KR101776298B1 - Embedded PCB and Manufacturing method of the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 매립형 인쇄회로기판의 제조방법 및 이에 따른 구조물에 관한 것으로, 특히 본 제조공정은 캐리어 상에 형성된 제1금속층의 상면에 칩실장영역을 형성하고 전자소자칩을 실장하는 1단계와 상기 전자소자칩을 매립하는 절연층과 제2금속층을 포함하는 내부회로패턴층을 형성하는 2단계, 상기 내부 회로패턴층과 솔더비아 및 도전비아를 통해 전기적으로 연결하는 외부회로패턴층을 형성하는 3단계를 포함하여 구성된다.
본 발명에 따르면, 능동소자와 수동소자를 기판 내 내장하는 매립형인쇄회로기판(Embedded PCB)의 제조에 있어서, 소자의 연결단자와 외부회로를 직접 연결하는 솔더비아를 구비하여 소자와 패드를 연결하는 종래의 기술과는 한번에 능동소자 및 수동소자를 동시에 일괄접합하고 외부패턴과의 전기적 연결을 하나의 솔더비아로 구현할 수 있도록 하여 공정의 간소화를 통해 생산성을 높일 수 있으며, 특히 능동소자의 패드 피치를 극 미세화할 수 있는 효과가 있다.The present invention relates to a method of manufacturing a buried printed circuit board and a structure therefor. More particularly, the present manufacturing process includes a first step of forming a chip mounting area on a top surface of a first metal layer formed on a carrier and mounting an electronic device chip, Forming an internal circuit pattern layer including an insulating layer and a second metal layer for embedding the device chip, forming an external circuit pattern layer electrically connecting the internal circuit pattern layer and the solder via via the conductive via, .
According to the present invention, in manufacturing a buried printed circuit board (Embedded PCB) in which an active element and a passive element are embedded in a substrate, a solder via for directly connecting a connection terminal of the element and an external circuit is provided, The active device and the passive device can be bonded together at the same time and the electrical connection to the external pattern can be realized by one solder via, thereby improving the productivity by simplifying the process. Particularly, the pad pitch of the active device There is an effect that the minute size can be reduced.
Description
본 발명은 매립형 인쇄회로기판의 제조방법에 관한 것으로, 특히 전자소자칩의 실장구조 및 방법의 효율화를 구현할 수 있는 기술에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
인쇄회로기판은 반도체, 전자기기의 발전과 동시에 전자부품의 하나로서 그 지위를 굳히고 있으며, 라디오, 텔레비전, PCS 등의 각종 전기, 전자제품에서부터 컴퓨터 및 최첨단 전자 장비에 이르기까지 모든 전기, 전자기기 등의 회로를 구현하는 부품으로서 널리 사용되고 있다. 최근 이 분야의 기술상의 진보가 현저해짐에 따라서 인쇄회로기판에 있어서 고도의 품질이 요구되고 있으며 이에 의해 급속히 고밀도화하는 현상을 나타내고 있다. 특히, 부품 내장형 인쇄회로기판(Embedded PCB)의 제조에서는 부품이 표면 실장 될 부분에 Au 등의 금속물질을 도금하고 이를 위하여 드라이필름레지스트(이하, 'DFR'이라 한다.)을 이용하여 마스킹 처리를 하는 공정을 통해 이를 구현하고 있다.Printed circuit boards are solidifying their position as one of the electronic components at the same time as the development of semiconductors and electronic devices. They are used in all kinds of electrical and electronic devices, such as radio, television, PCS, Is widely used as a component for implementing the circuit of FIG. Recently, as technological advances in this field have become remarkable, a high quality of a printed circuit board has been demanded, which has led to a rapid increase in density. Particularly, in the manufacture of embedded PCBs, metal parts such as Au are plated on the parts to be surface mounted, and masking treatment is performed using dry film resist (hereinafter referred to as "DFR"). This is accomplished through the process of
이러한 매립형 인쇄회로기판(Embedded PCB)의 핵심기술 중 가장 중요한 부분의 하나는, 내장 부품의 High I/O Count의 대응 여부이다. 이는 결국 미세피치(Fine Pitch) 구현 수준으로 나타낼 수 있으며 이를 위해서 대부분의 개발 기술에서는 전자소자칩을 회로와 연결하기 위해 비아와 랜드(Via/Land), 혹은 메탈범프와 랜드(Metal Bump/Land), 혹은 솔더와 솔더패드(Solder/Pad)와 같은 구조를 이용한 접합 공정 등의 미세패턴(Fine Pattern) 회로기술을 이용하여 구현하고 있다.One of the most important core technologies of Embedded PCB is whether high I / O count of internal parts is supported. As a result, it can be expressed as a level of implementation of fine pitch. For this purpose, in most developed technologies, vias and lands or metal bumps / lands are used to connect electronic device chips to circuits. , Or a bonding process using a structure such as a solder and a solder / pad, using a fine pattern circuit technology.
도 1을 참조하면, 이는 종래의 매립형 인쇄회로기판의 제조공정에서 전자소자칩을 솔더와 솔더패드(Solder/Pad)를 이용하여 인쇄회로기판에 장착하는 공정을 개념적으로 도시한 것이다.Referring to FIG. 1, this conceptually illustrates a process of mounting an electronic device chip on a printed circuit board using a solder and a solder / pad in a conventional manufacturing process of a buried type printed circuit board.
