JP2021525096A - 生体材料の培養用ウェル - Google Patents

Abstract

【課題】生体材料の培養用ウェル（Ｗ）【解決手段】当該ウェル（Ｗ）は、上部開口部（１８）および底部区画（１４）を備え、同底部区画（１４）は、第１内部エッジ（１１）を備える。【選択図】図５

Description

本発明は、請求項１の序文のように、生体材料の培養用ウェルに関する。
さらに、本発明は、同格の請求項群のように、複数ウェル（well）プレートおよび方法に関する。

生体材料（特に、生物組織の細胞）の培養用ウェルは、実験室において広く使用されている。
このようなウェルの代表的なものとしては、多数のウェルを備えてなり、代表例として、多数のウェルが複数ウェルプレート上に対称的パターンで配置された複数ウェルプレートがある。
複数ウェルプレート上にウェルを配置する１つの実現可能な選択肢としては、４×６パターンがある。
４×６パターンでは、培養プレート上で２４個のウェルが規則的な配列を構成するように、２４個のウェルが４行６列に配置される。
他の実現可能な選択肢としては、６×８パターン、８×１２パターン、もしくは、さらに１６×２４パターンも存在する。

さらに、この種のウェル群の底部の上に、ヒドロゲル粒滴（drops）を置く方法が知られている。
このようなヒドロゲル粒滴は、培養されるべき生体材料をすでに備えている。もしくは、このようなヒドロゲル粒滴は、ウェル群の底部の上に粒子の幾何学的パターンを形成するために用いられる。
たとえば、ＰＣＴ／ＩＢ２０１４／０６７２４２は、複数ウェルプレートのウェルの底部における微細ウェル構造を開示する。
当該の微細ウェル構造は、以下のようにして得られる。複数ウェルプレートの底部にくっつけられる細径の微細構造に形成されたヒドロゲル粒滴の被覆（coating）へと導かれる、ウェル底部におけるヒドロゲル粒滴に押付けられるか（stamp）、もしくは、型入れ形成される。

しかしながら、ウェルの底部にあるヒドロゲルを適切に加工することは、手ぎわを要する作業である。

たとえば、ウェルの平坦な底部の上に、培養されるべき細胞を備えるヒドロゲル粒滴を置く場合、以下のような事態が起こりうる。
すなわち、当該ヒドロゲル粒滴は、垂直にそびえるウェルの側壁部にむかって、ゆっくりと移動していくか若しくは広がっていき、その後、凹型（concave）の表面屈曲（meniscus）を形成する。
このような表面の屈曲の形成は、細胞の成長に対して、強度に不利な影響を与えるものであり、ヒドロゲルにおける細胞の成長の解析（たとえば、顕微鏡による検査）がほとんど困難となる。

また、微細ウェル構造を、ウェル底部の上にあるヒドロゲル粒滴のなかに押付ける際、ウェルの垂直側壁に凹型の表面屈曲が生じることは、非常に不利益をもたらす。
なぜなら、凹型の表面屈曲により、型入れ時に気泡を生じさせ、微細ウェル構造が、いびつで不均質になりうるからである。

国際出願ＰＣＴ／ＩＢ２０１４／０６７２４２明細書

本発明は、上述した不利益を解決もしくは軽減することを目的とする。
特に、本発明は、ウェルの底部にあるヒドロゲル粒滴の取扱いを容易化する手段を見いだすことを目的とする。

上記課題は、生体材料の培養用ウェルにより解決されるものである。
このようなウェルは、上部開口部と底部区画を備え、この底部区画には、第１内部エッジが設けられている。

本願発明者は、このようなウェルの底部区画に設けられた内部エッジが、表面屈曲の形成に対して影響を与えることに着目した。
すなわち、内部エッジは、ウェルの側壁において凹型の表面屈曲が形成されることを回避でき、さらには、ヒドロゲル粒滴において「凸型の表面屈曲またはドーム状表面を形成」しうることに着目した。
内部エッジは、ウェルの垂直な側壁にむけてヒドロゲルが移動することを妨げるため、その箇所における凹型の表面屈曲が形成されること並びに上述した悪影響を回避できる。

本願において「ウェル（well）」とは、少なくとも断面の一部分が湾曲している中空円筒形状などを有する、延伸する穴のことを指す。
しかしながら、ウェルは、一部分が長方形状の区域（section）であったり、および／または、一部分が楕円状の区域であったり、および／または、一部分が多角形状の区域とすることも、原理上、可能である。
さらに、本発明に従ったウェルでは、ある特定の実施形態において、平行配置された２本の中空シリンダであって、これら中空シリンダの少なくとも一部分が重なり合ったものを具備していてもよい。
また、「生体材料」とは、たとえば幹細胞のような、ヒト細胞または動物細胞のことを指す。
「ヒドロゲル」とは、親水性のポリマー鎖の網状体、および／または、全内容を参照し本出願中に取込む国際特許出願ＰＣＴ／ＩＢ２０１４／０６７２４２に開示されているようなヒドロゲル、のことをいう。
「底部」とは、本願ウェルにおける最も低い位置にある表面または点のことを指す。なお、ウェルは、底部側においては閉じられており、底部の逆側は開口している。
さらに「底部」とは、通常の複数ウェルプレートの可塑性材料からなる底や、底なしの複数ウェルプレートに取付けられた撮像用の底（ガラスやポリマーの薄板）のことを指すこともある。
ウェル中で細胞が培養される場合、これらの細胞は、底部か、もしくは底部の近傍に置かれる。
「底部区画」とは、底部から、上方にむかって（すなわち、ウェルの開口部にむかって）、所定の距離だけ延伸する区画である。
たとえば、底部区画が延伸する距離は１〜８ｍｍであって、２〜７ｍｍが好適であり、さらには３〜４ｍｍとすることがより好ましい。
好ましい構成では、第１内部エッジは肩部（shoulder）をなしており、円周形状の肩部であって底部にむけてウェルの直径が細くなっていく（diminish）ことが好適である。
しかしながら、第１内部エッジは、必ずしも円周形状である必要はない。
第１内部エッジは、ウェルの内壁に、ある特定の傾き（percentage）で沿っているだけでもよい。
いずれの場合でも、エッジは、水平方向に、ウェルの内壁に沿って設けることが望ましい。

