KR102580832B1 - Contact structure and substrate holder having the same - Google Patents
Contact structure and substrate holder having the same Download PDFInfo
- Publication number
- KR102580832B1 KR102580832B1 KR1020180104651A KR20180104651A KR102580832B1 KR 102580832 B1 KR102580832 B1 KR 102580832B1 KR 1020180104651 A KR1020180104651 A KR 1020180104651A KR 20180104651 A KR20180104651 A KR 20180104651A KR 102580832 B1 KR102580832 B1 KR 102580832B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substrate
- metal rod
- insert
- insulator
- contact structure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/005—Contacting devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/007—Current directing devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/008—Current shielding devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/06—Suspending or supporting devices for articles to be coated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Coupling Device And Connection With Printed Circuit (AREA)
Abstract
본 발명의 일 측면에 따른 컨택트 구조체는, 상면이 기판의 일면과 마주보게 배치되는 금속봉; 상기 금속봉의 측면을 둘러싸는 인서트(insert); 및 상기 인서트를 수용하는 절연체를 포함한다.A contact structure according to one aspect of the present invention includes a metal rod whose upper surface is disposed to face one surface of a substrate; an insert surrounding the side of the metal rod; and an insulator accommodating the insert.
Description
본 발명은 컨택트 구조체 및 이를 포함하는 기판 홀더에 관한 것이다.The present invention relates to a contact structure and a substrate holder including the same.
박막형의 회로기판에서는 절연성의 기판 상에 회로 구성을 위한 패턴이 구비되어 있으며, 이 패턴의 노출면은 금속박막으로 덮여있다. 상기 패턴과 금속박막은 전기 도금 작업으로 형성될 수 있다. 전기 도금 작업 시, 회로기판은 도금액이 채워진 도금조 내에 삽입될 수 있다. In a thin-film type circuit board, a pattern for circuit construction is provided on an insulating board, and the exposed surface of this pattern is covered with a metal thin film. The pattern and metal thin film can be formed by electroplating. During electroplating, a circuit board may be inserted into a plating bath filled with a plating solution.
본 발명의 일 측면에 따르면, 상면이 기판의 일면과 마주보게 배치되는 금속봉; 상기 금속봉의 측면을 둘러싸는 인서트(insert); 및 상기 인서트를 수용하는 절연체를 포함하는, 컨택트 구조체가 제공된다.According to one aspect of the present invention, a metal rod whose upper surface is disposed to face one surface of the substrate; an insert surrounding the side of the metal rod; and an insulator accommodating the insert.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 내측에 기판을 수용하는 개구가 마련되고, 상기 기판을 지지하는 프레임; 및 상기 기판의 일면과 접촉 가능하게 상기 프레임에 결합되는 컨택트 구조체;를 포함하고, 상기 컨택트 구조체는, 상기 기판의 두께 방향으로 연장되는 금속봉; 상기 금속봉의 측면을 둘러싸는 인서트(insert); 및 상기 인서트를 수용하는 절연체를 포함하는, 기판 홀더가 제공된다.According to another aspect of the present invention, there is provided an opening for accommodating a substrate inside, a frame supporting the substrate; and a contact structure coupled to the frame to enable contact with one surface of the substrate, wherein the contact structure includes: a metal rod extending in a thickness direction of the substrate; an insert surrounding the side of the metal rod; and an insulator accommodating the insert.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 컨택트 구조체를 나타낸 도면.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 컨택트 구조체의 구조를 나타낸 도면.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 컨택트 구조체와 기판이 결합되는 상태를 나타낸 도면.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 컨택트 구조체를 포함하는 기판 홀더를 나타낸 도면.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 컨택트 구조체를 포함하는 기판 홀더와 기판이 결합되는 상태를 나타낸 도면.1 is a diagram showing a contact structure according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a diagram showing the structure of a contact structure according to an embodiment of the present invention.
Figure 3 is a diagram showing a state in which a contact structure and a substrate are combined according to an embodiment of the present invention.
4 is a diagram showing a substrate holder including a contact structure according to an embodiment of the present invention.
Figure 5 is a diagram showing a state in which a substrate holder including a contact structure and a substrate are combined according to an embodiment of the present invention.
본 발명에 따른 컨택트 구조체 및 이를 포함하는 기판 홀더의 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Embodiments of the contact structure according to the present invention and the substrate holder including the same will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description with reference to the accompanying drawings, identical or corresponding components are assigned the same drawing numbers and Redundant explanations will be omitted.
또한, 이하 사용되는 제1, 제2 등과 같은 용어는 동일 또는 상응하는 구성 요소들을 구별하기 위한 식별 기호에 불과하며, 동일 또는 상응하는 구성 요소들이 제1, 제2 등의 용어에 의하여 한정되는 것은 아니다.In addition, terms such as first, second, etc. used below are merely identifiers to distinguish identical or corresponding components, and the same or corresponding components are not limited by terms such as first, second, etc. no.