종래에는, 절연층(1)과 외각의 금속층(2, 2') 및 회로패턴(3)이 구현된 내층회로기판 상에 전자소자칩(5)을 접속하기 위해서는 도시된 것처럼, 솔더볼 패드(6)에 솔더볼(7)을 형성하고, 인쇄회로기판의 회로패턴(3)의 일부와 간접적으로 연결하는 구조를 구현하게 된다. 이후, 이를 뒤집어 절연층(8)을 적층하고, 외각회로패턴을 구현(10)하거나 비아홀(11)을 가공하여 도금처리하여 회로를 완성하게 된다.Conventionally, in order to connect the
이 경우 내장되는 부품인 전사소자칩과 인쇄회로기판을 연결하기 위해서는 비아와 랜드(Via/Land), 혹은 메탈범프와 랜드(Metal Bump/Land), 혹은 솔더와 솔더패드(Solder/Pad) 등을 이용하고 있으나 이 경우 부품 전극의 피치감소에는 한계가 발생한다. 특히, 솔더 패드(Solder Pad)를 이용하는 경우에 있어서 수동소자와 능동소자의 연결은 기술적 난이도가 상이하여 수동소자는 솔더(Solder) 인쇄 기술로 연결하면서 능동소자는 다른 접합 기술로 연결하는 경우가 있다. 이런 경우 공정 추가에 따른 작업성에 제약이 발생하고 추가적인 불량이 발생할 가능성이 크다.In this case, it is necessary to connect vias and lands, metal bumps and lands, or solder and solder pads to connect the built-in transfer element chips to the printed circuit board. However, in this case, there is a limit in reducing the pitch of the component electrodes. Particularly, when a solder pad is used, there is a case where a passive element is connected to a solder printing technique due to a difference in technical difficulty between the passive element and the active element, while the active element is connected with another bonding technique . In this case, there is a possibility that the workability due to the addition of the process is limited and additional defects may occur.
아울러 비아(Via)를 이용하여 칩을 연결하는 경우에는 공정상의 연결성 때문에 Fill 도금 등의 도금기술이 적용되나, 별도의 설비 투자가 있어야 하며 재료비의 상승이 생기는 난점이 존재하게 된다.In addition, when a chip is connected using a via, a plating technique such as fill plating is applied due to the process connection, but there is a need to invest in a separate facility and raise a material cost.
본 발명은 상술한 과제를 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 능동소자와 수동소자를 기판 내 내장하는 매립형 인쇄회로기판(Embedded PCB)의 제조에 있어서, 소자의 연결단자와 외부회로를 직접 연결하는 솔더비아를 구비하여 소자와 패드를 연결하는 종래의 기술과는 한번에 능동소자 및 수동소자를 동시에 일괄접합하고 외부패턴과의 전기적 연결을 하나의 솔더비아로 구현할 수 있도록 하여 공정의 간소화를 통해 생산성을 높일 수 있으며, 특히 능동소자의 패드 피치를 극 미세화할 수 있는 제조공정을 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been conceived to solve the problems described above, and it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a buried type printed circuit board (Embedded PCB) in which an active element and a passive element are embedded in a substrate, The present invention relates to a solder via for connecting a device and a pad together by connecting the active element and the passive element at the same time and by electrically connecting the external pattern to the external pattern by a single solder via, And to provide a manufacturing process capable of extremely miniaturizing the pad pitch of the active device.
상술한 과제를 해결하기 위한 수단으로서, 본 발명의 구성은 캐리어 상에 형성된 제1금속층의 상면에 칩실장영역을 형성하고 전자소자칩을 실장하는 1단계; 상기 전자소자칩을 매립하는 절연층과 제2금속층을 포함하는 내부회로패턴층을 형성하는 2단계; 상기 내부회로패턴층과 솔더비아 및 도전비아를 통해 전기적으로 연결하는 외부회로패턴층을 형성하는 3단계; 를 포함하는 매립형 인쇄회로기판의 제조방법을 제공할 수 있다.As a means for solving the above-mentioned problems, the present invention is a semiconductor device comprising: a first step of forming a chip mounting region on an upper surface of a first metal layer formed on a carrier and mounting an electronic device chip; A second step of forming an internal circuit pattern layer including an insulating layer and a second metal layer for embedding the electronic device chip; Forming an external circuit pattern layer electrically connecting the internal circuit pattern layer and the solder via via the conductive via; And a method of manufacturing the buried type printed circuit board.