代表的な構成では、本願のウェルは、底部区画において、ヒドロゲル粒滴を受けるように構成されている。
第１内部エッジは、ウェルの底部区画のなかに、十分な量のヒドロゲル粒滴が満たされると、当該ヒドロゲルをドーム状表面に成長させるように構成されている。
ドームとは、凸型の表面屈曲とも表現することができる。
「十分な量」とは、第１内部エッジとウェルの底部によって構成される穴の体積よりも、わずかに大きな体積のことを指し、その量は、第１内部エッジの上にこぼれるほど多量ではない。
このような凸型の表面屈曲は、ヒドロゲルの型入れ成形をする際、ヒドロゲル中に微細ウェル構造を形成することが容易になる等の有利な効果を生じさせる。
代表的な構成では、第１内部エッジは、ウェルの底部区画のなかに注入されたヒドロゲル粒滴が、ウェルの側壁まで到達することを防止するように構成されている。
また、代表的な構成では、ヒドロゲル粒滴の体積は、９６個のウェルを備えるウェルプレートについては５〜５０μＬの間であり、および／または、２４個のウェルを備えるウェルプレートについては２５〜２００μＬの間であり、および／または、３８４個のウェルを備えるウェルプレートについては１〜１０μＬの間であり、および／または、６個または１２個のウェルを備えるウェルプレートについては最大１ｍＬである。

代表的な構成では、ウェルは、微細ウェル構造を備えている。
この微細ウェル構造は、多数の微細ウェルを有しており、さらに、同微細ウェル構造は、ウェルの底部区画のなかにあるヒドロゲル中に形成されている。
このような微細ウェル構造は、複数ウェルプレートのなかで培養される多数の培養コロニーを増やすことのできる利点を持つＰＣＴ／ＩＢ２０１４／０６７２４２に開示されているものが好適である。
なぜなら、１つのコロニーが、それぞれの微細ウェルの中で別々に培養されるからである。
しかしながら、それぞれのウェルごとに唯ひとつのコロニーを培養することも可能である。
もしくは、ヒドロゲルのドームを通じて分散された細胞を用い、ウェルごとに、微細構造を持たないドーム状のヒドロゲルを培養することも可能である。
この場合、ウェル内部には、微細ウェル構造は不要である。

代表的な構成では、ウェルは第２内部エッジを備えている。
第１内部エッジ、および／または、第２内部エッジは、最低限その一部分が円周状をなしていることを必須とするか、および／または、最低限その一部分が環状をなしていることを必須とすることが望ましい。
第２内部エッジは、ウェルの他の箇所（すなわち、第１内部エッジが設けられた箇所とは異なったウェルの箇所）において、凹型の表面屈曲が形成されることを回避するために使えるという利点がある。
円周状かつ環状の内部エッジには、対称性が良好で、非常に効率的であるという利点がある。
しかしながら、例として、複数の区域にきちんと区分されてなる内部エッジを使用することも可能である。
好適な構成としては、第１内部エッジおよび／または第２内部エッジは、環状（annular）であって円構造であり、さらに、この円構造がウェルの垂直軸の周囲を囲んでおり、ウェルの内壁に沿っていることが望ましい。
代表的な構成では、少なくとも１つの内部エッジが、内環、および／または、円環状の肩部を備えることが望ましい。

代表的な構成では、第１内部エッジは、ウェルの底部と、第２内部エッジの間に設けられる。
好適な構成としては、ウェルは、平坦な底部を備えることを必須とし、また、第１内部エッジは、ウェルの平坦な底部表面に接するように置かれた円環（ring）により構成される。
第１内部エッジを構成する当該リングは、典型例としては内径が１ｍｍ〜３５ｍｍであり、好ましくは３ｍｍ〜２０ｍｍであって、さらに好適であるのは５．４ｍｍ〜９．５ｍｍである。
また、第１内部エッジを構成するリングは、高さが０．１ｍｍ〜０．８ｍｍであり、好ましくは０．１５ｍｍ〜０．６ｍｍ、さらに好ましくは０．２ｍｍ〜０．３ｍｍである。
代表的な構成では、円環（ring）により構成される第２内部エッジは、内径が１．５ｍｍ〜３５ｍｍであり、好ましくは３ｍｍ〜２０ｍｍ、さらに好ましくは５．８ｍｍ〜９．９ｍｍである。

代表的な構成では、ウェルは、少なくとも一部分が円筒型であることを必須とし、ウェルは、上部開口部から第２内部エッジまで延伸する「上側シリンダ」を備える。
また、底部区画は、第２内部エッジからウェルの底部まで延伸している。
さらに、上側シリンダ、および／または、底部区画は、少なくとも一部分が、湾曲（round）した断面をもつ円筒型であることを必須とする。
このような構造は、製造が容易になるという利点と、良好な機能を提供するという利点がある。
上側シリンダ、および／または、底部区画は、代表例として円形中空シリンダが挙げられる。典型例としては、上側シリンダの場合、１つ又は複数のシリンダ部品のどちらでもよい。
代表的な構成においては、上側シリンダの高さは、２．５ｍｍ〜３５ｍｍであり、好ましくは４〜２５ｍｍであり、さらには６．３５ｍｍ〜１５．６ｍｍが好適である。
代表的な構成においては、底部区画の高さは、１．０ｍｍ〜８．０ｍｍであり、好ましくは２〜６ｍｍであり、さらには３．０ｍｍ〜４．０ｍｍが好適である。

代表的な構成においては、底部区画の内径（internal diameter）が、上側シリンダの内径よりも小さくなっている

代表的な構成としては、ウェルは第１中空シリンダを備え、この第１中空シリンダは、第１上縁部（rim）を有する。
第１上縁部（rim）の少なくとも一部分は、第１内部エッジを構成する。
第１中空シリンダは、ウェルの底部から、上部開口部にむかって延伸する。
また、第１中空シリンダは、底部区画のなかに同心状に配置されており、第１中空シリンダの外径および底部区画の内径は、ほぼ同一である。
このようにすることで、構成が簡単になるという利点がある。
しかしながら、その他の実施形態もまた可能であり、たとえば、第１内部エッジを、薄い層の集合体により構成することも可能である。

代表的な構成としては、ウェルは第２中空シリンダを備え、この第２中空シリンダは、第２上縁部（rim）を有する。
第２上縁部（rim）の少なくとも一部分は、第２内部エッジを構成する。
典型的な実施形態では、第１上縁部（rim）は、外部リム区域と内部リム区域を備えている。
第１内部エッジは、内部リム区域により構成される。
第２中空シリンダは、第１中空シリンダの上方（とりわけ、第１中空シリンダの外部リム区域の上部）に配置されている。
第１中空シリンダと第２中空シリンダは、同軸となっている。
このような構成には、製造が簡単かつ容易であるという利点がある。
しかしながら、そのほかの構成も採りうる。たとえば、第２内部エッジを、薄い層の集合体により構成することも可能である。
好ましい構成としては、第１中空シリンダの壁の肉厚は、第２中空シリンダの壁の肉厚よりも大きい。
とりわけ、第２中空シリンダの壁の厚みは約０．４ｍｍであり、第１中空シリンダの壁の厚みは０．５ｍｍ〜０．７ｍｍである。
本願発明者は、このようなサイズ（dimensions）が、細胞物質が成長するのに十分な空間を確保しつつ、表面屈曲の形成を回避できる利点があることを発見した。

