KR20010042625A - Method for coating surfaces of copper or of a copper alloy with a tin or tin alloy layer - Google Patents

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KR20010042625A
KR20010042625A KR1020007011306A KR20007011306A KR20010042625A KR 20010042625 A KR20010042625 A KR 20010042625A KR 1020007011306 A KR1020007011306 A KR 1020007011306A KR 20007011306 A KR20007011306 A KR 20007011306A KR 20010042625 A KR20010042625 A KR 20010042625A
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그레고루 후렝크, 디터 베크베르트
아토테크 도이칠란드 게엠베하
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Abstract

공지된 구리 표면의 주석화 방법으로는 충분히 우수한 접합 결과를 얻을 수 없다. 특히, 열처리 후에 표면은 접합 가능하지 않다. 이러한 문제를 해결하기 위해, 구리 또는 구리 합금의 표면을 주석 또는 주석 합금으로 제조한 층으로 피복하는 방법이 사용된다. 상기 방법은, a) 귀금속을 침적시키기 위해, 하나 이상의 귀금속 화합물을 함유하는 용액으로 표면을 처리하고; b) 단계 a) 에 따라 귀금속으로 피복된 표면을, 하나 이상의 주석 화합물, 하나 이상의 산, 및 티오우레아 및 그의 유도체로 구성된 군으로부터의 하나 이상의 구리용 착화제를 함유하는 용액으로 처리하여 주석 또는 주석 합금층을 형성하는 필수 단계를 포함한다.Known methods of tinning copper surfaces do not yield sufficiently good bonding results. In particular, the surface is not bondable after heat treatment. To solve this problem, a method of covering the surface of copper or copper alloy with a layer made of tin or tin alloy is used. The method comprises: a) treating the surface with a solution containing at least one precious metal compound to deposit the precious metal; b) tin or tin by treating the surface coated with the noble metal according to step a) with a solution containing at least one tin compound, at least one acid, and at least one complexing agent for copper from the group consisting of thiourea and derivatives thereof It is necessary to form an alloy layer.

Description

주석 또는 주석 합금층으로 구리 또는 구리 합금의 표면을 피복하는 방법 {METHOD FOR COATING SURFACES OF COPPER OR OF A COPPER ALLOY WITH A TIN OR TIN ALLOY LAYER}METHODS FOR COATING SURFACES OF COPPER OR OF A COPPER ALLOY WITH A TIN OR TIN ALLOY LAYER}

본 발명은 구리 또는 구리 합금, 예를 들어 놋쇠의 표면을 주석 또는 주석 합금층으로 피복하는 방법에 관한 것으로, 더욱 구체적으로 본 발명은 주석 또는 주석 합금층을 포함하는 층의 조합뿐만 아니라, 열처리 후에도 땜납 (soldering) 에 적합한 구리 또는 구리 합금의 표면을 제조하기 위한 방법, 및 이러한 표면에 부식으로부터 보호하기 위한 층을 제조하는 방법에의 용도에 관한 것이다. 본 발명은 또한, 주석층 또는 주석 합금층의 무전해 침적용 배스 용액에 관한 것이다.The present invention relates to a method of coating a surface of copper or a copper alloy, for example brass, with a tin or tin alloy layer, and more particularly the invention relates to a combination of layers comprising a tin or tin alloy layer, as well as after heat treatment. A method for producing a surface of copper or a copper alloy suitable for soldering, and a method for producing a layer for protecting against corrosion on such a surface. The present invention also relates to a bath solution for electroless deposition of a tin layer or a tin alloy layer.

내부식성의 표면을 형성하기 위한 목적으로 구리 또는 구리 합금 가공물을 표면 처리하기 위해, 침적된 주석 이온을 위해 염기성 금속 분해에 의한 무전해법이 오랫동안 사용되어왔다. 주석층은 통상 철과 같은 다른 금속에도 침적될 수 있다. 충분히 두꺼운 층을 형성하기 위해, 가공물은 90 내지 100 ℃ 의 온도에서 2 내지 3 시간 동안 처리되어야 한다.For the surface treatment of copper or copper alloy workpieces for the purpose of forming corrosion resistant surfaces, electroless methods by basic metal decomposition have been used for a deposited tin ions for a long time. The tin layer may also be deposited on other metals, such as iron, in general. To form a sufficiently thick layer, the workpiece must be treated for 2 to 3 hours at a temperature of 90 to 100 ° C.

예를 들어, US 2,891,871 A 호는 구리 또는 구리 합금의 가공물에 직접 피복하는 방법을 개시하고 있으며, 이 방법에서, 가공물을 주석염, 카르복실산 및 티오우레아 또는 티오우레아 유도체로 이루어진 용액에 침지시켜 전하 교환을 통해 가공물에 주석층을 형성시킨다.For example, US 2,891,871 A discloses a method of directly coating a workpiece of copper or a copper alloy, in which the workpiece is immersed in a solution consisting of tin salt, carboxylic acid and thiourea or thiourea derivatives. Charge exchange forms a tin layer on the workpiece.