상기 1단계는, a 1) 상기 제1금속층의 상면에 칩실장영역의 주변부를 금속패턴층으로 구현하여 칩실장영역을 형성하는 단계; a 2) 상기 전자소자칩을 접착물질을 매개로 칩실장영역에 접착하는 단계; 로 구성될 수 있다. 특히 상기 a 1) 단계는, 상기 제1금속층의 상면에 스크린인쇄(screen printing), 전해도금, 스퍼터링(suppering), 증발법(evaporation), 잉크젯팅, 디스펜싱 중 어느 하나 또는 이들의 조합된 방식을 이용하여 금속패턴층을 구현하는 단계로 구성될 수 있으며, 상기 a 2) 단계는, 상기 칩실장영역 상에 접착물질을 매개로 적어도 1 이상의 능동소자를 포함하거나, 능동소자와 수동소자를 각각 1 이상 실장하는 단계로 형성할 수 있다.The first step includes: a 1) forming a chip mounting region by forming a peripheral portion of a chip mounting region on a top surface of the first metal layer as a metal pattern layer; a 2) bonding the electronic device chip to a chip mounting area via an adhesive material; ≪ / RTI > Particularly, the a1) step may be performed by any one of screen printing, electroplating, suppering, evaporation, ink jetting and dispensing on the top surface of the first metal layer or a combination thereof , And the step a2) may include at least one active element via an adhesive material on the chip mounting region, or may include a step of forming a metal pattern layer using the active element and the
아울러, 상술한 제조공정에 있어서의 상기 2단계는, b 1) 상기 전자소자칩의 주변부를 매립하는 적어도 1 이상의 절연층군과, 상기 절연층군 상부의 내부회로금속층을 적층 하는 단계; b 2) 상기 캐리어를 제1금속층에서 분리하고, 상기 전자소자칩의 단자부가 노출될 때까지 상기 제1금속층에 에칭을 수행하는 단계; b 3) 상기 내부회로금속층 및 제1금속층을 패터닝하여 내부회로패턴을 형성하는 단계; 를 포함하여 구성될 수 있다.In addition, the second step in the manufacturing process described above may include the steps of: 1) laminating at least one insulating layer group for embedding a peripheral portion of the electronic device chip and an internal circuit metal layer on the insulating layer group; b) separating the carrier from the first metal layer and performing etching on the first metal layer until a terminal portion of the electronic device chip is exposed; b 3) patterning the internal circuit metal layer and the first metal layer to form an internal circuit pattern; As shown in FIG.
또한, 상술한 제조공정에 있어서의 상기 3단계는, c 1) 상기 내부회로패턴을 매립하는 외부절연층을 적층 하는 단계; c 2) 상기 외부절연층을 가공하여 솔더비아 및 도전비아를 형성하는 단계; c 3) 상기 전자소자칩 또는 내부회로패턴과 전기적으로 연결되는 외부회로패턴을 형성하는 단계; 를 포함하여 구성될 수 있다. 이 경우 상기 c 2) 단계는, 상기 외부절연층을 상기 내부회로패턴 또는 전자소자칩의 단자를 외부로 노출되도록 가공홀을 형성하고, 상기 가공홀에 솔더재를 충진하거나 금속물질은 선택적으로 충진하여 솔더비아 및 도전비아를 형성하는 단계로 구성될 수 있다.The above-described three steps in the manufacturing process may include: 1) laminating an external insulating layer for embedding the internal circuit pattern; c2) processing the outer insulating layer to form solder vias and conductive vias; c) forming an external circuit pattern electrically connected to the electronic device chip or the internal circuit pattern; As shown in FIG. In this case, in the step c2), a process hole may be formed so that the external insulating layer may be exposed to the outside of the internal circuit pattern or the terminal of the electronic device chip, the solder material may be filled in the process hole, To form solder vias and conductive vias.
이 경우 솔더비아를 형성하기 위한 상기 솔더재의 충진은 메탈마스크를 어라인하여 솔더프린팅 공정으로 수행될 수 있다.In this case, the filling of the solder material for forming the solder via can be performed by a solder printing process by taking a metal mask.
또한, 상술한 상기 c 2) 및 c 3) 단계는, 상기 전자소자칩과 외부회로패턴의 전기적 연결은 솔더비아를 통해 수행되도록 하며, 그외 내부회로패턴과 외부회로패턴 간의 전기적 연결은 도전비아를 통해 수행될 수 있다.The electrical connection between the electronic device chip and the external circuit pattern may be performed through the solder via. The electrical connection between the internal circuit pattern and the external circuit pattern may include a conductive via Lt; / RTI >
아울러, 상기 3단계 이후에, 상기 외부회로패턴의 일부를 선택적으로 노출하도록 솔레지스트 층을 패터닝하여 형성하는 단계와, 상기 외부회로패턴의 노출면에 표면처리층을 형성하는 단계를 더 포함하여 구성될 수 있다.The method may further include the step of patterning and forming a sol-resistant resist layer to selectively expose a part of the external circuit pattern after the
이 경우 상기 표면처리층은, 외부회로패턴의 노출면에 Cu, Ni, Pd, Au, Sn, Ag, Co 중 어느 하나 또는 이들의 이원, 원 합금을 이용하여 단층 또는 다층으로 도금처리가 수행되어 형성될 수 있다.In this case, the surface treatment layer is subjected to plating treatment in a single layer or in multiple layers using any one of Cu, Ni, Pd, Au, Sn, Ag and Co, or a binary or an alloy thereof on the exposed surface of the external circuit pattern .
아울러, 상술한 제조공정에 부가하여 상기 외부회로패턴의 상면에 절연층 및 금속층을 적층하고, 상기 금속층을 가공하여 상기 외부회로패턴과 전기적으로 연결되는 회로패턴을 가공하는 단계가 적어도 1회 이상 반복되는 공정을 추가적으로 수행하여 다층의 인쇄회로기판을 형성할 수 있다.
In addition to the above-described manufacturing steps, the step of laminating the insulating layer and the metal layer on the upper surface of the external circuit pattern, and processing the circuit pattern electrically connected to the external circuit pattern by processing the metal layer is repeated at least once or more A plurality of layers of the printed circuit board can be formed.
상술한 제조공정에 따라 제조되는 인쇄회로기판의 구조는 다음과 같다.The structure of the printed circuit board manufactured according to the above-described manufacturing process is as follows.