代表的な構成においては、上側シリンダと底部区画と第１内部エッジとが、１つの同一の被工作材（workpiece）に形成される（mold）。
さらに、第２内部エッジも、上述した同一の被工作材（workpiece）中に形成される。
当該の被工作材（workpiece）は、可塑性材料からなり、および／または、被工作材の肉厚（wall thickness）がウェル全体にわたって一定であることを必須とする。
本願においては、「一定であることを必須とする」とは「最大で、＋／−２５％まで逸脱することを許容する」ことを指す。
また、被工作材（少なくとも、その部品）は、型入れ成形する代わりに３次元プリントにより作製してもよく、３次元プリントと型入れ成形を組合せて被工作材（少なくとも、その部品）を作製してもよい。

代表的な構成としては、ウェルはピペット用くぼみを備え、ピペット用くぼみは、円形断面を有する円筒型であることを必須とする。
ピペット用くぼみの垂直軸と、上側シリンダの垂直軸（底部区画の垂直軸を兼ねることが望ましい）とは平行をなしている。
また、ピペット用くぼみの垂直軸ならびに上側シリンダの垂直軸の間隔は、上側シリンダの内部半径およびピペット用くぼみの内部半径の合計よりも小さくなっている。
これにより、上側シリンダおよびピペット用くぼみが、ウェルの深さ方向に沿って、わずかであっても重なり合っており、ピペット用くぼみと上側シリンダの間が開通している
このようなピペット用くぼみは、ウェルの中の細胞媒体をいっぱいになるまで満たすことができるとともに、当該いっぱいに満たされた細胞媒体が、ウェルの底部区画にすでに入れられている細胞コロニーに影響を与えないように制限できるという利点がある。
代表的な構成としては、上側シリンダとピペット用くぼみは、ともに、一部分が中空シリンダとなっている。
「一部分が中空シリンダである」とは、円形断面が完全ではなく、円の断片に相当する断面をもつ中空シリンダのことをいう。
他の構成としては、ピペット用くぼみは、一部分が円筒形をなしておらず、部分的に、円筒以外の他の形状（たとえば、底部にむかって延伸する円錐形の先端を有する円錐型、もしくは長方形）をしている。

代表的な構成では、ピペット用くぼみの高さは、上側シリンダの高さと、底部区画の高さの合計に等しくなっている。
また、ウェルは、ピペット用くぼみと底部区画の間に設けられた「障害壁」を備えている。この障害壁の高さは、底部区画の高さとほぼ同一である。

代表的な構成においては、この障害壁は、第１内部エッジと第２内部エッジを組合せることで形成される。
第１内部エッジと第２内部エッジは、底部区画の垂直軸（上側シリンダの垂直軸と一致する）の周囲を囲む円環（ring）である。
これにより、障害壁の製造方法が簡易になるという利点がある。

代表的な構成においては、ピペット用くぼみの直径は２ｍｍ〜６ｍｍであり、好ましくは３ｍｍ〜６ｍｍであり、さらに好ましくは４ｍｍ〜６ｍｍである。
代表的な構成において、上側シリンダの直径は２．５ｍｍ〜３５ｍｍであり、好ましくは４ｍｍ〜２５ｍｍであり、さらに好ましくは６．３５ｍｍ〜１５．６ｍｍである。
代表的な構成において、ウェルの深さは６．５ｍｍ〜３０ｍｍであり、好ましくは８ｍｍ〜２５ｍｍであり、さらに好ましくは１０．６７ｍｍ〜１７．４ｍｍである。

本発明に従った複数ウェルプレートは、本発明のいずれかの実施形態に従ったウェルを、多数具備してなる。

好適な構成においては、この複数ウェルプレートは、本体を備えている。
同本体には、生体材料の培養用ウェル、および／または、すべての中空シリンダ、および／または、すべての内部エッジ、および／または、すべてのピペット用、が形成されている。
本体の肉厚は、当該本体の全体にわたって一定であることを必須とする。
本願において「一定であることを必須とする」とは、「最大で、＋／−２５％まで逸脱することを許容する」ことを指す。
複数ウェルプレートを形成するには、他の製造方法を用いることも可能である。たとえば、複数ウェルプレートを型入れしたのち、くぼみのない可塑性材料のプレートのなかに３次元プリントを用いて、可塑性材料のプレートを変形させることも考えられる。

本発明の実施形態に従った複数ウェルプレートの製造方法であって、
本発明のいずれかの実施形態に従ったウェルを多数具備してなる本体を、射出成形により形成する工程と、
各ウェルの底部区画のなかにヒドロゲル粒滴を注入する工程と、
それぞれのヒドロゲル粒滴のなかに微細ウェル構造を押付ける（stamp）工程と、
を備える。

本発明は、以下に記載の図により、詳細に表される。
従来技術の欠点を示す模式図である。 従来技術の他の欠点を示す模式図である。 従来技術の他の欠点を示す模式図である。 従来技術の他の欠点を示す模式図である。 本発明に従ったウェルの第１実施形態の模式図（断面図）である。 本発明に従ったウェルの他の実施形態の模式図（断面図）である。 本発明に従ったウェルの他の実施形態の模式図（断面図）である。 本発明に従ったウェルの他の実施形態の模式図（断面図）である。 本発明に従ったウェルの他の実施形態の模式図（断面図）である。 本発明に従ったウェルの、実現可能なある使用形態の模式図（断面図）である。 本発明に従った複数ウェルプレートの模式図（平面図）である。 図１１の複数ウェルプレートの拡大図であって、切断線を示したものである。 図１２に示した切断線Ａ−Ａ’に従って模式図である。 図１２に示した切断線Ｂ−Ｂ’に従って模式図である。 図１２に示した複数ウェルプレートを通過する、他の部分断面図である。 本発明の他の実施形態に従った複数ウェルプレートを通過する、部分断面図である。 本発明に従った複数ウェルプレートの模式図（１つのウェルを拡大した断面図）である。 本発明に従ったウェルの他の実施形態の模式図（断面図）である。 本発明に従ったウェルのその他の実施形態の模式図（断面図）である。 ウェル・上側シリンダ・底部区画・ピペット用くぼみの垂直軸方向における模式図（断面図）である。