US 2,282,511 A 호는, 주석-II 이온, 용해된 티오카르바미드 및 소량의 알칼리 금속 카르보네이트를 함유하는 화합물을 함유하는 용액을 사용하는 구리 표면의 피복 방법이 개시되어 있다. 상기 용액으로, 마찬가지로 주석층이 구리 표면에 직접 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 종류의 용액은, 구리의 분해를 막기 위해, 구리 파이프의 내부 표면에 주석의 무전해 침적을 위해 사용될 수 있다.US 2,282,511 A discloses a method for coating a copper surface using a solution containing a compound containing tin-II ions, dissolved thiocarbamide and a small amount of alkali metal carbonate. With this solution, a tin layer can likewise be formed directly on the copper surface. For example, a solution of this kind can be used for the electroless deposition of tin on the inner surface of the copper pipe to prevent the decomposition of copper.

또한 US 2,369,620 A 호는, 구리 표면의 피복을 위한 무전해 주석-피복법을 개시하고 있다. 상기 문헌에 개시된 수성 피복액은 산이며, 주석-II 염 외에 바람직하게는 SnCl2, 티오우레아를 추가로 함유한다.US 2,369,620 A also discloses an electroless tin-coating method for coating copper surfaces. The aqueous coating liquid disclosed in this document is an acid and, in addition to the tin-II salt, preferably further contains SnCl 2 , thiourea.

DE-AS 1 521 490 호에 따르면, 주석의 침적을 위한 수성 침지 배스 역시, 침적 용액의 안정성을 개선하고, 종래의 침적 용액보다 에칭제에 대해 더욱 내성이 있는, 더욱 투명하고, 더욱 선명하며, 더욱 조밀한 주석층을 수득하기 위해 하이포인산 또는 그의 알칼리염을 함유한다. 또한, 침적 용액은 예를 들어 에타논산, 시트르산, 말산, 말레산 및 유사한 지방족 모노-, 디- 및 트리카르복실산과 같은 유기산도 함유할 수 있다고 기술되어 있다. 상기 용액 내에 티오우레아 및 추가로 습윤제가 역시 포함되어 있다. 수 ㎛ 의 두께를 갖는 층이 상기 배스로 침적될 수 있다.According to DE-AS 1 521 490, aqueous immersion baths for the deposition of tin also improve the stability of the deposition solution and are more transparent, clearer, more resistant to etchant than conventional deposition solutions, Hypophosphoric acid or its alkali salts are contained in order to obtain a denser tin layer. It is also described that the deposition solution may also contain organic acids such as, for example, ethanolic acid, citric acid, malic acid, maleic acid and similar aliphatic mono-, di- and tricarboxylic acids. Thiourea and further wetting agent are also included in the solution. A layer having a thickness of several μm may be deposited into the bath.

DE 30 11 697 A1 호는 주석-II 이온원, 티오우레아 및 추가의 성분으로서 저해제 (유기 술폰산이 바람직하게 사용된다) 를 함유하는, 예를 들어 구리의 표면을 피복하기 위한 산 화학적 주석-플레이팅 배스를 개시하고 있다. 용액의 pH 값은 1 미만으로 유지된다. 또한, 상기 용액은 추가로 하이포아인산염을 함유한다.DE 30 11 697 A1 contains acid-based chemical tin-platings for coating the surface of copper, for example containing tin-II ion sources, thioureas and inhibitors (organic sulfonic acids are preferably used) as further components. The bath is starting. The pH value of the solution is kept below 1. In addition, the solution further contains hypophosphite.

프린트된 회로 기판에의 용도를 위한 방법이 US 4,657,632 A 호에 개시되어 있으며, 상기 방법은 기재 물질의 구리 표면의 일부를 에칭으로 제거하고, 제거하지 않을 부위에 대해 에치-레지스트를 구리 표면에 가하고, 제거할 구리 표면 부위를 유리 상태로 남겨둔다. 구리층의 주석층의 무전해 침적으로 에치-레지스트층을 형성한다. 이를 위해 사용되는 침적 용액은 주석-II 염 및 티오우레아 또는 티오우레아 유도체 외에, 우레아 또는 우레아 유도체를 추가로 함유한다. 또한, 상기 용액은 킬레이트화제, 예를 들어 아미노- 및 히드록시카르복실산, 환원제, 예를 들어 알데히드 및 산을 추가로 함유할 수 있다. 또한, 습윤제가 용액에 함유될 수 있다.A method for use on a printed circuit board is disclosed in US Pat. No. 4,657,632 A, which removes a portion of the copper surface of the base material by etching, and adds an etch-resist to the copper surface for the portion that will not be removed. The glass surface area to be removed is left in a glass state. An etch-resist layer is formed by electroless deposition of the tin layer of the copper layer. The deposition solution used for this purpose further contains urea or urea derivatives, in addition to tin-II salts and thiourea or thiourea derivatives. In addition, the solution may further contain chelating agents such as amino- and hydroxycarboxylic acids, reducing agents such as aldehydes and acids. Wetting agents may also be contained in the solution.