구체적으로는, 절연층의 내부에 형성되는 다수의 내부 회로패턴과 전기적으로 연결되는 외부 회로패턴; 상기 절연층의 내부에 매립되는 전자소자칩과 상기 외부회로패턴을 연결하는 솔더비아; 를 포함하는 구조로 형성될 수 있다.Specifically, an external circuit pattern electrically connected to a plurality of internal circuit patterns formed inside the insulating layer; A solder via connecting the electronic device chip embedded in the insulating layer and the external circuit pattern; As shown in FIG.
이 경우 상기 내부 및 외부회로패턴의 전기적 연결은 비아홀에 도금물질이 충진되는 도금비아를 통해 구현될 수 있으며, 상기 내부 회로패턴은, 상기 전자소자칩의 단자면과 수평면에 형성되는 제1내부회로패턴과, 상기 전자소자칩의 상부와 이격되는 제2내부회로패턴을 적어도 1 이상 구비하는 구조로 형성될 수 있다.In this case, the electrical connection between the inner and outer circuit patterns may be realized through a plating via filled with a plating material in the via hole. The inner circuit pattern may include a first inner circuit Pattern and a second internal circuit pattern that is spaced apart from an upper portion of the electronic device chip.
상술한 구조에서의 상기 전자소자칩은, 상기 제1내부회로패턴의 사이의 칩실장영역에 배치되는 적어도 1 이상의 능동소자 또는 적어도 1 이상의 능동소자 및 수동소자일 수 있으며, 이 경우 상기 칩실장영역과 전자소자칩의 단자의 계면에는 접착물질이 충진될 수 있다.The electronic element chip in the above-described structure may be at least one or more than one active element and a passive element disposed in a chip mounting region between the first internal circuit patterns. In this case, And the terminal of the electronic device chip may be filled with an adhesive material.
상술한 본 발명에 따른 매립형 인쇄회로기판의 상기 외부회로패턴의 일부를 선택적으로 노출하는 솔더레지스트 패턴층과, 상기 외부회로패턴의 노출면에 형성되는 표면처리층을 더 포함하여 구성될 수 있으며, 이 경우 상기 표면처리층은, 외부회로패턴의 노출면에 Cu, Ni, Pd, Au, Sn, Ag, Co 중 어느 하나 또는 이들의 이원, 원 합금을 이용하여 단층 또는 다층으로 도금처리가 수행되어 형성될 수 있다.A solder resist pattern layer selectively exposing a part of the external circuit pattern of the buried type printed circuit board according to the present invention and a surface treatment layer formed on an exposed surface of the external circuit pattern, In this case, the surface treatment layer is subjected to plating treatment in a single layer or in multiple layers using any one of Cu, Ni, Pd, Au, Sn, Ag and Co, or a binary or an alloy thereof on the exposed surface of the external circuit pattern .
아울러 상기 외부회로패턴의 상부에 상기 외부회로패턴과 전기적으로 연결되는 제2외부회로패턴 및 절연층이 적어도 1 이상 적층되는 구조의 매립형 인쇄회로기판으로 구현될 수 있다.And a buried printed circuit board having a structure in which at least one second external circuit pattern and an insulating layer are stacked on the external circuit pattern and electrically connected to the external circuit pattern.
본 발명에 따르면, 능동소자와 수동소자를 기판 내 내장하는 매립형인쇄회로기판(Embedded PCB)의 제조에 있어서, 소자의 연결단자와 외부회로를 직접 연결하는 솔더비아를 구비하여 소자와 패드를 연결하는 종래의 기술과는 한번에 능동소자 및 수동소자를 동시에 일괄접합하고 외부패턴과의 전기적 연결을 하나의 솔더비아로 구현할 수 있도록 하여 공정의 간소화를 통해 생산성을 높일 수 있으며, 특히 능동소자의 패드 피치를 극 미세화할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, in manufacturing a buried printed circuit board (Embedded PCB) in which an active element and a passive element are embedded in a substrate, a solder via for directly connecting a connection terminal of the element and an external circuit is provided, The active device and the passive device can be bonded together at the same time and the electrical connection to the external pattern can be realized by one solder via, thereby improving the productivity by simplifying the process. Particularly, the pad pitch of the active device There is an effect that the minute size can be reduced.
특히, 수동소자와 능동소자의 접합공정 후 동시에 일괄적으로 외부회로와의 접속을 진행함으로써, 150㎛ 이하의 능동소자의 패드 피치에 대응할 수 있으며, 인쇄회로기판의 설계의 자유도를 극대화할 수 있는 장점이 있다.Particularly, it is possible to cope with the pad pitch of the active element of 150 탆 or less and to maximize the degree of freedom of design of the printed circuit board by simultaneously connecting the external circuit with the passive element and the active element at the same time There are advantages.
도 1은 종래의 인쇄회로기판에 전자소자칩을 매립하는 구조로 실장하는 공정을 도시한 개념도이다.
도 2a 내지 도 2e는 본 발명에 따른 매립형 인쇄회로기판의 제조공정을 도시한 순서도 및 공정도이다.
도 3은 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 변형된 실시예의 제조공정을 도시한 공정도이다.1 is a conceptual view showing a process of mounting a conventional electronic device chip on a printed circuit board.
2A to 2E are a flow chart and a process diagram showing a manufacturing process of a buried type PCB according to the present invention.
3 is a process diagram showing a manufacturing process of a modified embodiment of the printed circuit board according to the present invention.
이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 구성 및 작용을 구체적으로 설명한다. 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 도면 부호에 관계없이 동일한 구성요소는 동일한 참조부여를 부여하고, 이에 대한 중복설명은 생략하기로 한다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Hereinafter, the configuration and operation according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the following description with reference to the accompanying drawings, the same reference numerals denote the same elements regardless of the reference numerals, and redundant description thereof will be omitted. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.