図１は、従来技術の欠点を図解したものであり、時刻ｔ１、ｔ２、ｔ３の３つの異なる瞬間におけるウェルＷを表している。
ウェルＷは、垂直な側壁３と平坦な底部１を備えている。
同ウェルＷは、円形断面を有する円筒型の穴を有している。
この円形断面は、図１においては認識できない。なぜなら、当該の図は、ウェルＷの垂直方向の断面図だからである。
時刻ｔ１において、ヒドロゲル粒滴２は、底部１の上に置かれている。
このヒドロゲル粒滴は、底部１の中心に留まり続けることはなく、ゆっくりと垂直側壁３にむかって移動していく。
時刻ｔ２において、ヒドロゲル粒滴は、さらに扁平になり、垂直側壁３にほぼ到達しそうになる。
時刻ｔ３では、ヒドロゲル粒滴は垂直側壁３まで達し、表面屈曲（meniscus）４を形成する。
表面屈曲４の形成は、ヒドロゲル粒滴がウェルＷの中心部分に置かれたとき（ヒドロゲル粒滴２の広がった面積が、ウェルＷ底部の面積よりも大きいとき）にも起こりうる。

図２は、従来技術における他の欠点を図解したものであり、似たような効果がある。
ヒドロゲル粒滴２は、ウェルＷ（図１に示したものに相当する）のなかに入れられるものの、図２におけるヒドロゲル粒滴２の広がった面積は、ウェルＷ底部の面積よりも大きくなっている。
そのため、表面屈曲４は、ウェルＷの側壁３の全周にわたって形成されている。

上記説明したように、ヒドロゲル粒滴２が培養された細胞を含んでいる場合、表面屈曲４が形成されると、ヒドロゲル粒滴２中における細胞の分布が不均質になり、ヒドロゲルの解析（たとえば、顕微鏡による検査）が困難になってしまう。

図３は、従来技術におけるその他の欠点を図解したものである。
図３に示したウェルＷは、図１や図２に示したウェルに相当するものである。
図３中のウェルＷは、２つの異なる時刻（代表的なものとして、ｔ１とｔ２）における状態を示している。
ウェルＷは、すでに凹型の表面屈曲４を形成しているヒドロゲル液滴２を備えている（時刻ｔ１参照）。
図３におけるヒドロゲルは、スタンプ５を用いることにより、ヒドロゲル中に形成される微細ウェル構造に対して、材料として提供されることが目的である。
時刻ｔ１において、スタンプ５は、表面屈曲４を形成しているヒドロゲル粒滴２の表面上にむけて、位置を下げられていく。
時刻ｔ２において、型入れ（molding）工程はすでに完了しており、スタンプ５は、上に向けて持上げられている。
いびつな微細ウェル構造６．１は、型入れ工程が原因であるものと考えられる。
その理由は、型入れする前には、ヒドロゲル粒滴２は、凹型の表面屈曲を形成しており、上記スタンプの下側に空気が捕捉されるためである。

図４は、従来技術のその他の欠点を図解したものである。
図４に示したウェルＷについても、先述した図に示したウェルに相当している。
また、図４においても、２つの異なる時刻（代表的なものとして、ｔ１とｔ２）におけるウェルＷを示している。
当該ウェルは、微細ウェル構造６（図３に示したいびつな微細ウェル構造６．１とは異なり、適切かつ均質に形成されたもの）を具備している。
微細ウェル構造６は、複数の微細ウェル８を備える。
各微細ウェル８は、それぞれ別個の細胞コロニーを培養することを目的としている。
ウェルＷの一部は、培養媒体７（培養液中に、多数の細胞９を含んでいる）で満たされる。
時刻ｔ１において、培養媒体７は、ウェルＷを満たされたばかりである。
細胞９は培養媒体７の周辺を浮遊し、培養媒体７は、ウェルＷの垂直側壁の全周にわたって、凹型の表面屈曲を形成している。
時刻ｔ２において、ある程度の時間が経過すると、細胞はウェルの底部へと（別々の微細ウェル８の中に）沈殿する。
しかしながら、培養媒体が凹型の表面屈曲４を形成することで、微細ウェル８の中へむかう細胞９よりも多くの細胞９が、微細ウェル８の外部にむかって沈殿する。
そのため、個々の細胞コロニーのサイズが不揃いとなり、微細ウェルの外部にある細胞コロニーは、肥大化しすぎた細胞コロニー１０．１となり、また、微細ウェルの内側にある細胞コロニーは、過小すぎる細胞コロニー１０．２となる。

図１〜４は、生体材料の培養用ウェルにおいては、ある種の表面屈曲を形成することが不利益をもたらすことを明示している。

図５は、本発明に従ったウェルＷの第１実施形態の模式図であり、図１〜４に示した従来技術のウェルＷに相当するウェルＷの垂直方向の切断面を示している。
図５中の当該ウェルＷは、垂直な側壁３をもつ、管状の円筒型の穴を有している（ウェルＷは、円形断面を有しているが、図は、ウェルＷの垂直方向の断面を示すものであるため、同図５からは当該事項を認識できない）。
図１〜４に示した従来技術のウェルＷとは異なり、図５におけるウェルＷは、第１内部エッジ１１を備えている。
当該第１内部エッジ１１は、長方形断面を有する環（ring）である。
第１内部エッジ１１は、ウェルＷの底部１に設けられており、さらには垂直側壁３に取付けられている。
このように、第１内部エッジ１１は、ウェルＷの底部１に周囲を取巻くように置かれており、ウェルＷの底部において扁平な穴を形づくる。
図５は、ウェルＷの第１内部エッジ１１は、ウェルＷの底部に注入されたヒドロゲル粒滴２が、同ウェルＷの垂直側壁３において表面屈曲を形成することを防止する。
第１内部エッジ１１は、むしろ、凹型の表面屈曲に代えて、凸型の表面屈曲をヒドロゲル粒滴２に形成させるよう作用する。
さらに、図５に示したウェルＷは、培養媒体７で満たされる。
この図（および、以降の図）に示した各点は、必ずしも、細胞に対応したものではない。
点々のパターンは、むしろ、培養媒体７を表すものであり、また実際には培養液に対応している。
培養媒体７は、ウェルＷの垂直側壁３において、表面屈曲を形成する。