EP 0 503 389 A2 호는 구리 또는 구리 합금의 표면을 주석 또는 주석/납 합금으로 가공물을 무전해 피복하는 방법을 개시하고 있다. 산 피복 배스는 금속염 외에, 하이포아인산염 또는 그의 산과 같은 환원제, 및 유기 카르복실산 또는 티오우레아 또는 그의 유도체와 같은 착화제를 추가로 함유한다.EP 0 503 389 A2 discloses a method for electrolessly coating a workpiece with tin or tin / lead alloys on the surface of copper or copper alloys. In addition to the metal salts, the acid coated bath further contains a reducing agent such as hypophosphite or an acid thereof, and a complexing agent such as an organic carboxylic acid or thiourea or a derivative thereof.

EP 0 521 738 A2 호는 주석 또는 주석/납 합금으로, 바람직하게는 프린트된 회로 기판상의 구리 표면을 주석/납 합금으로 무전해 피복하기 위한 용액을 개시하고 있으며, 상기 용액은, 주석염외에, 티오우레아, 산 및 환원제, 예컨대 하이포아인산과, 추가로 하나 이상의 비이온성 습윤제, 바람직하게는 폴리옥시알킬에테르, 예를 들어 폴리옥시노닐페놀에테르를 함유한다.EP 0 521 738 A2 discloses a solution for electrolessly coating a copper surface on a printed circuit board with a tin / lead alloy, preferably tin or tin / lead alloy, which solution, in addition to tin salt, Thiourea, acids and reducing agents such as hypophosphoric acid and further one or more nonionic wetting agents, preferably polyoxyalkylethers such as polyoxynonylphenol ethers.

DE 40 01 876 A1 호는 알칸 또는 알칸올 술폰산 및 이들의 주석 및 납 염, 및 추가로 티오우레아 및 티오우레아 유도체뿐만 아니라 주석 및 납의 킬레이트화제로서 모노-, 디-, 트리카르복실산 또는 이들의 염을 함유하는, 주석 또는 주석/납 합금으로 무전해 피복하기 위한 배스용 조성물을 개시하고 있다. 상기 조성물은 구리 또는 구리 합금을 피복하는데 사용된다. 상기 조성물 내에, 비이온성 습윤제 및 다른 것들 가운데, 예를 들어 폴리옥시알킬렌 알콜 에테르를 함유할 수 있다.DE 40 01 876 A1 discloses mono-, di-, tricarboxylic acids or their chelating agents as alkanes or alkanol sulfonic acids and tin and lead salts thereof, and further thiourea and thiourea derivatives, as well as tin and lead chelating agents. A composition for baths for electroless coating with tin or tin / lead alloys containing salts is disclosed. The composition is used to coat copper or copper alloys. In the composition, it may contain, among other things, nonionic wetting agents and others, for example polyoxyalkylene alcohol ethers.

프린트된 회로 기판의 제조를 위해, 땜납 가능한 층으로서 주석층의 사용을 반복해서 시험해왔다. 구리층의 제조 후에 수득된 전도 트랙은 성분의 결합을 위해 땜납 가능해야 하며, 노출된 금속 표면은 수 일 내지 수 주일의 긴 보관 후에도 대부분 주석/납 땜납인 땜납에 대해 우수한 습윤성을 나타내어야하는 요구 조건이 존재한다.For the production of printed circuit boards, the use of tin layers as solderable layers has been repeatedly tested. The conductive tracks obtained after the production of the copper layer should be solderable for the bonding of the components and the exposed metal surface should show good wettability for the solder, which is mostly tin / lead solder even after long days of storage for several days to weeks. The condition exists.

그러나, 땜납시의 주석층의 습윤성은 일반적으로 주석/납 합금을 사용하였을 때보다 상당히 나쁘다는 것이 밝혀졌다. 주석층으로 피복된 전도 트랙으로 프린트된 회로 기판의 저장을 통해, 프린트된 회로 기판의 많은 부분이 저장 이후에 습윤될 수 없는 반면, 다른 부분은 이러한 문제점을 나타내지 않는다는 것이 밝혀졌다. 주석/납 층의 무전해 침적은 고비용이지만, 순수한 주석층을 사용하는 것은 땜납 보조제로서 유익할 것으로 보인다.However, it has been found that the wettability of the tin layer during soldering is generally considerably worse than when using tin / lead alloys. Through storage of printed circuit boards with conductive tracks coated with a tin layer, it has been found that much of the printed circuit board cannot be wetted after storage, while other parts do not exhibit this problem. Electroless deposition of tin / lead layers is expensive, but using a pure tin layer would be beneficial as a solder aid.

예를 들어, 일시적으로 유기 보호 바니시를 가하여, 이러한 현상을 피하려는 시도가 행해졌다. 이러한 보호 피복은 주석/납 땜납을 1 분내에 용해시키기 위한 것이다.For example, attempts have been made to avoid this phenomenon by temporarily applying an organic protective varnish. This protective coating is for dissolving the tin / lead solder in 1 minute.