본 발명은 전자소자칩과 외부회로와의 전기적 연결을 별도의 패드나 솔더볼을 매개로 하지 않고, 솔더재가 충진된 솔더비아를 통해 구현하여 새로운 설비 투자없이도 재료비용을 절감하며 미세 피치를 구현할 수 있는 기술을 제공하는 것을 그 요지로 한다.The present invention realizes electrical connection between an electronic element chip and an external circuit through a solder via filled with a solder material instead of a separate pad or solder ball so that material cost can be reduced without introducing new equipment investment and fine pitch can be realized Technology is provided.
도 2a 내지 도 2e는 본 발명에 따른 매립형 인쇄회로기판의 제조공정의 순서도 및 공정도를 도시한 것이다.FIGS. 2A to 2E are a flow chart and a process diagram of a manufacturing process of a buried type printed circuit board according to the present invention.
본 발명에 따른 인쇄회로기판의 제조공정은 캐리어 상에 형성된 제1금속층의 상면에 칩실장영역을 형성하고 전자소자칩을 실장하는 1단계와 상기 전자소자칩을 매립하는 절연층과 제2금속층을 포함하는 내부회로패턴층을 형성하는 2단계, 그리고 상기 내부 회로패턴층과 솔더비아 및 도전비아를 통해 전기적으로 연결하는 외부회로패턴층을 형성하는 3단계를 포함하여 이루어진다.A manufacturing process of a printed circuit board according to the present invention includes a first step of forming a chip mounting area on a top surface of a first metal layer formed on a carrier and mounting an electronic device chip, And forming an external circuit pattern layer electrically connecting the internal circuit pattern layer and the solder via via the conductive via.
제시된 순서도 및 공정도를 참조하여 상술한 공정을 구체적으로 설명하기로 한다.The above-described process will be described in detail with reference to the flowchart and the flowchart shown in the drawings.
1. 칩실장영역에 전자소자칩의 실장(1단계)1. Mounting the electronic device chip in the chip mounting area (Step 1)
상기 1단계는, 도 2b에 도시된 것처럼, 캐리어(120) 상에 형성된 제1금속층(110)의 상면에 칩실장영역을 형성하고, 상기 칩실장영역에 전자소자칩을 실장하는 공정으로 수행될 수 있다(S 1단계).In the first step, as shown in FIG. 2B, a chip mounting area is formed on the top surface of the
구체적으로는, S 1단계의 세부공정으로 도시된 바와 같이, 제1금속층(110)을 지지하는 캐리어(120)를 적층 한다(S11~S12). 상기 캐리어(120)는 상기 제1금속층(110)을 제조공정에서 안정되게 지지할 수 있는 구조물로서 다양한 방식의 캐리어를 사용할 수 있으며, 본 실시예에서는 동박층(121)과 접착물질(122), 지지절연층(123)을 구비하는 구조로 구현된 것을 적용한다. 추후 상기 동박층(121)과 상기 제1금속층(110)을 이형 시켜 캐리어를 제거하게 된다. 이형을 용이하기 위해서는 상기 동박층(121)의 두께가 상기 제1금속층(110)의 두께보다 두꺼운 것이 바람직하다.Specifically, the
이후에, 상기 제1금속층(110)의 상부 면에 드라이필름레지스트(D)를 패터닝하고 도금공정을 통해 칩실장 영역(C)을 형성하는 금속패턴층(130)을 형성한다(S13~S14). 이 경우 금속패턴층(130)의 형성 방법은 상기 제1금속층의 상면에 스크린인쇄(screen printing), 전해도금, 스퍼터링(suppering), 증발법(evaporation), 잉크젯팅, 디스펜싱 중 어느 하나 또는 이들의 조합된 방식을 이용하여 금속패턴층을 구현하는 공정이 수행될 수 있다.A dry film resist D is patterned on the upper surface of the
상기 칩실장영역(C)이란 상기 금속패턴층(130)이 캐비티를 형성된 영역으로 이후, 이 공간에 접착물질(B)을 매개로 전자소자칩(150, 151)을 접착하여 실장한다(S15~S17). 상기 전자소자칩은 능동소자 또는 수동소자를 포함하는 개념이다.