図６は、本発明に従ったウェルＷの他の実施形態の模式図であって、これについても垂直方向の切断面を示している。
当該ウェルＷは、図５に示したウェルＷに相当するものであり、図６中のウェルのただ１つの相違点は、第１内部エッジ１１に加えて、第２内部エッジ１２を有していることである。
図６中の第２内部エッジ１２も、また、長方形断面を有する環（ring）である（上記の図５に記載した第１内部エッジ１１と同様である）。
しかしながら、当該第２内部エッジ１２は、第１内部エッジ１１よりも大きな内径（internal diameter）を有しており、また第１内部エッジ１１よりも高さがある（「高さがある」とは、図６中の垂直方向のことを指す）。
第２内部エッジ１２は、第１内部エッジ１１の上部に配置される（すなわち、環形状を有する第１内部エッジ１１の面のうち、当該第１内部エッジ１１がウェル底部と接触している方とは反対側の面上に配置される）。
このような２つのエッジの組合せは、ウェルＷに対して、以下のような利点をもたらす。
ヒドロゲル粒滴２が、ウェルの垂直側壁３において凹型の表面屈曲を形成することを防止するだけでなく、培養媒体７が、このような表面屈曲を形成してしまうことをも防止できる。
このことから導かれる利点は、たとえば、顕微鏡によって撮影される画質が向上したり、培養媒体の量もしくはドーム状のヒドロゲル全体を覆うために必要な染色液の量が少なくて済む。

さらに、図６は、ウェルＷの２つの異なる箇所である上側シリンダ１３および底部区画１４を示している。
これら上側シリンダ１３と底部区画１４は、ともに同一の垂直軸を共有している。
底部区画１４は、ウェルの底部から、第２内部エッジ終端の高さまで、垂直方向に延伸している。
底部区画１４の高さは、ｈ．１４である。
上側シリンダ１３は、第２内部エッジ１２から、ウェルの上部開口部１８まで、上方にむかって延伸している。
上側シリンダ１３の高さは、ｈ．１３である。

図７は、本発明に従ったウェルＷの他の実施形態の模式図であって、これについても垂直方向の切断面を示している。
ウェルＷは、図６に示したウェルＷに対応しており、図７中のウェルのただ１つの相違点は、ヒドロゲル粒滴のなかに「微細ウェル構造６」が型入れ成形されていることである。
第１内部エッジ１１が存在することにより、微細ウェル構造は完全に均質となり、いびつなものにはならない。
第２内部エッジ１２が存在することにより、培養媒体７による、ウェルの垂直側壁３における表面屈曲が形成されなくなる。
さらに、培養媒体は、ドーム（たとえば、図６におけるヒドロゲル粒滴２のようなもの）を形成しなくなる。
これにより、単純に、ウェルに注入された培養媒体７が正味の体積となる。

図８は、本発明に従ったウェルＷの他の実施形態の模式図であって、これについても垂直方向の切断面を示している。
ウェルＷは、図６に示したウェルＷに対応しており、図８中のウェルのただ１つの相違点は、「ピペット用くぼみ１５」を備えていることと、ピペット１６によって培養媒体７がいっぱいに満たされていることである。
ピペット用くぼみ１５それ自体は、丸い円筒形であることが必須であり、上側シリンダ１３と底部区画１４が共有する垂直軸に対向するように配置されている。
換言すれば、ピペット用くぼみ１５は、上側シリンダ１３および底部区画１４に対して平行をなす、引き伸ばされた穴である。
第１内部エッジ１１は、第２内部エッジ１２とともに、ピペット用くぼみ１５（特に、ピペット用くぼみ１５の底部分）をウェルの底部区画１４から隔離する障害壁１７を構成する。
しかしながら、上側シリンダ１３とピペット用くぼみ１５の間は、障害壁１７で隔てられてはいない。
上側シリンダ１３は、ピペット用くぼみ１５と重なり合ってはいるものの、底部区画１４は、ピペット用くぼみ１５と重なり合っていない。
このように配置した場合、ウェルの培養媒体７は、ピペット用くぼみ１５に挿入されたピペット１６によりいっぱいに満たされ、そして、（図７に示したように）ピペット用くぼみ１５の底部分へと追加分の培養媒体７が注入される。
このようすることで、底部区画１４中に培養媒体７がすでに存在していても（図６参照）、底部区画１４における乱れを抑制しつつ、培養媒体７の初期量を容易にいっぱいまで満たすことができる。
追加分の培養媒体７は、底部区画１４へと直接落とすのではなく、まずピペット用くぼみ１５の底部分のなかで増えていき、最終的には、障害壁１７からこぼれたのち、所望の高さになるまで上側シリンダ内で増えていく。
このように、底部区画１４に存在する培養媒体７への影響が、最小化される。

図９は、本発明に従ったウェルＷの他の実施形態の模式図であって、これについても垂直方向の切断面を示している。
ウェルＷは、図８に示したウェルＷに対応しており、図９中のウェルのただ１つの相違点は、ヒドロゲル粒滴のなかに「微細ウェル構造６」が型入れ成形されていることである。
すなわち、図９に示した構成は、図７に示した構成に対応はしているが、さらにピペット用くぼみ１５を備えている。
２つの環状の内部エッジによって形成される障害壁１７は、ピペット用くぼみ１５をウェルの底部区画１４から隔離するものの、上側シリンダ１３とピペット用くぼみ１５の間は遮られていない。

図１０は、本発明の実現可能な、ある使用形態の模式図である。
これについても、本発明の１つの実施形態に従ったウェルＷの垂直方向の切断面を示している。
図１０に示したウェルＷは、図９に示したウェルＷに対応しており、微細ウェル構造とピペット用くぼみを具備している。
図１０中のウェルＷは、３つの異なる時刻ｔ１、ｔ２、ｔ３におけるものである。
時刻ｔ１においては、底部区画１４だけが培養媒体７で満たされている。
時刻ｔ１は、細胞を含んでいる培養媒体７が底部区画１４に注入された直後のものである。培養媒体７中に浮遊する細胞７は、小さな点により表されている。
時刻ｔ２においては、細胞９は、個々の微細ウェル８中へと沈殿し、通常サイズの細胞コロニー１０を形成する。
特に、細胞媒体７がウェルＷの側壁３において凹型の表面屈曲を形成しないことから、（図４に示した従来技術とは反対に）肥大化しすぎた細胞コロニーも、過小すぎる細胞コロニーも発生しない。
時刻ｔ３においては、先に説明したように、培養媒体７は、ピペット用くぼみ１５を通じて、ピペット先端１６を用いていっぱいに満たされる。
ピペット用くぼみ１５の底部分とウェルＷの底部区画１４を隔てる障害壁１７があることで、培養媒体７を満たしても底部区画１４に強い悪影響を与えず、さらに、細胞コロニー１０も著しくは撹乱されない。
これにより、ウェルＷの中に（上側シリンダ１３とピペット用くぼみ１５の底部分だけでなく、底部区画１４にも）、十分な量の培養媒体７が存在する。

