65)
ノボラックA :2,5−キシレノール/m/pクレゾールノボラック
(5/55/40、重量平均分子量6500)
ノボラックB :m/pクレゾールノボラック
(60/40、重量平均分子量3500)
ノボラックC :フェノール/m/pクレゾールノボラック
(20/50/30、重量平均分子量5000)
ノボラックD :フェノールノボラック(重量平均分子量4500)
・m,p−クレゾールノボラック 0.2846g
(m/p比=6/4、重量平均分子量4500、未反応クレゾール0.8質量%含有)
・シアニン染料A(前記構造) 0.075g
・ベヘン酸アミド 0.060g
・フッ素系界面活性剤(面状改良界面活性剤) 0.022g
〔メガファックF781F、大日本インキ化学工業(株)製〕
・画像形成改良フッ素系界面活性剤 0.120g
〔メガファックF780(30%)、大日本インキ化学工業(株)製〕
・メチルエチルケトン 15.1g
・1−メトキシ−2−プロパノール 7.7g
実施例1〜5及び比較例1〜4で得られた各平版印刷版原版を、ミクロトーム等で切断して得た記録層断面に導電性をもたせた後、走査型電子顕微鏡(SEM)で写真撮影し、観察したところ、実施例1〜5の各下部記録層には分散相が存在することが確認された。分散相の大きさは0.05μm〜0.55μmの範囲であった。一方、比較例1〜4の下部記録層は均一な相であり、分散相は見られなかった。
実施例1〜5及び比較例1〜4で得られた各平版印刷版原版について、小点再現性、耐刷性、及び耐薬品性の評価を以下のように行った。
実施例1〜5及び比較例1〜4で得られた各平版印刷版原版に、KGC社製Trendsetterにて、ビーム強度9w、ドラム回転速度250rpmで、テストパターンを画像状に描き込んだ。平版印刷版原版への描き込みは、Staccato10スクリーン(Creo社製)を用いて、1〜99%の階調を出力して行った。その後、富士フイルム(株)製の現像液「DT−2(水で希釈して43mS/cmとしたもの)」を仕込んだ富士フイルム(株)製PSプロセッサー940HIIを用い、液温を30度に保ち、現像時間12sで現像を行った。小点再現性は、現像後に再現し始めた面積%により評価した。面積%が小さいほど小点再現性に優れる。結果を下記表2に示す。
実施例1〜5及び比較例1〜4で得られた各平版印刷版原版について、上記1.と同様にして描き込み(露光)及び現像を行い平版印刷版を得た。得られた各平版印刷版を用いてハイデルベルク社製のKOR−D機により上質紙に印刷を行った。耐刷性の評価は、平版印刷版の記録層が膜減りを起こし部分的にインキがつかなくなる、いわゆる版飛びを起こすまでの枚数により行った。結果を下記表2に示す。
耐薬品性は、下記の試験液1〜3を用いて、以下に示す評価方法及び評価基準により評価した。結果を下記表2に示す。
試験液1: イソプロパノールの50wt%水溶液
試験液2: EMERALD PREMIUM MXEH(ANCHOR社製)
試験液3: ANCHOR AQUA AYDE(ANCHOR社製)
得られた平版印刷版原版の記録層表面に、試験液1〜3の液滴を、各々40μLづつ異なる箇所に滴下した。3分経過後、コットンパッドを用いて、記録層表面から液滴を拭き取った。試験液に起因する記録層の損傷を目視にて観察し、以下の評価基準により評価した。
0: 損傷なし
1: 記録層表面の光沢が変化した
2: 記録層に小さな損傷が生じた(厚みが減少した)
3: 記録層に大きな損傷が生じた
4: 記録層が完全に溶けた
12 ラジアルドラムローラ
13a、13b 主極
14 電解処理液
15 電解液供給口
16 スリット
17 電解液通路
18 補助陽極
19a、19b サイリスタ
20 交流電源
40 主電解槽
50 補助陽極槽
Claims (1)
- 支持体上に、樹脂及び赤外線吸収剤を含み、赤外レーザー露光によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大するポジ型記録層を少なくとも2層以上有し、該2層以上のポジ型記録層のうち支持体に最も近接するポジ型記録層は、下記一般式(I)で表される構造単位を有するポリマーを含む2種以上の樹脂を含有する層であり、且つ、該2種以上の樹脂のうち少なくとも1種は層中で分散相を形成していることを特徴とする平版印刷版原版。
[一般式(I)中、R1、R2及びR3は、各々独立に、水素原子、又は置換若しくは非置換のアルキル基を表す。R4及びR5は、各々独立に、置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のシクロアルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基を表し、R4及びR5は互いに結合して環構造を形成してもよい。]
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