또한, 결합이라 함은, 각 구성 요소 간의 접촉 관계에 있어, 각 구성 요소 간에 물리적으로 직접 접촉되는 경우만을 뜻하는 것이 아니라, 다른 구성이 각 구성 요소 사이에 개재되어, 그 다른 구성에 구성 요소가 각각 접촉되어 있는 경우까지 포괄하는 개념으로 사용하도록 한다.In addition, coupling does not mean only the case of direct physical contact between each component in the contact relationship between each component, but also means that another component is interposed between each component, and the component is in that other component. It should be used as a concept that encompasses even the cases where each is in contact.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 컨택트 구조체를 나타낸 도면이고, 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 컨택트 구조체의 구조를 나타낸 도면이다. 또한, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 컨택트 구조체와 기판이 결합되는 상태를 나타낸 도면.FIG. 1 is a diagram showing a contact structure according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing the structure of a contact structure according to an embodiment of the present invention. In addition, Figure 3 is a diagram showing a state in which a contact structure and a substrate are combined according to an embodiment of the present invention.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 컨택트 구조체는, 금속봉(110), 인서트(120) 및 절연체(130)를 포함할 수 있다. Referring to FIGS. 1 to 3 , a contact structure according to an embodiment of the present invention may include a
금속봉(110)은 금속 재질의 기둥이며, 기판(S)과 수직하게 배치되고, 금속봉(110)의 상면이 기판(S)의 일면을 마주본다. 금속봉(110)은 기판(S)에 전류를 공급하기 위한 것이므로 전도성을 가지는 금속은 어떤 것이든 사용될 수 있다.The
금속봉(110)은 헤드(111)와 바디(112)를 포함하고, 헤드(111)는 상대적으로 큰 폭을, 바디(112)는 상대적으로 작은 폭을 가진다. 헤드(111)와 바디(112)에 의해 금속봉(110)은 'T'와 유사한 형상을 가진다. The
헤드(111)는 기판(S)의 일면과 마주본다. 즉, 헤드(111)의 상면은 기판(S)의 일면과 마주본다. 헤드(111)의 상면에는 선형의 홈이 형성될 수 있다. The
바디(112)는 기판(S)에 수직한 방향으로 연장된다. 바디(112)는 제1 영역(113)과 제2 영역(114)을 포함할 수 있다. 제1 영역(113)은 헤드(111)와 제2 영역(114) 사이에 위치한다. 제2 영역(114)에는 나사산(T1)이 형성될 수 있다. 제1 영역(113)에는 나사산이 형성되지 않을 수 있다. 또한, 제2 영역(114)의 폭(직경)은 제1 영역(113)의 폭(직경)보다 작을 수 있다.
제2 영역(114)의 제1 영역(113)과 인접한 지점에는 바디(112)의 외주면을 따라 형성되는 홈이 형성될 수 있다.A groove formed along the outer peripheral surface of the
인서트(120)는 금속봉(110)을 수용하는 구성으로, 금속봉(110)의 측면을 둘러싼다. 인서트(120)는 금속, 플라스틱, 수지 등 다양한 재료로 형성될 수 있다.The
인서트(120) 내에는 수용 공간(121)이 마련되고, 수용 공간(121)은 금속봉(110)의 헤드(111)와 바디(112) 형상에 대응되어, 금속봉(110)은 인서트(120)에 밀착되도록 수용된다. A
금속봉(110)의 바디(112) 중 제1 영역(113)은 인서트(120) 내에 위치하고, 제2 영역(114)은 인서트(120) 하측으로 돌출될 수 있다. 인서트(120)의 하면에는 개구(제1 개구)(121)가 형성되어, 바디(112)의 제2 영역(114)이 인서트(120)의 개구(121)를 관통한다. 개구(121)의 폭은 제2 영역(114)의 폭(최대폭)과 동일하거나 그보다 크고, 제1 영역(113)의 폭보다 작다. The
또한, 제2 영역(114)의 홈은 인서트(120)의 개구(121)와 인접하게 위치할 수 있다. 제2 영역(114)의 홈은 인서트(120)의 개구(121)와 인접하게 인서트(120) 외측에 위치할 수 있다.Additionally, the groove of the
절연체(130)는 인서트(120)를 수용한다. 절연체(130)는 부도체며, 고탄성 재료로 형성될 수 있다. 예를 들어, 절연체(130)는 고무로 형성될 수 있다.The
절연체(130)는 인서트(120)의 측면 그리고 인서트(120)의 하면을 커버하고, 절연체(130)의 하면에는 인서트(120)의 개구(121)와 대응되는 개구(제2 개구)(131)가 마련된다. 금속봉(110) 바디(112)의 제2 영역(114)이 인서트(120) 개구(121)와 절연체(130) 개구(131)를 관통하여 절연체(130) 하측으로 돌출될 수 있다. The
절연체(130) 하면의 개구(131)의 크기는 인서트(120) 하면의 개구(121) 크기와 동일할 수 있고, 절연체(130) 하면의 개구(131)가 인서트(120) 하면의 개구(121)보다 약간 작을 수 있다. 이 경우, 제2 영역(114)의 홈은 절연체(130)를 수용할 수 있다. The size of the
금속봉(110)의 상면(기판(S)과 마주보는 면)은 절연체(130)의 상면(기판(S)과 마주보는 면)보다 하측에 위치(기판(S)으로부터 멀리 위치)할 수 있다. 이 경우, 금속봉(110)의 상면은 절연체(130)가 변형되기 전에는 기판(S)의 일면과 접촉될 수 없다.The upper surface of the metal rod 110 (the surface facing the substrate S) may be located lower (located farther from the substrate S) than the upper surface of the insulator 130 (the surface facing the substrate S). In this case, the upper surface of the
여기서, 절연체(130)의 상면이 하측으로 가압되는 경우, 예를 들어, 절연체(130)의 상면이 기판(S)의 일면에 맞닿아 가압되는 경우, 절연체(130)는 변형되어 금속봉(110)의 상면이 상기 기판(S)의 일면에 접촉될 수 있다. 즉, 절연체(130)의 기판(S) 측 일부가 찌그러짐에 따라 절연체(130)의 높이가 낮아지고, 금속봉(110)의 상면은 기판(S)의 일면에 접촉될 수 있다. 이에 따라, 전원과 전기적으로 연결된 금속봉(110)은 기판(S)에 전류를 공급할 수 있다. Here, when the upper surface of the
절연체(130)의 이러한 변형이 가능하기 위해, 절연체(130)는 고무와 같은 고탄성 재질로 형성될 수 있다.To enable this deformation of the
한편, 인서트(120)의 상면(기판(S)과 마주보는 면)은 금속봉(110)의 상면(기판(S)과 마주보는 면)과 동일평면 상에 위치할 수 있다.Meanwhile, the upper surface of the insert 120 (the surface facing the substrate S) may be located on the same plane as the upper surface of the metal rod 110 (the surface facing the substrate S).