図１１は、本発明に従った複数ウェルプレートＰの模式図（平面図）である。
当該の複数ウェルプレートＰは、８行１２列に配置された９６個のウェルＷを備えている。
さらに、図１０においては、各ウェルＷは、特異なピペット用くぼみ１５をそれぞれ備えている。
ピペット用くぼみ１５は、図１１の水平方向に対して、４５°傾けて配置されている。
すなわち複数ウェルプレートＰを水平に保っている場合（８行１２列において、各列の１２個のウェルＷが水平に並んでいる場合）、それぞれのピペット用くぼみ１５は、その行がピペット用くぼみ１５の垂直軸と交差するように配置されるとともに、ウェルＷの垂直軸と交差するように配置されている。
ここで、ピペット用くぼみ１５は、複数ウェルプレートＰの水平方向に対して、４５°の角度をなしている。
このように配置することで、複数ウェルプレートＰにおけるスペースが最適化される。
そのほかの実現可能な角度としては、１３５°、２２５°もしくは３１５°が挙げられる。

図１２は、図１１の複数ウェルプレートの拡大図であり、切断線を示したものである。
とりわけ、図１２は、ピペット用くぼみを通らずに、３つのウェルＷの中心を通る切断線Ａ−Ａ’を示している。
また、切断線Ｂ−Ｂ’は、３つのウェルＷの中心を通るとともに、ピペット用くぼみ１５の中心を通っている。
また、図１２は、障害壁１７が、各ウェルの底部区画１４と、ピペット用くぼみ１５とを隔離することを明確に示している。

図１３は、図１２に示した切断線Ａ−Ａ’に従った断面図を表している。
３つのウェルＷのうち、真ん中のウェルＷのみ、全体像を示してある。
右側のウェルＷと左側のウェルＷは、一部分しか記載していない。
真ん中のウェルＷは、（すべてのウェルＷのように）第１内部エッジ１１と第２内部エッジ１２のみならず、上部開口部１８を備えている。
内部エッジ１１・１２は、両方とも環状型をしており、共通の垂直軸を有している。
当該の内部エッジ１１・１２は、底部区画１４のなかに設けられている。
底部区画１４は、ウェルＷの底部から、第２内部エッジ１２の上端まで、上方にむかって延伸している。
図１３において、上側シリンダ１３は、第２内部エッジ１２の上端から、上方へと、上部開口部１８にむかって延伸している。
環状の第２内部エッジ１２の内壁だけでなく、上側シリンダ１３の側壁も、完全に垂直ではなく、数度（a few degrees）だけ傾斜している。
第２内部エッジ１２の内壁および上側シリンダ１３の側壁は、垂直もしくは、ほぼ垂直であることを必須とする。
さらには、上側シリンダ１３だけでなく底部区画１４も中空円筒型であることを必須とする。
たとえ、それらのうち、いくつかの側壁がわずかに傾斜していても、上側シリンダ１３と底部区画１４が中空円筒型であることは必須である。
また、たとえ、環状の内部エッジ１１・１２が、ウェルのこれら内部エッジ１１・１２の部分で変形していたとしても、上側シリンダ１３と底部区画１４が中空円筒型であることは必須である。

図１４は、図１２に示した切断線Ｂ−Ｂ’に従った断面図である。
切断線Ｂ−Ｂ’上の複数ウェルプレートＰの断面図は、必ずしも、図１３における切断線Ａ−Ａ’に基づく複数ウェルプレートＰと同じではない。
図１４においても、また、図１３において示した多くの特徴が看取される。
たとえば、３つのウェルＷのうち、真ん中のウェルＷのみについて全体像を示している。
右側のウェルＷと左側のウェルＷについては、一部分のみを記載している。
真ん中のウェルＷは、（すべてのウェルＷのように）第１内部エッジ１１と第２内部エッジ１２のみならず、上部開口部１８を備えている。
内部エッジ１１・１２は、両方とも環状型であり、共通の垂直軸を有する。
さらに、ピペット用くぼみ１５は、図１５においても理解されるものである。
ピペット用くぼみ１５の高さは、ｈ．１５であり、ウェルの端から端までの全部の深さ（すなわち、ウェルの平坦な底部１から、上部開口部１８までの距離）に相当する。
さらに、図１４には、内部エッジ１１・１２により構成される障害壁１７も示してある。

図１５は、図１２に示した複数ウェルプレートＰを通過する、他の部分断面図であり、ＣＡＤにより描画したものである。
図１５は、上側シリンダ１３・底部区画１４・ピペット用くぼみ１５を備えたウェルを示している。
図１５によれば、明らかに、障害壁１７は、ピペット用くぼみ１５（特に、ピペット用くぼみ１５の底部分）を、底部区画１４から隔離している。
しかしながら、上側シリンダ１３とピペット用くぼみ１５（特に、ピペット用くぼみ１５の上側部分）の間には障害壁は存在していない。
また、図１５より、両内部エッジ１１・１２が、ウェルの底部区画１４の内壁を取囲む円周状の環であることが理解できる。
第２内部エッジ１２は、第１内部エッジの上部に設けられており、当該のエッジ１１・１２は障害壁１７を構成する。

図１６は、本発明の他の実施形態に従った複数ウェルプレートＰを通過する、部分断面図である。
この実施例においても、ウェルＷは、第１内部エッジ１１と第２内部エッジ１２を備えている。
図１６中の内部エッジ１１・１２は、上述した図に示した内部エッジ１１・１２に相当する。
容易に理解できるように、たとえ、上述した図に示した内部エッジ１１・１２および図１６の内部エッジ１１・１２のサイズが異なっていたとしてもである。
このことは、内部エッジ１１・１２のサイズが異なっていても、本発明を実施できることを示している。

図１７は、本発明に従った複数ウェルプレートＰの模式図であって、複数ウェルプレートＰにおける１つのウェルＷの垂直断面の拡大図Ｚ（zoom-in Z）である。
１２個の独立したウェルＷを、複数ウェルプレートＰの全体的な深さに沿って切断したものが示してある。
図１７におけるウェルＷは、図７に示したウェルに相当する。

図１８は、本発明に従ったウェルＷの他の実施形態の模式図（断面図）である。
図１８（ａ）において、図１０に既述したウェルに従ったウェルを示している。
図１８（ａ）のウェルＷは、原理上、図１８（ａ）に示したウェルＷに相当するものである。
しかし、図１８（ｂ）に示すウェルＷの第１内部エッジ（１１）および第２内部エッジ（１２）は、ウェルＷの壁に取付けられておらず、ウェルＷの底部に取付けられて独立して立っている。
図１８（ｃ）には、ウェルＷの他の構成例を示している。
第１内部エッジ（１１）と第２内部エッジ（１２）に加えて、ウェルＷは、補助的な第１内部エッジ（１１．２）および補助的な第２内部エッジ（１２．２）を備えている。
これらの内部エッジ（１１、１１．２、１２、１２．２）はいずれもウェルＷの底部に取付けられた環であるものの、図１８（ｃ）に描かれているのは、ウェルの垂直側壁に沿った円周状のものではない。
これらの環は、一部分が独立して立っているものである。なぜなら、これらの環は、その一部分だけが、ウェルＷの側壁に取付けられているからである。
図１８（ｃ）より、十分大きな直径を有するウェルＷは、原理上、多数の第１内部エッジと、多数の第２内部エッジを備えることが可能であることが明らかである。