그러나 이러한 종류의 바니시는 비쌀 뿐만 아니라, 땜납중에 이들이 땜납 배스에 도달하여 오염시키기 때문에, 공정 중에 문제를 야기한다. 이외에도, 일시적인 보호 바니시가 제공된 프린트된 회로판의 주석층은 불리한 특성을 갖는다.However, varnishes of this kind are not only expensive, but also cause problems during processing because they reach and contaminate the solder bath during soldering. In addition, the tin layer of the printed circuit board provided with the temporary protective varnish has disadvantageous characteristics.

또한, 공지된 방법으로는 주석 또는 주석 합금으로부터 충분히 높은 품질의 층의 표면을 얻을 수 없고, 이어지는 공정 단계에서 프린트된 회로 기판에 있어서 문제가 발생한다는 것이 밝혀졌다.It has also been found that known methods do not allow the surface of layers of sufficiently high quality to be obtained from tin or tin alloys and problems arise with printed circuit boards in subsequent processing steps.

따라서, 본 발명의 기초를 이루는 문제는, 종래 기술의 단점을 피하고, 구리 또는 구리 합금의 표면상의 주석 및, 특히, 필요하다면 주석 합금층을 형성하는 것이 가능한 방법 및 배스 용액을 찾는 것이며, 상기 표면은 장기간 보관 후에도 액체 주석/납 접합물로 용이하게 습윤 가능하다.Accordingly, the problem underlying the present invention is to find a method and bath solution which is capable of forming tin on the surface of the copper or copper alloy and, in particular, a tin alloy layer, if necessary, avoiding the disadvantages of the prior art, said surface Is easily wettable with liquid tin / lead bonds even after long term storage.

상기 문제는 청구의 범위 제 1 항 및 제 8, 9, 12 및 제 13 항의 양태에 의해 해결된다. 본 발명의 바람직한 구현 양태는 종속항에 예시된다.The problem is solved by the aspects of claims 1 and 8, 9, 12 and 13. Preferred embodiments of the invention are illustrated in the dependent claims.

수 일 내지 수 주일 동안 저장된 프린트된 회로 기판상의 주석층의 부적절한 접합성은 금속 사이의 상의 형성에 기인하는 것으로 밝혀졌다. 저장을 통해, 구리 기판 및 주석층 사이의 경계면에서, 두꺼운 구리/주석 합금이 형성되고, 프린트된 회로 기판이 더 오래 저장될수록, 보관중 온도는 더 높다. 상기 금속 사이의 상은 매우 빠르게 형성된다. 예를 들어 두께 0.7 ㎛ 의 전체 주석층이 금속 사이의 상으로 전환된다면, 접합 능력은 쉽게 떨어진다.Inadequate bonding of tin layers on printed circuit boards stored for days to weeks has been found to be due to the formation of phases between the metals. Through storage, at the interface between the copper substrate and the tin layer, thicker copper / tin alloys are formed, and the longer the printed circuit board is stored, the higher the storage temperature. The phase between the metals is formed very quickly. For example, if the entire tin layer with a thickness of 0.7 μm is converted into a phase between the metals, the bonding ability is easily degraded.

주석의 무전해 침적이 침적 공정의 첫 순간에 적절히 관찰된다면, 구리 표면상의 주석 플레이팅 이전에 가시적이었던 "상태" 가 주석층에 의해 "동결된" 것으로 확정될 수 있다. 구리 표면상에 위치한 특정한 형태학적 구조에 있어서, 주석 또는 각각의 주석 합금층은, 상기 구조가 위치하지 않은 구리 표면상의 지점보다 더 빠르게 침적된다. 예를 들어, 세척수관 또는 구리 표면상의 산화 부위에서, 인접 무위와는 적어도 가시적으로 구분되는 구조물이 형성된다. 프린트된 회로 기판이 이러한 지점의 주석 플레이팅 이후에 템퍼링된 경우에, 이러한 지점에서 금속 사이의 상이 매우 빠르게 형성된다. 이들은 순수한 주석층 또는 구리 표면보다 공기 중에서 더 용이하게 산화된다. 산화되는 동안, 상기 금속 사이의 상은 액체 접합물로 습윤되는 능력을 잃는다.If the electroless deposition of tin is properly observed at the first moment of the deposition process, the "state" that was visible before tin plating on the copper surface can be determined to be "frozen" by the tin layer. For certain morphological structures located on the copper surface, tin or each tin alloy layer deposits faster than the point on the copper surface where the structure is not located. For example, at the site of oxidation on the wash water pipe or copper surface, a structure is formed that is at least visually distinct from the adjacent inert. If the printed circuit board is tempered after tin plating at this point, an image between the metals is formed very quickly at this point. They oxidize more easily in air than pure tin layers or copper surfaces. During oxidation, the phase between the metals loses their ability to wet the liquid bond.