전류를 공급받는 기판(S)은 도금액이 채워진 도금조 내에서 전기 도금될 수 있다. 금속봉(110)을 통하여 전류를 공급 받아 기판(S)이 전기 도금될 때, 금속봉(110)은 절연체(130)에 의하여 둘러싸여 있기 때문에, 금속봉(110) 표면에의 불필요한 도금은 일어나지 않는다.The substrate S supplied with current may be electroplated in a plating bath filled with a plating solution. When the substrate S is electroplated by receiving current supplied through the
도 2를 참조하면, 금속봉(110)은 인서트(120)에 삽입되고, 인서트(120)는 절연체(130)에 삽입되는데, 금속봉(110)은 인서트(120)와 탈착이 가능하고, 인서트(120)와 절연체(130)는 서로 부착된 상태에서 서로 분리되지 않는 구조로 구현될 수 있다. Referring to FIG. 2, the
도 3(a)을 참조하면, 기판(S)에 접하기 전의 컨택트 구조체(100)가 도시되어 있다. 이 때에는 금속봉(110)의 상면(기판(S)과 마주보는 면)은 절연체(130)의 상면(기판(S)과 마주보는 면)보다 하측에 위치(기판(S)으로부터 멀리 위치)한다.Referring to FIG. 3(a), the
도 3(b)를 참조하면, 컨택트 구조체(100)가 기판(S)에 접하는 상태가 도시되어 있다. 이 때에는 절연체(130)의 상부가 찌그러지고, 금속봉(110)의 상면은 기판(S)의 일면에 접촉될 수 있다.Referring to FIG. 3(b), the
한편, 도 3을 계속 참조하면, 컨택트 구조체(100, 200)는 한 쌍으로 구성될 수 있다.Meanwhile, continuing to refer to FIG. 3, the
즉, 본 발명의 실시예에 따른 컨택트 구조체는, 하면이 기판(S)의 타면과 마주보게 배치되는 제2의 금속봉(210); 상기 제2의 금속봉(210)의 측면을 둘러싸는 제2의 인서트(220); 및 상기 제2의 인서트(220)를 수용하는 제2의 절연체(230)를 더 포함할 수 있다. That is, the contact structure according to an embodiment of the present invention includes a
제2의 금속봉(210)은, 상술한 금속봉(110)과 동일하고, 제2의 인서트(220)는, 상술한 인서트(120)와 동일하며, 제2의 절연체(230)는, 상술한 절연체(130)와 동일하다. 따라서, 이들에 대한 설명은 생략한다. The
도 3(a)를 참조하면, 기판(S)에 접하기 전의 한 쌍의 컨택트 구조체(100, 200)가 도시되어 있다. 또한, 도 3(b)를 참조하면, 한 쌍의 컨택트 구조체(100, 200)가 기판(S)에 접하는 상태가 도시되어 있다.Referring to FIG. 3(a), a pair of
한 쌍의 컨택트 구조체(100, 200)는 기판(S)의 양면과 접하고, 기판(S)을 고정할 수 있다. 또한, 한 쌍의 컨택트 구조체(100, 200)가 기판(S)과 접촉될 때, 절연체(130, 230)의 변형에 의하여 금속봉(110, 210)이 기판(S)과 접촉될 수 있고, 기판(S)의 양면은 금속봉(110, 210)에 의해 전류를 공급받을 수 있다. 도금액 내에서 전류를 공급 받는 기판(S)은 전기 도금될 수 있다.A pair of
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 컨택트 구조체를 포함하는 기판 홀더를 나타낸 도면이고, 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 컨택트 구조체를 포함하는 기판 홀더와 기판이 결합되는 상태를 나타낸 도면이다. 이하, 도 4 및 도 5를 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 기판 홀더에 대해 설명하지만, 컨택트 구조체에 대한 설명은 도 1 내지 도 3을 더 참조할 수 있다.FIG. 4 is a view showing a substrate holder including a contact structure according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a view showing a state in which a substrate holder including a contact structure according to an embodiment of the present invention and a substrate are coupled. Hereinafter, a substrate holder according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 and 5, but a description of the contact structure may further refer to FIGS. 1 to 3.