The chip mounting area C is a region in which the
2. 내부회로패턴층의 형성공정(2단계)2. Process of forming internal circuit pattern layer (step 2)
전자소자칩의 실장공정 이후에는, 상기 전자소자칩을 매립하는 절연층과 제2금속층을 포함하는 내부회로패턴층을 형성하는 공정이 수행된다(S 2단계).특히, 본 발명에 따른 제조공정에서는 능동소자칩(140)을 포함하는 다수의 칩이 실장된 매립형 인쇄회로기판을 바람직한 실시예로 기술하게 되는바, 적어도 1 이상의 능동소자칩(140)만으로 형성되거나, 능동소자와 수동소자(150)가 적어도 1 이상 실장 되는 실시예를 포함한다.After the step of mounting the electronic device chip, a step of forming an internal circuit pattern layer including the insulating layer and the second metal layer for embedding the electronic device chip is performed (step S 2). In particular, A buried printed circuit board on which a plurality of chips including the
도시된 도 2c를 참조하면, 우선 실장된 전자소자칩(140, 150)의 상부에 상기 전자소자칩의 주변부를 매립하는 적어도 1 이상의 절연층군(160)과, 상기 절연층군(160) 상부의 내부회로금속층(170)을 적층 하는 단계가 수행된다(S21). 상기 절연층군(160)은 상기 외부절연층은 에폭시, 페놀수지, 프리프레그, 폴리이미드 필름, ABF 필름 등이 이용될 수 있다. 아울러 상기 절연층군은 상기 전자소자칩의 측면주위를 둘러싸는 제1절연층군(161)과 상기 전자소자칩의 상부와 제1절연층군(161)의 상부에 적층되는 제2절연층군(162)로 구현될 수 있으며, 상기 제1절연층군(161)은 기본적으로 전자소자칩과 대응되는 위치가 개구된 구조를 구비하는 것이 바람직하다. (본 실시예와는 달리, 상기 제1절연적층군(161)은 소정의 회로패턴을 표면에 구비하고, 이 회로패턴 간을 비아홀을 통해 전기적으로 연결하는 구조를 구비하여 적층되는 것도 가능하다.)Referring to FIG. 2C, at least one
이후, 상술한 상기 캐리어를 제1금속층에서 분리하고(S23), 분리된 기판을 뒤집어서(Flip)어 이후 공정을 수행하는 것으로 공정설명을 하기로 한다(S 24).Next, the above-described carrier is separated from the first metal layer (S23), and the separated substrate is flipped and the subsequent process is performed (S24).
공정의 편의를 위해 기판을 뒤집은 후, 상기 전자소자칩(140)의 단자부가 노출될 때까지 상기 제1금속층(110)에 에칭을 수행하게 되며, 이 경우 상술한 금속패턴층(130)과 전자소자칩의 단자, 접착물질이 노출될 수 있다(S 25).The
이후, 드라이필름레지스트(D 1, D 2)를 기판의 양면에 패터닝하고, 선택적으로 금속패턴층(130)과 내부회로금속층(170)을 에칭하여 내부회로패턴을 형성할 수 있다. 상기 내부회로패턴은 금속패턴층(130)이 에칭되어 형성되는 제1내부회로(131)와 내부회로금속층(170)이 패터닝된 제2내부회로(171)로 구성된다. 이후 추가 공정을 위해서 외부절연층(180, 181)이 적층될 수 있다. 이에 대해서는 이하에서 설명한다. 상기 외부절연층은 에폭시, 페놀수지, 프리프레그, 폴리이미드 필름, ABF 필름 등이 이용될 수 있다.
Thereafter, the internal circuit patterns can be formed by patterning the dry film resist (
3. 외부회로패턴층 형성 및 솔더비아형성(3단계)3. External circuit pattern layer formation and solder via formation (step 3)
이후, 도 2d에 도시된 도면을 참조하면, 상기 내부회로패턴(131, 171)을 구현한 후에는, 상기 내부회로패턴을 매립하는 외부절연층(180, 181)을 적층하고, 상기 외부절연층을 기계적인 가공을 통해 가공홀(H)을 구현한다(S 31). 상기 가공홀(H)은 전자소자칩의 단자부분이 노출되거나 내부회로패턴 면이 노출되도록 형성함이 바람직하다.2D, after the
이후, 상기 가공홀(H)의 일부에 금속 마스크(M)를 어라인하고, 솔더 프린팅 공정을 통해 솔더비아(SP)를 형성한다. 상기 솔더비아(SP)란 가공홀 내부에 솔더페이스트가 충진된 구조물을 말하며, 상기 솔더비아는 상지 전자소자칩의 단자와 외부회로패턴을 전기적으로 연결하게 된다. 솔더 스크린 프린팅(Solder Screen Printing) 방식은 메탈 마스크(M)를 어라인하여 스크린 프린팅을 수행하는 방식으로, 솔더 프린팅 시 메탈마스크의 두께나 디자인, 프린팅되는 솔더의 양을 조절할 수 있다. 이후 리플로우(Reflow), 디플럭스(Dwflux)공정이 수반될 수 있다.Then, a metal mask M is placed on a part of the processing hole H, and a solder via SP is formed through a solder printing process. The solder via SP is a structure in which a solder paste is filled in a machining hole, and the solder via electrically connects a terminal of the upper electronic device chip to an external circuit pattern. In the solder screen printing method, screen printing is performed by using a metal mask (M), and it is possible to control the thickness and design of the metal mask and the amount of solder to be printed upon solder printing. Thereafter, reflow and Dwflux processes may be involved.
이후, 솔더비아(SP)가 구현되지 않는 다수의 가공홀(H 1)을 충진함과 동시에 외각회로를 형성하기 위한 외각회로금속층(190)을 형성한다(S34). 상기 가공홀(H)를 솔더비아가 아닌 금속물질로 충진하여 내부회로패턴과 후술할 외부회로패턴 간의 전기적 연결을 구현하는 구조물을 '도금비아(H 2)'라고 정의한다. 금속물질의 충진은 도금 방식이 가장 일반적이며, 스크린인쇄(screen printing), 전해도금, 스퍼터링(suppering), 증발법(evaporation), 잉크젯팅, 디스펜싱 중 어느 하나 또는 이들의 조합된 방식을 이용하여 구현될 수도 있다.Thereafter, an outer
이후, 상기 외각회로금속층(190)을 패터닝하여 외각회로패턴(191)을 구현한다(S 35).