図１９は、本発明に従ったウェルＷの他の実施形態の模式図であり、垂直軸を通る垂直断面図である。
原理上、ウェルＷは、図１８（Ｃ）に描いたウェルに相当しているが、図１９のウェルＷのピペット用くぼみ１５は、円錐形である。
当該円錐形のピペット用くぼみ１５は、ウェルＷの底部にむかっていくに従って、段々と細くなっている。

図２０は、ウェル・上側シリンダ・底部区画・ピペット用くぼみの垂直軸方向における模式図（断面図）である。
図２０（ａ）は、円筒形状のウェルＷを示している。
このウェルＷは、同ウェルＷの底部の中心ならびに同ウェルＷの上部開口部の中心を通る、垂直方向の縦軸Ｌ．１を有している。
図２０（ｂ）は、ピペット用くぼみ１５を備えるウェルＷを示している。
このウェルＷの上側シリンダ１３と底部区画１４は、ともに共通の縦軸Ｌ．２を有しているものの、この縦軸Ｌ．２は、必ずしもウェルＷの縦軸というわけではない。
なぜなら、ウェルＷは、ピペット用くぼみ１５が存在することにより、単純な円形の水平断面ではなく、入組んだ水平断面を有しているからである。
このような入組んだ形状のピペット用くぼみ１５を具備するウェルＷは、図１１・図１２に示した平面図において看取される。
図２０（ｃ）・図２０（ｄ）のウェルＷは、図２０（ｂ）のウェルＷに相当する。
しかし、図２０（ｃ）は、ピペット用くぼみ１５の縦軸Ｌ．３を示している。
ピペット用くぼみ１５の底部分に着目すると、縦軸Ｌ．３は、ピペット用くぼみ１５の底部表面の中心を正確に通っていないことが分かる。
その理由としては、実際には、第１内部エッジ１１と第２内部エッジ１２は、ピペット用くぼみ１５の中に突出ているからである。
すなわち、ピペット用くぼみ１５は、ウェルＷの残りの部分と重なり合っており、その逆もまた同様である。
図２０（ｄ）において、上側シリンダ１３と底部区画１４に共通する縦軸Ｌ．２と垂直軸Ｌ．３の両者の目的も、さらに解明される。
縦軸Ｌ．２とＬ．３のあいだの間隔は、ピペット用くぼみ１５の半径に、上側シリンダ１３の半径および／または底部区画１４の外部半径を加えた合計よりも小さいからである。

本願発明は、ここに記載された好適な実施形態のみに限定されるものではない。
その保護範囲は、請求項によって、画定されるものである。

さらに、以下の請求項は、「発明を実施するための形態」に組入れられるべきものである。
各請求項は、それぞれが別々の実施形態を表すものである。
各請求項は、それぞれ別々の実施形態を表す一方、（従属項は、１つ以上の他の請求項との特定の組合せを指すものではあるが）、他の実施形態としては、従属項を、他の従属項または独立項の趣旨と組合わせることも含まれることに留意する。
このような組合せは、ある特定の組合せを意図したものではないことに言及されていない限り、推奨されるものである。
さらに、たとえ、この請求項が直接的には独立項に従属するものではなかったとしても、任意の独立項に対して、請求項の特徴が包含されることを意図している。

一般に、明細書と特許請求の範囲を通じて、「好ましくは（preferably）」、「好まれる（preferred）」などの用語は、好適な特徴に関係しているものと解釈されるものの、必ずしも固定的に解釈する必要はない。
同様に、「代表的に（typically）」、「代表的な（typical）」などの用語は、好適な特徴、および／または、有利な特徴、および／または、代表的な特徴、に関係しているものと解釈されるものの、必ずしも固定的に解釈する必要はない。

さらに、明細書や特許請求の範囲に開示した方法は、これらの各方法を行うための手段を持つ装置によって実行される。

１ （ウェルの）平底部
２ ヒドロゲル粒滴（一般的には、凸型（convex）の表面屈曲（meniscus）を形成する）
３ （ウェルの）垂直側壁
４ 凹型（concave）の表面屈曲
５ スタンプ
６ 微細ウェル構造
６．１ いびつな微細ウェル構造
７ 培養媒体
８ 微細ウェル
９ 細胞
１０ 細胞コロニー（通常サイズ）
１０．１ 細胞コロニー（大きすぎるもの）
１０．２ 細胞コロニー（小さすぎるもの）
１１ 第１内部エッジ
１２ 第２内部エッジ
１３ 上側シリンダ
１４ 底部区画
１５ ピペット用くぼみ
１６ ピペット先端
１７ 障害壁
１８ （ウェルの）上部開口部

Ｗ ウェル
Ｐ 複数ウェルプレート
Ｚ 拡大図
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３ 垂直軸
ｈ．１３ 上側シリンダの高さ
ｈ．１４ 底部区画の高さ
ｈ．１５ ピペット用くぼみの高さ
ｔ１、ｔ２、ｔ３ 時刻（常時、同一である必要はない）
Ａ−Ａ’ 複数ウェルプレートの垂直断面（ピペット用くぼみを通過するものではない）
Ｂ−Ｂ’ 複数ウェルプレートの垂直断面（ピペット用くぼみを通過するものである）

Claims (15)

1. 生体材料の培養用ウェル（Ｗ）であって、
   当該ウェル（Ｗ）は、
   上部開口部（１８）と、
   底部区画（１４）と、
   を備え、
   
   底部区画（１４）には、
   第１内部エッジ（１１）が設けられている
   ことを特徴とする、生体材料の培養用ウェル。
   
2. 請求項１に記載の生体材料の培養用ウェル（Ｗ）であって、
   当該ウェル（Ｗ）は、
   底部区画（１４）において、ヒドロゲル粒滴（２）を受けるように構成されており、
   
   第１内部エッジ（１１）は、
   ウェル（Ｗ）の底部区画（１４）のなかに、十分な量のヒドロゲル粒滴（２）が満たされると、
   当該ヒドロゲルをドーム状表面に成長させる
   ことを特徴とする、生体材料の培養用ウェル。
   