본 발명의 실시예에 따른 기판 홀더는, 프레임(10) 및 컨택트 구조체를 포함하고, 컨택트 구조체는 금속봉(110), 인서트(120) 및 절연체(130)를 포함할 수 있다.The substrate holder according to an embodiment of the present invention includes a
프레임(10)은 내측에 기판(S)을 수용하는 개구(중공부)가 마련되고, 기판(S)을 기지하는 역할을 한다. 기판(S)은 프레임(10)에 지지된 채로 프레임(10)과 함께 도금액 내로 입수된다. 개구는 기판(S)과 동일한 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 개구는 사각형일 수 있다. 개구는 기판(S)보다 큰 크기를 가질 수 있다.The
컨택트 구조체는 기판(S)의 일면과 접촉 가능하게 프레임(10)에 결합된다.The contact structure is coupled to the
금속봉(110)은 금속 재질의 기둥이며, 기판(S)과 수직하게 배치되어 기판(S)의 두께 방향으로 연장되고, 기판(S)의 일면을 마주본다. 금속봉(110)은 기판(S)에 전류를 공급하기 위한 것이므로 전도성을 가지는 금속은 어떤 것이든 사용될 수 있다.The
금속봉(110)은 헤드(111)와 바디(112)를 포함하고, 헤드(111)는 상대적으로 큰 폭을, 바디(112)는 상대적으로 작은 폭을 가진다. 헤드(111)와 바디(112)에 의해 금속봉(110)은 'T'와 유사한 형상을 가진다. The
헤드(111)는 기판(S)의 일면과 마주본다. 헤드(111)의 기판(S)의 일면과 마주보는 면에는 선형의 홈이 형성될 수 있다. The
바디(112)는 기판(S)에 수직한 방향으로 연장된다. 즉, 기판(S)의 두께 방향으로 연장된다.
바디(112)는 제1 영역(113)과 제2 영역(114)을 포함할 수 있다. 제1 영역(113)은 헤드(111)와 제2 영역(114) 사이에 위치한다. 제2 영역(114)에는 나사산(T1)이 형성될 수 있다. 제1 영역(113)에는 나사산이 형성되지 않을 수 있다. 또한, 제2 영역(114)의 폭(직경)은 제1 영역(113)의 폭(직경)보다 작을 수 있다.The
제2 영역(114)의 제1 영역(113)과 인접한 지점에는 바디(112)의 외주면을 따라 형성되는 홈이 형성될 수 있다.A groove formed along the outer peripheral surface of the
인서트(120)는 금속봉(110)을 수용하는 구성으로, 금속봉(110)의 측면(둘레면)을 둘러싼다. 인서트(120)는 금속, 플라스틱, 수지 등 다양한 재료로 형성될 수 있다.The
인서트(120) 내에는 수용 공간(121)이 마련되고, 수용 공간(121)은 금속봉(110)의 헤드(111)와 바디(112) 형상에 대응되어, 금속봉(110)은 인서트(120)에 밀착되도록 수용된다. A receiving
금속봉(110)의 바디(112) 중 제1 영역(113)은 인서트(120) 내에 위치하고, 제2 영역(114)은 인서트(120) 하측으로 돌출될 수 있다. 인서트(120)의 기판(S)과 반대측에 위치한 면에는 개구(제1 개구)(121)가 형성되어, 바디(112)의 제2 영역(114)이 인서트(120)의 개구(121)를 관통한다. 개구(121)의 폭은 제2 영역(114)의 폭(최대폭)과 동일하거나 그보다 크고, 제1 영역(113)의 폭보다 작다. The
또한, 제2 영역(114)의 홈은 인서트(120)의 개구(121)와 인접하게 위치할 수 있다. 제2 영역(114)의 홈은 인서트(120)의 개구(121)와 인접하게 인서트(120) 외측에 위치할 수 있다.Additionally, the groove of the
절연체(130)는 인서트(120)를 수용한다. 절연체(130)는 부도체며, 고탄성 재료로 형성될 수 있다. 예를 들어, 절연체(130)는 고무로 형성될 수 있다.The
절연체(130)는 인서트(120)의 측면(둘레면) 그리고 인서트(120)의 기판(S)과 반대측에 위치한 면을 커버하고, 절연체(130)의 기판(S)과 반대측에 위치한 면에는 인서트(120)의 개구(121)와 대응되는 개구(제2 개구)(131)가 마련된다. The
절연체(130)의 개구의 크기(131)는 인서트(120)의 개구(121) 크기와 동일할 수 있고, 절연체(130)의 개구(131)가 인서트(120)의 개구(121)보다 약간 작을 수 있다. 이 경우, 제2 영역(114)의 홈은 절연체(130)를 수용할 수 있다. The size of the
금속봉(110) 바디(112)의 제2 영역(114)이 인서트(120) 개구(121)와 절연체(130) 개구(131)를 관통하여 절연체(130) 외측으로 돌출될 수 있다. The
도 4 및 도 5를 참조할 때, 프레임(10)에는 개구 측으로 돌출되는 돌출부(11)가 마련되고, 돌출부(11)에는 홀(12a, 12b)이 형성되고, 컨택트 구조체는 홀(12a, 12b)에 삽입될 수 있다(도 4(a) 참고). 돌출부(11)의 홀(12a, 12b)은 직경이 큰 홀(12a)과 직경이 작은 홀(12b)를 구비하여 직경이 큰 홀(12a)과 직경이 작은 홀(12b) 간에 단차가 형성된다. 4 and 5, the
컨택트 구조체의 절연체(130) 일부와 금속봉(110)의 제2 영역(114)은 홀(12a, 12b) 내에 삽입될 수 있는데, 절연체(130)의 일부는 직경이 큰 홀(12a)에 삽입되고, 금속봉(110)의 제2 영역(114)은 직경이 작은 홀(12b)에 삽입될 수 있다(도 4(b) 참고). 절연체(130)에서 홀(12a)에 삽입되지 않는 부분의 프레임(10)의 돌출부(11)에 대해 수직하게 돌출된다. A portion of the