상기의 문제점은 하기의 필수 단계를 갖는 본 발명에 따른 방법에 의해 해결되었다 :The above problem is solved by the method according to the invention with the following essential steps:

a. 첫 단계에서 귀금속을 침적시키기 위해, 하나 이상의 귀금속 화합물을 함유하는 용액으로 구리 또는 구리 합금 표면을 처리한다. 상기 금속의 두께는 매우 작을 수 있으며, 예를 들어 육안으로 보이지 않는 귀금속층을 형성하기에 충분히 작을 수 있다. 상기 제 1 방법 단계 및 이어지는 주석 플레이팅 단독을 수행하는데 있어서의 상기 문제의 해결은, 귀금속으로 처리하는 것이 구리 또는 구리 합금의 표면상의 귀금속층의 형성으로 이어진다는 것을 나타낸다.a. In order to deposit the precious metal in the first step, the copper or copper alloy surface is treated with a solution containing at least one precious metal compound. The thickness of the metal can be very small, for example small enough to form a layer of precious metal that is not visible to the naked eye. Solving the problem in performing the first method step and subsequent tin plating alone indicates that treatment with the noble metal leads to the formation of a noble metal layer on the surface of the copper or copper alloy.

b. 단계 a 에 따라 귀금속으로 피복된 표면을, 하나 이상의 주석 화합물, 및 필요에 따라 하나 이상의 침적될 추가의 금속 화합물, 및 하나 이상의 산, 및 티오우레아 및 그의 유도체로 구성된 군으로부터의 하나 이상의 구리용 착화제를 함유하는 용액으로 처리하여 주석 또는 주석 합금층을 형성한다. 상기 처리 도중, 주석 또는 주석 합금층이 형성된다.b. Complexing the surface coated with the noble metal according to step a with at least one tin compound, and optionally at least one further metal compound to be deposited, and at least one acid and thiourea and derivatives thereof for at least one copper Treatment with a solution containing the agent forms a tin or tin alloy layer. During the treatment, a tin or tin alloy layer is formed.

본 발명에 따른 주석층 또는 주석 합금층의 무전해 침적용 배스 용액은 하기를 함유하는 것을 특징으로 한다 :The bath solution for electroless deposition of the tin layer or tin alloy layer according to the invention is characterized by containing:

a. 하나 이상의 주석 화합물, 및 필요에 따라, 침적될 추가의 금속의 화합물의 하나 이상,a. One or more tin compounds and, if desired, one or more of the compounds of the additional metal to be deposited,

b. 하나 이상의 산, 및b. One or more acids, and

c. 티오우레아 및 그의 유도체로 이루어진 군으로부터의 하나 이상의 구리용 착화제, 및c. At least one complexing agent for copper from the group consisting of thiourea and its derivatives, and

d. 필요에 따라, 하나 이상의 습윤제.d. If desired, one or more wetting agents.

주석 또는 주석 합금층과 마찬가지로, 귀금속층은 구리 이온이 금속의 침적과 동시에 용액으로 이동하는 결과로 전하 교환에 의해 형성된다. 형성된 귀금속 피복은 구리의 추가의 산화 및 구리 및 주석 사이의 금속 사이의 상의 형성을 방지하는 것으로 추측된다. 이에 의해, 주석층의 추가의 산화는 억제되고, 땜납으로의 표면의 습윤성은 장기간의 열처리 후에도 유지된다.Like the tin or tin alloy layer, the noble metal layer is formed by charge exchange as a result of copper ions moving into solution simultaneously with deposition of the metal. The precious metal coating formed is believed to prevent further oxidation of copper and formation of a phase between the metal between copper and tin. As a result, further oxidation of the tin layer is suppressed, and the wettability of the surface to the solder is maintained even after a long heat treatment.

땜납 공정 자체 도중에, 주석 및 귀금속층은 액체 접합물에 의해 매우 빠르게 분해된다. 상기 공정은 매우 빠르게 진행되어, 액체 주석/납 접합물 및 구리 사이에 접합 공정에 대표적인 바람직한 금속 사이의 주석/구리 상이 형성되기에 충분한 시간이 남는다.During the soldering process itself, the tin and precious metal layers decompose very quickly by the liquid bond. The process proceeds very quickly, leaving enough time for the tin / copper phase between the liquid tin / lead bond and copper to form a preferred metal that is representative of the bonding process.

하기의 방법 단계가 바람직하게 수행된다 :The following method steps are preferably carried out:

1. 구리 또는 구리 합금 표면이 세척되거나 에칭된다.1. The copper or copper alloy surface is cleaned or etched.

2. 처리된 표면을 완전히 헹군다.2. Rinse the treated surface thoroughly.

3. 이어서 침탄 (浸炭; cementation) 에 의해 귀금속이 침적된다.3. Precious metals are then deposited by carburization.

4. 이어서 가공물을 산 수용액과 접촉시킨다.4. The workpiece is then contacted with an aqueous acid solution.

5. 이어서, 주석을 무전해 방식으로 약 60 ℃ 에서 침적시키며, 처리 시간은 약 4 분 내지 약 30 분이 바람직하다.5. The tin is then deposited at about 60 ° C. in an electroless manner and the treatment time is preferably about 4 minutes to about 30 minutes.