Then, the outer
4. 표면처리공정4. Surface treatment process
상술한 공정 이후에는 도 2e에 도시된 것과 같이, S 4단계의 공정으로 상기 외층회로패턴(191)의 일부를 선택적으로 노출하는 솔더레지스트 패턴층(210)과, 상기 외층회로패턴의 노출면에 형성되는 표면처리층(211)을 더 형성시키는 공정이 추가될 수 있다. 이 경우 상기 표면처리층은, 외부회로패턴의 노출면에 Cu, Ni, Pd, Au, Sn, Ag, Co 중 어느 하나 또는 이들의 이원, 원 합금을 이용하여 단층 또는 다층으로 도금처리를 수행하여 형성할 수 있다.
2E, the solder resist
5. 멀티레이어(Multi layer) 구현 공정5. Multi-layer implementation process
도 3을 참조하여, 도 2d의 S 3단계 이후의 공정을 변형하여 상술한 구조와 다른 구조의 인쇄회로기판을 형성하는 공정을 설명하기로 한다.Referring to FIG. 3, a process of forming a printed circuit board having a structure different from the above-described structure by modifying the step after
외부회로패턴(191)을 완성한 후, 그 상부에 절연층(220) 및 금속층(230)을 적층하고(S 5~S 7단계), 상기 금속층을 가공하여 상기 외부회로패턴(191)과 전기적으로 연결되는 제2외부회로패턴(232)을 가공하는 단계(S 8~S 9단계)가 적어도 1회 이상 반복됨으로써, 복층 구조를 구비하는 다층 인쇄회로기판으로 구현 가능하게 된다. 상기 외부회로패턴(191)과 제2외부회로패턴(232)의 전기적 연결은 S 9단계의 공정에서처럼 비아홀(H 3)을 가공하고, 여기에 금속물질을 충진하여 구현하게 된다.
After the
상술한 제조공정에 의해 형성되는 매립형 인쇄회로기판은 다음과 같은 구조로 형성될 수 있다. 제조되는 인쇄회로기판의 구조는 도 2e의 구조와 도 3e의 S 9단계의 구조물의 도면을 참조하여 설명하기로 한다.The buried type printed circuit board formed by the manufacturing process described above can be formed with the following structure. The structure of the printed circuit board to be manufactured will be described with reference to the structure of FIG. 2E and the structure of the step S9 of FIG. 3E.
본 제조공정에 따른 매립형 인쇄회로기판은, 절연층(160)의 내부에 형성되는 다수의 내부 회로패턴(131, 171)과 전기적으로 연결되는 외부 회로패턴(191)을 구비하며, 상기 절연층(160)의 내부에 매립되는 전자소자칩(140, 150, 151)과 상기 외부회로패턴(191)을 연결하는 솔더비아(SP)를 포함하여 형성될 수 있다.The buried type printed circuit board according to the present manufacturing process includes an
즉, 상기 전자소자칩(140, 150, 151)의 연결단자와 외부회로패턴(191)과의 전기적 연결은 솔더페이스트가 충진된 구조의 솔더비아(SP)를 통해 구현될 수 있으며, 그외의 상기 내부 및 외부회로패턴(131, 191) 사이의 전기적 연결은 비아홀에 도금물질이 충진되는 도금비아(H 2)를 통해 구현하게 된다.That is, the electrical connection between the connection terminals of the
아울러, 상술한 구조에서는 상기 내부 회로패턴(131, 171)은, 상기 전자소자칩의 단자면과 수평면에 형성되는 제1내부회로패턴(131)과, 상기 전자소자칩의 상부와 이격되는 제2내부회로패턴(171)을 적어도 1 이상 구비하는 구조로 형성될 수 있으며, 이 경우 상기 전자소자칩은 상기 제1내부회로패턴(131)의 사이의 칩실장영역에 배치되는 적어도 1 이상의 능동소자 또는 적어도 1 이상의 능동소자 및 수동소자로 형성될 수 있다. 아울러, 상기 칩실장영역과 전자소자칩의 단자의 계면에는 접착물질이 충진될 수 있다.In addition, in the above-described structure, the
아울러, 본 발명에 따른 매립형 인쇄회로기판은 상기 외부회로패턴(191)의 일부를 선택적으로 노출하는 솔더레지스트 패턴층(210)과, 상기 외부회로패턴의 노출면에 형성되는 표면처리층(211)을 더 포함할 수 있으며, 상기 표면처리층(211)은, 상기 외부회로패턴의 노출면에 Cu, Ni, Pd, Au, Sn, Ag, Co 중 어느 하나 또는 이들의 이원, 원 합금을 이용하여 단층 또는 다층으로 도금처리가 수행되어 형성되는 구조로 형성될 수 있다.In addition, the buried type printed circuit board according to the present invention includes a solder resist
또한, 도 3에 도시된 구조처럼, 상기 외부회로패턴(191)의 상부에 상기 외부회로패턴과 전기적으로 연결되는 외부회로패턴(232) 및 절연층(220)이 적어도 1 이상 적층되는 다층 인쇄회로기판으로 구현될 수 있음은 물론이다.3, at least one
전술한 바와 같은 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해 설명하였다. 그러나 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서는 여러 가지 변형이 가능하다. 본 발명의 기술적 사상은 본 발명의 기술한 실시예에 국한되어 정해져서는 안 되며, 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
In the foregoing detailed description of the present invention, specific examples have been described. However, various modifications are possible within the scope of the present invention. The technical idea of the present invention should not be limited to the embodiments of the present invention but should be determined by the equivalents of the claims and the claims.