컨택트 구조체가 프레임(10)의 돌출부(11)에 삽입되면, 금속봉(110)의 제1 영역(113)의 일부는 인서트(120)와 절연체(130)에 의해 둘러싸인 채로 직경이 큰 홀(12a)에 삽입되고, 제2 영역(114)은 직경이 작은 홀(12b)에 삽입되어 프레임(10)(돌출부(11))으로 둘러싸이므로, 금속봉(110) 전체는 외부로 노출되지 않는다. When the contact structure is inserted into the
특히, 기판(S)이 프레임(10)과 함께 도금액에 침지될 때, 금속봉(110)은 외부로 노출되지 않기 때문에 도금액과 접촉되지 않는다.In particular, when the substrate S is immersed in the plating solution together with the
직경이 큰 홀(12a)의 직경은 절연체(130)의 직경과 거의 동일하거나 그보다 조금 작아서, 절연체(130)가 직경이 큰 홀(12a)에 끼움 결합될 때 절연체(130)와 홀(12a) 사이에 틈이 없는 것이 바람직하다. The diameter of the large-
한편, 도 4(b)에 도시된 바와 같이, 제2 영역(114)에는 제1 나사산(T1)이 형성되고, 직경이 작은 홀(12b) 내측면에는 제1 나사산(T1)과 대응되는 제2 나사산(T2)이 형성되어, 제2 영역(114)은 홀(12b)에 나사 결합될 수 있다.Meanwhile, as shown in FIG. 4(b), a first screw thread T1 is formed in the
도 4(c)를 참조하면, 프레임(10)에는 금속체(13)가 매립되며, 금속체(13)는 돌출부(11)까지 연장된다. 금속체(13)는 전도성을 가지는 금속으로 이루어진 선형 또는 면형의 구조물이며, 전기 도금 시 전류를 전달하는 역할을 한다. 금속체(13)는 컨택트 구조체의 금속봉(110), 특히 제2 영역(114)과 직접 접촉되며, 금속체(13)를 통해 전달되는 전류가 제2 영역(114)을 통해 금속봉(110)으로 흐를 수 있고, 금속봉(110)이 기판(S)과 접할 때 전류는 기판(S)으로 공급된다. Referring to FIG. 4(c), a
한편, 금속체(13)의 산화, 부식 등을 방지하기 위하여 금속체(13)의 외측 표면에 실링재(14)가 형성될 수 있다. 실링재(14)는 고무 등 부도체로 이루어질 수 있고, 금속체(13)의 두께보다 작은 두께를 가질 수 있다. Meanwhile, a sealing
금속체(13) 및 실링재(14)는 프레임(10)(돌출부(11))으로부터 탈착 가능할 수 있다. The
컨택트 구조체의 기판(S)을 마주보는 면에 있어서, 금속봉(110)의 기판(S)과 마주보는 면은 절연체(130)의 기판(S)과 마주보는 면보다 기판(S)으로부터 멀리 위치한다. 즉, 절연체(130)의 상기 면은 금속봉(110)의 상기 면보다 돌출된다. 이 경우, 금속봉(110)의 기판(S)과 마주보는 면은 절연체(130)가 변형되기 전에는 기판(S)의 일면과 접촉될 수 없다.On the side of the contact structure facing the substrate S, the side of the
여기서, 컨택트 구조체가 기판(S)과 가까워지고, 절연체(130)의 상면이 기판(S)의 일면에 맞닿아 가압되는 경우, 절연체(130)는 변형되어 금속봉(110)의 기판(S)과 마주보는 면은 기판(S)의 일면에 접촉될 수 있다. 즉, 절연체(130)의 기판(S) 측 일부가 찌그러짐에 따라 절연체(130)의 길이가 짧아지고, 금속봉(110)의 기판(S)과 마주보는 면은 기판(S)의 일면에 접촉될 수 있다. 이에 따라, 금속봉(110)은 기판(S)에 전류를 공급할 수 있다.Here, when the contact structure approaches the substrate S and the upper surface of the
절연체(130)의 이러한 변형이 가능하기 위해, 절연체(130)는 고무와 같은 고탄성 재질로 형성될 수 있다.To enable this deformation of the
한편, 인서트(120)의 기판(S)과 마주보는 면은 금속봉(110)의 기판(S)과 마주보는 면과 동일평면 상에 위치할 수 있다.Meanwhile, the surface of the
도 5를 참조하면, 컨택트 구조체(100, 200)는 한 쌍으로 구성될 수 있다. 즉, 본 발명의 실시예에 따른 기판 홀더는 기판(S)의 타면과 접촉 가능하게 프레임(10)에 결합되는 제2의 컨택트 구조체(200)를 더 포함할 수 있다.Referring to FIG. 5, the
제2의 컨택트 구조체(200)는, 하면이 기판(S)의 타면과 마주보게 배치되는 제2의 금속봉(210); 상기 제2의 금속봉(210)의 측면을 둘러싸는 제2의 인서트(220); 및 상기 제2의 인서트(220)를 수용하는 제2의 절연체(230)를 더 포함할 수 있다. The
제2의 금속봉(210)은, 상술한 금속봉(110)과 동일하고, 제2의 인서트(220)는, 상술한 인서트(120)와 동일하며, 제2의 절연체(230)는, 상술한 절연체(130)와 동일하다. 따라서, 이들에 대한 설명은 생략한다.The
도 5(a) 및 도 5(b)를 참조하면, 프레임(10)에 기판(S)이 결합되어 있고, 기판(S)은 프레임(10)의 개구(중공부)에 수용되어 돌출부(11)에 의해 지지된다. 또한, 기판(S)의 양면에 한 쌍의 컨택트 구조체(100, 200)가 각각 맞닿아 있다. 이 경우, 컨택트 구조체(100, 200)의 절연체(130, 230)가 변형되어 금속봉(110, 210)이 기판(S)과 직접 접촉될 수 있다. 한 쌍의 컨택트 구조체(100, 200) 각각의 금속봉(110, 210)이 기판(S)의 양면과 접촉된다.Referring to FIGS. 5(a) and 5(b), a substrate S is coupled to the