구리 또는 구리 합금 표면을 세척하기 위해, 통상적인 세척 및 에칭 용액이 사용되며, 예를 들어, 습윤제를 함유하는 용액, 및 예를 들어, 추가로 과산화수소 및 황산을 함유할 수 있는 용액을 사용한다. 귀금속의 침적을 위해 사용되는 배스에서, 은, 금, 백금, 팔라듐, 루테늄, 로듐, 오스뮴 및 이리듐으로 구성된 군으로부터의 하나 이상의 귀금속 화합물이 사용된다. 용액중 귀금속의 농도는 바람직하게는 약 0.1 내지 2000 ppm (백만 중량부의 용액 당 귀금속의 중량부), 바람직하게는 약 1 내지 약 100 ppm 이다.To clean the copper or copper alloy surface, conventional cleaning and etching solutions are used, for example solutions containing wetting agents, and solutions that may further contain, for example, hydrogen peroxide and sulfuric acid. In baths used for the deposition of precious metals, one or more precious metal compounds from the group consisting of silver, gold, platinum, palladium, ruthenium, rhodium, osmium and iridium are used. The concentration of the noble metal in the solution is preferably about 0.1 to 2000 ppm (parts by weight of noble metal per million parts by weight of solution), preferably about 1 to about 100 ppm.

프린트된 회로 기판은 귀금속 배스 내에서 단지 짧은 시간 동안 처리되며, 예를 들어 약 60 초 내지 약 120 초 동안 처리된다.The printed circuit board is processed for only a short time in the precious metal bath, for example, for about 60 seconds to about 120 seconds.

긴 처리 시간을 무리 없이 선택할 수 있다. 귀금속의 침적 중 처리 온도는 바람직하게는 약 20 내지 약 30 ℃ 이다.Long processing times can be selected without difficulty. The treatment temperature during the deposition of the noble metal is preferably about 20 to about 30 ° C.

귀금속의 침적 이후, 기판은 산 용액과 접촉된다. 주석 플레이팅 배스 내에 함유된 산은 바람직하게는 산으로 사용될 수 있다. 상이한 산을 무리 없이 사용할 수 있다. 상기 처리 도중, 구리 또는 각각의 구리 합금 표면은 주석 플레이팅을 위해 제조되며, 동시에, 산은 희석에 앞서 이어지는 주석 배스를 위해 보호막을 형성한다.After deposition of the precious metal, the substrate is in contact with the acid solution. The acid contained in the tin plating bath can preferably be used as the acid. Different acids can be used without difficulty. During the treatment, copper or each copper alloy surface is prepared for tin plating, while the acid forms a protective film for the tin bath followed prior to dilution.

무전해 주석 배스는 분해에 대해 가능한 높은 안정성을 가져야 한다. 특히, 공지된 배스는 매우 짧은 시간 (수 일) 동안 침전물을 형성하는 경향이 있다.The electroless tin bath should have as high stability as possible to degradation. In particular, known baths tend to form precipitates for a very short time (a few days).

주석 배스 내에 함유된 산으로서, 바람직하게는 광산, 유기산 및 술폰산이 선택된다.As the acid contained in the tin bath, mineral acids, organic acids and sulfonic acids are preferably selected.

주석 플레이팅 배스는 약 50 내지 약 70 ℃의 온도에서 작동된다. 상기 조건하에, 접착제 및 두께 약 0.6 내지 약 1.4 ㎛ 의 고르게 선명한 주석층이 구리 또는 각각의 구리 합금에 침적될 수 있다.The tin plating bath is operated at a temperature of about 50 to about 70 ° C. Under these conditions, an adhesive and an evenly clear tin layer of about 0.6 to about 1.4 μm in thickness may be deposited on copper or each copper alloy.

주석 합금으로서, 예를 들어 주석/납 합금이 침적될 수 있다. 이 경우 침적 배스는 납-II 염, 예를 들어 PbCl2또는 Pb(OCOCH3)2를 함유한다.As tin alloys, for example tin / lead alloys can be deposited. The immersion bath in this case contains a lead-II salt, for example PbCl 2 or Pb (OCOCH 3 ) 2 .

공정을 수행하기 위해, 표준 방법에 있어서 프린트된 회로 기판은 개개의 처리 용액이 함유된 용기 내에 차례로 침지된다. 처리 시간이 매우 짧기 때문에, 프린트된 회로 기판은 연속적인 처리 플랜트에서 처리될 수도 있으며, 이를 통해 기판은 수평 또는 수직 배향이 되고, 수평 이동 방향으로 처리될 수 있다.In order to carry out the process, the printed circuit board in the standard method is in turn immersed in a container containing the individual treatment solution. Because the processing time is very short, the printed circuit board may be processed in a continuous processing plant, which allows the substrate to be in a horizontal or vertical orientation and to be processed in the horizontal movement direction.

본 발명에 따른 방법은 열처리 후에도 접합에 적합한 구리 또는 구리 합금의 표면의 제조에 특히 적합할 뿐만 아니라, 부식에 대한 구리 또는 구리 합금의 표면을 보호하기 위한 층의 제조에도 적합하다. 상기 방법은 또한 프린트된 회로 기판이 아닌 다른 가공물 상의 본 발명에 따른 조합층을 형성하는데 사용될 수 있으며, 예를 들어 부식 방지를 위한 파이프의 피복에 사용될 수 있다.The method according to the invention is not only particularly suitable for the production of surfaces of copper or copper alloys suitable for joining even after heat treatment, but also for the production of layers for protecting the surfaces of copper or copper alloys against corrosion. The method can also be used to form combination layers according to the invention on workpieces other than printed circuit boards, for example in the coating of pipes for corrosion protection.