3. 請求項１又は２に記載の生体材料の培養用ウェル（Ｗ）であって、
   当該ウェル（Ｗ）は、
   微細ウェル構造（６）、を備え、
   
   微細ウェル構造（６）は、
   多数の微細ウェル（８）、を有するとともに、
   
   同微細ウェル構造（６）は、
   ウェル（Ｗ）の底部区画（１４）のなかにあるヒドロゲル中に形成されている
   ことを特徴とする、生体材料の培養用ウェル。
   
4. 請求項１乃至３のいずれか１項に記載の生体材料の培養用ウェル（Ｗ）であって、
   当該ウェル（Ｗ）は、
   第２内部エッジ（１２）、を備え、
   
   前記第１内部エッジ（１１）および／または第２内部エッジ（１２）は、
   最低限その一部分が円周状をなしていることを必須とするか、および／または、最低限その一部分が環状をなしていることを必須とする
   ことを特徴とする、生体材料の培養用ウェル。
   
5. 請求項４に記載の生体材料の培養用ウェル（Ｗ）であって、
   第１内部エッジ（１１）は、
   ウェル（Ｗ）の底部（１）と、第２内部エッジ（１２）の間に設けられている
   ことを特徴とする、生体材料の培養用ウェル。
   
6. 請求項１乃至５のいずれか１項に記載の生体材料の培養用ウェル（Ｗ）であって、
   ウェル（Ｗ）は、少なくとも一部分が円筒型であり、
   
   ウェル（Ｗ）は、
   上部開口部（１８）から第２内部エッジ（１２）まで延伸する上側シリンダ（１３）、
   を備え、
   
   底部区画（１４）は、
   第２内部エッジ（１２）からウェル（Ｗ）の底部（１）まで延伸し、
   
   上側シリンダ（１３）および／または底部区画（１４）は、
   少なくとも一部分が、湾曲（round）した断面をもつ円筒型であることを必須とする
   ことを特徴とする、生体材料の培養用ウェル。
   
7. 請求項６に記載の生体材料の培養用ウェル（Ｗ）であって、
   底部区画（１４）の内径（internal diameter）が、上側シリンダ（１３）の内径よりも小さくなっている
   ことを特徴とする、生体材料の培養用ウェル。
   
8. 請求項１乃至７のいずれか１項に記載の生体材料の培養用ウェル（Ｗ）であって、
   ウェル（Ｗ）は、
   第１中空シリンダ、を備え、
   
   同第１中空シリンダは、
   第１上縁部（rim）、を有し、
   
   第１上縁部（rim）の少なくとも一部分は、第１内部エッジ（１１）を構成し、
   
   前記第１中空シリンダは、
   ウェル（Ｗ）の底部（１）から、上部開口部（１８）に向かって延伸するとともに、
   
   同第１中空シリンダは、
   底部区画（１４）のなかに同心状に配置され、
   当該第１中空シリンダの外径は、底部区画（１４）の内径とほぼ同一である
   ことを特徴とする、生体材料の培養用ウェル。
   
9. 請求項８に記載の生体材料の培養用ウェル（Ｗ）であって、
   当該ウェル（Ｗ）は、
   第２中空シリンダ、を備え、
   
   同第２中空シリンダは、
   第２上縁部（rim）、を有し、
   
   第２上縁部（rim）の少なくとも一部分は、第２内部エッジ（１２）を構成する
   ことを特徴とする、生体材料の培養用ウェル。
10. 請求項６乃至９のいずれか１項に記載の生体材料の培養用ウェル（Ｗ）であって、
    
    上側シリンダと底部区画と第１内部エッジ（１１）とが、１つの同一の被工作材（workpiece）に形成され（mold）、
    さらに、第２内部エッジ（１２）も、前記同一の被工作材（workpiece）中に形成されており、
    
    当該の被工作材（workpiece）は、可塑性材料からなり、
    および／または、
    被工作材の肉厚（wall thickness）は、ウェル全体にわたって一定である
    ことを特徴とする、生体材料の培養用ウェル。
    
11. 請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の生体材料の培養用ウェル（Ｗ）であって、
    当該ウェルは、
    ピペット用くぼみ（１５）、を備え、
    ピペット用くぼみ（１５）は、円形断面を有する円筒型であることを必須とし、
    
    ピペット用くぼみ（１５）の垂直軸（Ｌ３）と、上側シリンダ（１３）の垂直軸（Ｌ２）とは平行をなし、
    
    ピペット用くぼみ（１５）の垂直軸（Ｌ３）と、上側シリンダ（１３）の垂直軸（Ｌ２）の間隔（distance）が、
    上側シリンダ（１３）の内部半径およびピペット用くぼみ（１５）の内部半径の合計よりも小さくなっていることで、
    
    上側シリンダ（１３）とピペット用くぼみ（１５）とが、ウェル（Ｗ）の深さ方向に沿って、わずかであっても重なり合っており、
    ピペット用くぼみ（１５）と上側シリンダ（１３）の間が開通している
    ことを特徴とする、生体材料の培養用ウェル。
    
12. 請求項１１に記載の生体材料の培養用ウェル（Ｗ）であって、
    前記ピペット用くぼみ（１５）の高さは、
    上側シリンダ（１３）の高さと、底部区画（１４）の高さの合計に等しく、
    
    本ウェル（Ｗ）は、
    ピペット用くぼみ（１５）と底部区画（１４）の間に設けられた障害壁（１７）、
    を備え、
    
    障害壁（１７）の高さ（ｈ．１５）は、底部区画（１４）の高さ（ｈ．１４）とほぼ同一である
    ことを特徴とする、生体材料の培養用ウェル。
    
13. 複数ウェルプレート（Ｐ）であって、
    請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の生体材料の培養用ウェル（Ｗ）を、多数具備してなる
    ことを特徴とする、複数ウェルプレート。
    
14. 請求項１３に記載の複数ウェルプレート（Ｐ）であって、
    
    当該の複数ウェルプレート（Ｐ）は、
    本体、を備え、
    
    同本体には、
    生体材料の培養用ウェル（Ｗ）、
    および／または、すべての中空シリンダ、
    および／または、すべての内部エッジ（１１，１２）、
    および／または、すべてのピペット用くぼみ（１５）、が形成されており、
    
    本体の肉厚は、当該本体の全体にわたって一定である
    ことを特徴とする、複数ウェルプレート。
    
15. 請求項１３又１４に記載の複数ウェルプレート（Ｐ）の製造方法であって、
    
    請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の生体材料の培養用ウェル（Ｗ）を多数具備してなる本体を、射出成形により形成する工程と、
    
    各ウェル（Ｗ）の底部区画（１４）のなかにヒドロゲル粒滴（２）を注入する工程と、
    
    それぞれのヒドロゲル粒滴（２）のなかに微細ウェル構造（６）を押付ける（stamp）工程と、
    を備える
    ことを特徴とする、複数ウェルプレートの製造方法。

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