전원과 전기적으로 연결된 금속봉(110, 210)을 통하여 전류가 기판(S)으로 공급되며, 도금액이 채워진 도금액 내에서 기판(S)은 전기 도금될 수 있다. 기판(S)이 전기 도금될 때, 금속봉(110, 210)은 도금액에 노출되지 않기 때문에, 금속봉(110, 210) 표면에는 도금되지 않는다.Current is supplied to the substrate (S) through the metal rods (110, 210) electrically connected to the power source, and the substrate (S) can be electroplated in the plating solution filled with the plating solution. When the substrate S is electroplated, the
도 5(c)를 참조하면, 프레임(10)의 돌출부(11)는 힌지(hindge) 운동이 가능할 수 있다. 특히, 제2의 컨택트 구조체(200)가 결합되는 돌출부(11)가 힌지 운동을 하여, 기판(S)을 구속 및 해제할 수 있다. 즉, 제2의 컨택트 구조체(200)가 결합되는 돌출부(11)가 외측으로 벌어지면 기판(S)은 구속해제되고, 제2의 컨택트 구조체(200)가 결합되는 돌출부(11)가 기판(S) 이동하면 기판(S)과 맞닿음으로써 기판(S)을 구속할 수 있다. Referring to FIG. 5(c), the
이상, 본 발명의 일 실시예에 대하여 설명하였으나, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서, 구성 요소의 부가, 변경, 삭제 또는 추가 등에 의해 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이며, 이 또한 본 발명의 권리범위 내에 포함된다고 할 것이다.Above, an embodiment of the present invention has been described, but those skilled in the art can add, change, delete or add components without departing from the spirit of the present invention as set forth in the patent claims. The present invention may be modified and changed in various ways, and this will also be included within the scope of rights of the present invention.
10: 프레임
11: 돌출부
12a, 12b: 홀
13: 금속체
14: 실링재
100: 컨택트 구조체
110: 금속봉
111: 헤드
112: 바디
113: 제1 영역
114: 제2 영역
120: 인서트
121: 수용 공간
122: 개구
130: 절연체
131: 개구
200: 제2의 컨택트 구조체
210: 제2의 금속봉
220: 제2의 인서트
230: 제2의 절연체
T1, T2: 나사산
S: 기판10: frame
11: protrusion
12a, 12b: hole
13: Metal body
14: Sealing material
100: Contact structure
110: metal rod
111: head
112: body
113: first area
114: Second area
120: insert
121: Accommodation space
122: opening
130: insulator
131: opening
200: Second contact structure
210: Second metal rod
220: Second insert
230: Second insulator
T1, T2: threaded
S: substrate
Claims (21)
상기 금속봉의 측면을 둘러싸는 인서트(insert); 및
상기 인서트를 수용하는 절연체를 포함하고,
상기 금속봉의 바디는 상기 인서트 내에 위치하는 제1 영역 및 상기 인서트 하측으로 돌출되는 제2 영역을 가지며,
상기 제2 영역의 외주면에 나사산이 형성된, 컨택트 구조체.
A metal rod whose upper surface is disposed to face one side of the substrate and includes a head and a body having a width smaller than the width of the head;
an insert surrounding the side of the metal rod; and
Comprising an insulator accommodating the insert,
The body of the metal rod has a first region located within the insert and a second region protruding downward from the insert,
A contact structure in which a screw thread is formed on the outer peripheral surface of the second region.
상기 헤드의 상면이 상기 기판의 일면과 마주보는, 컨택트 구조체.
According to paragraph 1,
A contact structure where the upper surface of the head faces one surface of the substrate.
상기 인서트 내부에는 상기 금속봉을 수용하는 수용 공간이 마련되고,
상기 수용 공간은 상기 헤드와 바디에 대응되는 형상을 가지는, 컨택트 구조체.
According to paragraph 2,
A receiving space is provided inside the insert to accommodate the metal rod,
A contact structure wherein the receiving space has a shape corresponding to the head and body.