하기 실시예는 본 발명을 추가로 설명하기 위한 것이다.The following examples are intended to further illustrate the present invention.

실시예 1Example 1

구리 구조물 및 특히 전기 성분용 연결부가 제공된 와이어링 기판을, 50 ppm 의 은을 함유한, 은 착화 용액 중 소듐 퍼옥소디-술페이트 수용액으로 구리를 세척 및 에칭한 후, 실온에서 1 분 동안 처리한다. 기판을 물로 세척하고, 이어서 수중 2 중량 % 의 산 용액으로 처리한 후, 무전해 주석 플레이팅 배스 중에서 15 분 동안 60 ℃ 에서 주석 플레이팅한다.Wiring substrates provided with copper structures and in particular connections for electrical components were washed and etched with an aqueous solution of sodium peroxodisulfate in a silver complexing solution containing 50 ppm of silver, and then treated at room temperature for 1 minute. do. The substrate is washed with water and then treated with 2% by weight acid solution in water and then tin plated at 60 ° C. for 15 minutes in an electroless tin plating bath.

주석 플레이팅 배스는 하기 조성을 갖는다 :The tin plating bath has the following composition:

주석-II 플루오로보레이트 15 g 주석Tin-II Fluoroborate 15 g Tin

플루오로붕산 100 ml100 ml of fluoroboric acid

티오우레아 100 g100 g of thiourea

소듐 라우릴술페이트 2 mgSodium Lauryl Sulfate 2 mg

1 ℓ까지 물을 충진Filling water up to 1 l

배스로 처리한 후의 주석층은 선명한 금속성으로, 1.05 ㎛ 의 두께를 갖는다. 이어서 플레이트를 155 ℃ 에서 8 시간 동안 공기 중에서 템퍼링하고, 최종적으로 웨이브 땜납 (wave soldering) 공정을 가한다. 융제로서, 저-고형 (2 %) 무-세정 융제 (Kester (등록상표), Litton Kester (USA) 사 제조) 를 사용한다.The tin layer after the treatment with the bath is vivid metallic and has a thickness of 1.05 mu m. The plate is then tempered in air at 155 ° C. for 8 hours and finally subjected to a wave soldering process. As the flux, a low-solid (2%) no-clean flux (Kester®, manufactured by Litton Kester (USA)) is used.

주석 플레이팅된 구리 표면상의 습윤 특성이 완벽하기 때문에, 연결부의 접합 결과는 탁월하다. 프린트된 회로 기판에 함유된 보어로의 접합물의 헹굼은 80 내지 90 % 완벽하다 (프린트된 회로 기판은 성분과 맞지 않는다).Since the wetting properties on the tin plated copper surface are perfect, the joining results of the joints are excellent. Rinsing of the bond to the bore contained in the printed circuit board is 80 to 90% perfect (the printed circuit board does not match the components).

실시예 2Example 2

실시예 1 에서와 같이 예비 처리된 프린트된 회로 기판을, 15 ppm 의 백금을 함유한 백금 용액 내에서 백금으로 실온에서 1 분간 피복하고, 이어서 실시예 1 에서와 같이 처리한다. 수득한 선명한 주석층은, 55 ℃에서 30 분간 주석 플레이팅 배스에서 침지시킨 후, 1 ㎛ 의 두께를 갖는다.The printed circuit board pretreated as in Example 1 was coated with platinum in platinum solution containing 15 ppm of platinum for 1 minute at room temperature and then treated as in Example 1. The obtained clear tin layer has a thickness of 1 μm after being immersed in a tin plating bath at 55 ° C. for 30 minutes.

이어서 기판을 155 ℃ 에서 4 시간 동안 템퍼링한 후, 실시예 1 과 유사하게 접합 시험을 수행한다. 액체 접합물로 습윤시키는 도중의 오류 및 보어 중에서 접합물이 일으키는 문제가 명백하지 않으며; 100 % 이다.Subsequently, the substrate was tempered at 155 ° C. for 4 hours, and then the bonding test was performed similarly to Example 1. Errors during wetting with the liquid conjugate and problems with the conjugate in the bore are not apparent; 100%.

실시예 3Example 3

실시예 1 과 같이 예비 처리된 프린트된 회로 기판을, 50 ppm 의 루테늄을 함유한 루테늄 용액 중에서 2 분간 처리한다. 매우 얇은 루테늄층으로 피복된 구리층을, 하기 조성을 갖는 화학적 주석 배스 내에서 50 ℃ 에서 주석 플레이팅한다 :The printed circuit board pretreated as in Example 1 was treated in a ruthenium solution containing 50 ppm ruthenium for 2 minutes. The copper layer coated with a very thin ruthenium layer is tin plated at 50 ° C. in a chemical tin bath having the following composition:

주석 (II) 클로라이드 5 g5 g of tin (II) chloride

N-메틸 티오우레아 55 g55 g of N-methyl thiourea

진한 황산 20 g20 g concentrated sulfuric acid

이소프로필 알콜 500 ml500 ml of isopropyl alcohol

물 500 ml500 ml of water

주석층에 접합 시험 (접합물 도포 시험) 을 가한다. 접합능은 9。 의 접촉각에서 탁월하다.A bonding test (bond coating test) is applied to the tin layer. Bonding ability is excellent at a contact angle of 9 °.