상기 인서트 하면에는 제1 개구가 형성되고, 상기 절연체 하면에는 제2 개구가 형성되고, 상기 제1 영역은 상기 제1 개구 및 상기 제2 개구를 관통하는, 컨택트 구조체.
According to paragraph 1,
A first opening is formed in a lower surface of the insert, a second opening is formed in a lower surface of the insulator, and the first area penetrates the first opening and the second opening.
상기 금속봉의 상면은 상기 절연체의 상면보다 하측에 위치하는, 컨택트 구조체.
According to paragraph 1,
A contact structure wherein the upper surface of the metal rod is located lower than the upper surface of the insulator.
상기 절연체의 상면이 하측으로 가압되는 경우, 상기 절연체는 변형되어 금속봉의 상면이 상기 기판의 일면에 접촉되는, 컨택트 구조체.
In clause 7,
When the upper surface of the insulator is pressed downward, the insulator is deformed so that the upper surface of the metal rod contacts one surface of the substrate.
상기 금속봉의 상면은 상기 인서트의 상면과 동일평면 상에 위치하는, 컨택트 구조체.
In clause 7,
A contact structure wherein the upper surface of the metal rod is located on the same plane as the upper surface of the insert.
하면이 기판의 타면과 마주보게 배치되는 제2의 금속봉;
상기 제2의 금속봉의 측면을 둘러싸는 제2의 인서트(insert); 및
상기 제2의 인서트를 수용하는 제2의 절연체를 더 포함하는, 컨택트 구조체.
According to paragraph 1,
a second metal rod whose lower surface faces the other side of the substrate;
a second insert surrounding a side of the second metal rod; and
The contact structure further comprising a second insulator receiving the second insert.
상기 기판의 일면과 접촉 가능하게 상기 프레임에 결합되는 컨택트 구조체;를 포함하고,
상기 컨택트 구조체는,
상기 기판의 두께 방향으로 연장되며, 상기 프레임과 결합하기 위한 제1 나사산을 가지는 금속봉;
상기 금속봉의 측면을 둘러싸는 인서트(insert); 및
상기 인서트를 수용하는 절연체를 포함하는, 기판 홀더.
A frame provided with an opening inside to receive a substrate and supporting the substrate; and
A contact structure coupled to the frame to enable contact with one surface of the substrate,
The contact structure is,
a metal rod extending in the thickness direction of the substrate and having a first thread for coupling to the frame;
an insert surrounding the side of the metal rod; and
A substrate holder comprising an insulator accommodating the insert.
상기 금속봉은, 큰 폭의 헤드(head)와 작은 폭의 바디(body)를 포함하고,
상기 헤드는 상기 기판의 일면과 마주보는, 기판 홀더.
According to clause 11,
The metal rod includes a head with a large width and a body with a small width,
The head is a substrate holder facing one side of the substrate.
상기 인서트 내부에는 상기 금속봉을 수용하는 수용 공간이 마련되고,
상기 수용 공간은 상기 헤드와 바디에 대응되는 형상을 가지는, 기판 홀더.
According to clause 12,
A receiving space is provided inside the insert to accommodate the metal rod,
The receiving space is a substrate holder having a shape corresponding to the head and body.
상기 금속봉의 바디는
상기 인서트 내에 위치하는 제1 영역; 및
상기 인서트 외측으로 돌출되어, 상기 프레임에 결합되는 제2 영역;을 포함하는, 기판 홀더.
According to clause 12,
The body of the metal rod is
a first region located within the insert; and
A substrate holder comprising: a second region that protrudes outside the insert and is coupled to the frame.
상기 제2 영역의 외주면에 상기 제1 나사산이 형성되는, 기판 홀더.
According to clause 14,
A substrate holder wherein the first screw thread is formed on an outer peripheral surface of the second area.
상기 프레임에는 홀이 형성되고,
상기 홀의 내측면에 상기 제1 나사산과 대응되는 제2 나사산이 형성되며,
상기 제2 영역은 상기 홀에 삽입되는, 기판 홀더.
According to clause 15,
A hole is formed in the frame,
A second screw thread corresponding to the first screw thread is formed on the inner surface of the hole,
The second region is inserted into the hole.
상기 프레임에는 상기 개구 측으로 돌출되는 돌출부가 마련되고,
상기 홀은 상기 돌출부에 형성되는, 기판 홀더.
According to clause 16,
The frame is provided with a protrusion protruding toward the opening,
The hole is formed in the protrusion.
상기 금속봉의 상기 기판의 일면을 마주보는 면은, 상기 절연체의 상기 기판의 일면을 마주보는 면보다 상기 기판의 일면으로부터 멀리 위치하는, 기판 홀더.
According to clause 11,
A surface of the metal rod facing one surface of the substrate is located further away from one surface of the substrate than a surface of the insulator facing the one surface of the substrate.
상기 절연체가 상기 기판의 일면에 접촉되는 경우, 상기 절연체는 변형되어 상기 금속봉의 상기 기판의 일면을 마주보는 면이 상기 기판의 일면에 접촉되는, 기판 홀더.
According to clause 18,
When the insulator contacts one surface of the substrate, the insulator is deformed so that the surface of the metal rod facing the one surface of the substrate contacts the one surface of the substrate.