Claims (13)

하기의 필수 단계로, 주석 또는 주석 합금층으로 구리 또는 구리 합금의 표면을 피복하기 위한 방법 :In the following essential steps, a method for covering the surface of copper or copper alloy with a tin or tin alloy layer: a. 귀금속을 침적시키기 위해, 하나 이상의 귀금속 화합물을 함유하는 용액으로 표면을 처리;a. Treating the surface with a solution containing at least one precious metal compound to deposit the precious metal; b. 단계 a 에 따라 귀금속으로 피복된 표면을, 하나 이상의 주석 화합물, 하나 이상의 산, 및 티오우레아 및 그의 유도체로 구성된 군으로부터 선택된 하나 이상의 구리용 착화제를 함유하는 용액으로 처리하여 주석 또는 주석 합금층을 형성.b. The surface coated with the noble metal according to step a is treated with a solution containing at least one tin compound, at least one acid, and at least one complexing agent for copper selected from the group consisting of thiourea and derivatives thereof to form a tin or tin alloy layer. formation. 제 1 항에 있어서, 은, 금, 백금, 팔라듐, 루테늄, 로듐, 오스뮴 및 이리듐으로 구성된 군으로부터 선택된 귀금속 화합물이 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.A method according to claim 1, wherein a precious metal compound selected from the group consisting of silver, gold, platinum, palladium, ruthenium, rhodium, osmium and iridium is used. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 귀금속을 침적시키기 위한 용액이, 침적될 추가의 금속의 하나 이상의 화합물을 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1 or 2, wherein the solution for depositing the noble metal further contains one or more compounds of the additional metal to be deposited. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 a 에 따른 용액 중 귀금속 화합물의 농도가 0.1 내지 2000 ppm (중량/중량), 바람직하게는 1 내지 100 ppm (중량/중량) 으로 조절되는 것을 특징으로 하는 방법.The process according to any one of claims 1 to 3, wherein the concentration of the noble metal compound in the solution according to step a is adjusted to 0.1 to 2000 ppm (weight / weight), preferably 1 to 100 ppm (weight / weight). Characterized in that the method. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 귀금속을 침적시키기 위한 용액이 귀금속 화합물 외에, 물 및 유기 용매로 구성된 군으로부터 선택된 하나 이상의 용매를 함유하는 것을 특징으로 하는 방법.The method according to any one of claims 1 to 4, wherein the solution for depositing the precious metal contains, in addition to the precious metal compound, at least one solvent selected from the group consisting of water and an organic solvent. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 광산, 유기산 및 술폰산으로 구성된 군으로부터 선택된 산이, 주석 또는 주석 합금층을 형성하기 위한 용액을 위해 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.The process according to claim 1, wherein an acid selected from the group consisting of mineral acid, organic acid and sulfonic acid is selected for the solution for forming the tin or tin alloy layer. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 주석 또는 주석 합금층을 침적시키기 위한 용액에 습윤제가 추가로 첨가되는 것을 특징으로 하는 방법.7. The method of any one of claims 1 to 6, wherein a humectant is further added to the solution for depositing the tin or tin alloy layer. 표면에 인접한 귀금속층 및 이에 가해진 주석 또는 주석 합금층으로 구성된 구리 또는 구리 합금의 표면상의 조합층.Combination layer on the surface of copper or copper alloy consisting of a layer of precious metal adjacent the surface and a layer of tin or tin alloy applied thereto. 하기를 함유하는 주석 또는 주석 합금층의 무전해 침적용 배스 용액 :Bath solutions for electroless deposition of tin or tin alloy layers containing: a. 하나 이상의 주석 화합물,a. One or more tin compounds, b. 하나 이상의 산, 및b. One or more acids, and c. 티오우레아 및 그의 유도체로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 구리용 착화제.c. At least one complexing agent for copper selected from the group consisting of thiourea and derivatives thereof. 제 9 항에 있어서, 용액이 추가로 침적될 금속의 하나 이상의 화합물을 추가로 함유하는 배스 용액.10. The bath solution of claim 9 further comprising one or more compounds of the metal to which the solution is to be further deposited. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서, 용액이 하나 이상의 습윤제를 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 배스 용액.The bath solution according to claim 9 or 10, wherein the solution further contains one or more wetting agents. 열처리 후에도 땜납에 적합한 구리 또는 구리 합금상의 표면을 제조하기 위한 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 따른 방법의 용도.Use of the method according to any one of claims 1 to 7 for producing a surface of copper or copper alloy phase suitable for solder even after heat treatment. 부식에 대해 구리 또는 구리 합금상의 표면을 보호하기 위한 층을 제조하기 위한 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 따른 방법의 용도.Use of the method according to any one of claims 1 to 7 for producing a layer for protecting the surface of the copper or copper alloy phase against corrosion.
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