상기 금속봉의 상기 기판의 일면을 마주보는 면은 상기 인서트의 상기 기판의 일면을 마주보는 면과 동일평면 상에 위치하는, 기판 홀더.
According to clause 18,
A surface of the metal rod facing one side of the substrate is located on the same plane as a side of the insert facing one side of the substrate.
상기 기판의 타면과 접촉 가능하게, 상기 프레임에 결합되는 제2의 컨택트 구조체를 더 포함하고,
상기 제2의 컨택트 구조체는,
상기 기판의 두께 방향으로 제2의 금속봉;
상기 제2의 금속봉의 측면을 둘러싸는 제2의 인서트(insert); 및
상기 제2의 인서트를 수용하는 제2의 절연체를 더 포함하는, 기판 홀더.
According to clause 11,
Further comprising a second contact structure coupled to the frame to enable contact with the other surface of the substrate,
The second contact structure is,
a second metal rod in the thickness direction of the substrate;
a second insert surrounding a side of the second metal rod; and
A substrate holder further comprising a second insulator that accommodates the second insert.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020180104651A KR102580832B1 (en) | 2018-09-03 | 2018-09-03 | Contact structure and substrate holder having the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020180104651A KR102580832B1 (en) | 2018-09-03 | 2018-09-03 | Contact structure and substrate holder having the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20200026556A KR20200026556A (en) | 2020-03-11 |
| KR102580832B1 true KR102580832B1 (en) | 2023-09-20 |
Family
ID=69809825
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020180104651A Active KR102580832B1 (en) | 2018-09-03 | 2018-09-03 | Contact structure and substrate holder having the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102580832B1 (en) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011030379A1 (en) | 2009-09-10 | 2011-03-17 | 株式会社アドバンテスト | Conductive member, connecting member, testing apparatus and method for repairing connecting member |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI601199B (en) * | 2002-11-15 | 2017-10-01 | 荏原製作所股份有限公司 | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
| KR100593872B1 (en) | 2005-11-16 | 2006-06-30 | 김원영 | Jig device for PCB substrate plating |
| EP2093576A4 (en) * | 2006-12-15 | 2010-09-22 | Nhk Spring Co Ltd | CONDUCTIVE CONTACT SUPPORT, CONDUCTIVE CONTACT UNIT AND METHOD FOR MANUFACTURING A CONDUCTIVE CONTACT SUPPORT |
| KR101235228B1 (en) * | 2008-08-08 | 2013-02-20 | 니혼 하츠쵸 가부시키가이샤 | Work member, electric contact member, contact probe, and manufacturing method of electric contact member |
-
2018
- 2018-09-03 KR KR1020180104651A patent/KR102580832B1/en active Active
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011030379A1 (en) | 2009-09-10 | 2011-03-17 | 株式会社アドバンテスト | Conductive member, connecting member, testing apparatus and method for repairing connecting member |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20200026556A (en) | 2020-03-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR200489678Y1 (en) | Thin film type magnetic connector module | |
| KR102056050B1 (en) | Substrate plating jig | |
| KR20170113560A (en) | Electrostatic chuck device and semiconductor manufacturing device | |
| JPWO2020169998A5 (en) | ||
| BR102015032415B1 (en) | apparatus for forming a metallic film and method for forming a metallic film | |
| US20180350534A1 (en) | Switch case and switch | |
| MA29844B1 (en) | INSERT INTENDED TO BE REPORTED IN AN ELEMENT FOR THE ATTACHMENT AND ELECTRICAL CONTACT OF AN ELECTRICAL CONNECTING PITCH | |
| KR102580832B1 (en) | Contact structure and substrate holder having the same | |
| KR20220117308A (en) | Heating device and electronic atomizer | |
| KR20160138666A (en) | Electronic device | |
| US20150171528A1 (en) | Electrical Connector with Upper Conductive Layer | |
| JP2005129452A (en) | Reed relay with conductive bushing and offset current canceling method | |
| US9485855B2 (en) | Substrate reinforcing structure | |
| US9912108B2 (en) | Electrical connector | |
| KR20190072405A (en) | Mounting structure on metal case for electric contact terminal | |
| US9668357B2 (en) | Electrical connector | |
| KR101767240B1 (en) | Energizing inspection device installed on printed circuit board | |
| JP4939484B2 (en) | Cathode cartridge for electroplating | |
| KR101647400B1 (en) | Case and electronic device having the same | |
| CN117346863A (en) | Radar sensors and RF adapters for radar sensors | |
| KR101047327B1 (en) | Antenna connector device | |
| JP2010287888A (en) | Control connection contact device for power semiconductor components | |
| WO2019008060A1 (en) | Electronic control apparatus | |
| JP5925924B1 (en) | Waterproof connector | |
| JP4920969B2 (en) | Electroplating equipment |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109 |
|
| R17-X000 | Change to representative recorded |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R17-oth-X000 |
|
| R18-X000 | Changes to party contact information recorded |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000 |
|
| PG1501 | Laying open of application |
St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501 |
|
| A201 | Request for examination | ||
| PA0201 | Request for examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201 |
|
| D13-X000 | Search requested |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D13-srh-X000 |
|
| D14-X000 | Search report completed |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D14-srh-X000 |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902 |
|
| E13-X000 | Pre-grant limitation requested |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D22-exm-PE0701 |
|
| PR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701 |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002 Fee payment year number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration |
St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601 |