110: 제1금속층
120: 캐리어
130: 금속패턴층
131: 제1내부회로
140: 능동소자
150: 수동소자
160: 제1절연층군
170: 내부회로금속층
171: 제2내부회로
180: 외부절연층
190: 외부회로금속층
191: 외부회로패턴
210: 솔더레지스트
211: 표면처리층110: first metal layer
120: Carrier
130: metal pattern layer
131: 1st internal circuit
140: active element
150: Passive element
160: first insulation layer group
170: internal circuit metal layer
171: Second internal circuit
180: outer insulating layer
190: external circuit metal layer
191: External circuit pattern
210: Solder resist
211: Surface treatment layer
Claims (20)
상기 제1금속층 위에 칩 실장 영역이 개방된 캐비티를 포함하는 금속패턴층을 형성하는 단계;
상기 금속패턴층의 상기 캐비티 내에 접착층을 형성하는 단계;
상기 접착층을 이용하여 상기 캐비티 내에 전자소자칩을 실장하는 단계;
상기 금속패턴층 위에 상기 전자소자칩을 매립하는 제 1 절연층과 상기 제 1 절연층 위에 제2금속층을 포함하는 내부회로패턴층을 형성하는 단계;
상기 캐리어를 제1금속층에서 분리하고, 상기 전자소자칩의 단자부가 노출될 때까지 상기 제1금속층을 에칭하는 단계;
상기 금속패턴층을 패터닝하여 제 1 내부회로 패턴을 형성하고, 상기 제 2 금속층을 패터닝하여 제 2 내부 회로 패턴을 형성하는 단계;
상기 제 1 내부회로 패턴이 상기 제 1 절연층의 상부에 위치하도록 상기 제 1 절연층을 뒤집는 단계;
상기 제 1 절연층 위에 상기 제 1 내부 회로 패턴, 상기 접착층 및 상기 전자소자칩의 단자부를 덮는 제 2 절연층을 형성하는 단계;
상기 제 2 절연층을 가공하여, 상기 제 1 내부 회로 패턴을 노출하는 적어도 하나의 제 1 비아 홀 및 상기 단자부를 노출하는 적어도 하나의 제 2 비아 홀을 형성하는 단계;
상기 적어도 하나의 제 1 비아 홀 내에 금속 물질을 충진하여 도전 비아를 형성하고, 상기 적어도 하나의 제 2 비아 홀 내에 솔더 페이스트를 충진하여 솔더 비아를 형성하는 단계;
상기 제 2 절연층 위에 상기 도전 비아 및 상기 솔더 비아를 통해 상기 제 1 내부 회로 패턴 및 상기 전자소자칩의 단자부와 전기적으로 연결되는 외부 회로 패턴을 형성하는 단계를 포함하고,
상기 제 1 내부 회로 패턴의 두께는,
상기 접착층의 두께와 동일하며,
상기 제 1 내부 회로 패턴의 상면, 상기 접착층의 상면 및 상기 단자부의 상면은 서로 동일 평면 상에 배치되며,
상기 전자소자칩과 상기 외부회로패턴은,
상기 솔더 비아를 통해 전기적으로 연결되고,
상기 제 1 내부회로패턴과 상기 외부회로패턴은,
상기 도전비아를 통해 전기적으로 연결되는 매립형 인쇄회로기판의 제조방법.
Disposing a first metal layer on the carrier;
Forming a metal pattern layer including a cavity in which a chip mounting area is opened on the first metal layer;
Forming an adhesive layer in the cavity of the metal pattern layer;
Mounting an electronic device chip in the cavity using the adhesive layer;
Forming an internal circuit pattern layer including a first insulating layer for embedding the electronic device chip on the metal pattern layer and a second metal layer on the first insulating layer;
Separating the carrier from the first metal layer and etching the first metal layer until a terminal portion of the electronic device chip is exposed;
Forming a first internal circuit pattern by patterning the metal pattern layer and patterning the second metal layer to form a second internal circuit pattern;
Inverting the first insulating layer such that the first internal circuit pattern is located on the first insulating layer;
Forming a second insulating layer on the first insulating layer to cover the first internal circuit pattern, the adhesive layer, and the terminal portions of the electronic device chip;
Forming at least one first via hole exposing the first internal circuit pattern and at least one second via hole exposing the terminal portion by processing the second insulating layer;
Filling the at least one first via hole with a metallic material to form a conductive via and filling the at least one second via hole with a solder paste to form a solder via;
And forming an external circuit pattern electrically connected to the first internal circuit pattern and the terminal portion of the electronic device chip through the conductive via and the solder via on the second insulating layer,
The thickness of the first internal circuit pattern is preferably,
Is equal to the thickness of the adhesive layer,
The upper surface of the first internal circuit pattern, the upper surface of the adhesive layer, and the upper surface of the terminal portion are arranged on the same plane,
Wherein the electronic device chip and the external circuit pattern are electrically connected to each other,
Electrically connected through the solder via,
Wherein the first internal circuit pattern and the external circuit pattern are electrically connected to each other,
And electrically connected through the conductive vias.
상기 금속패턴층을 형성하는 단계는,
상기 제1금속층의 상면에 스크린인쇄(screen printing), 전해도금, 스퍼터링(suppering), 증발법(evaporation), 잉크젯팅, 디스펜싱 중 어느 하나 또는 이들의 조합된 방식을 이용하여 상기 캐비티를 포함하는 상기 금속패턴층을 구현하는 단계로 구성되는 매립형 인쇄회로기판의 제조방법.
The method according to claim 1,
The forming of the metal pattern layer may include:
Wherein the first metal layer is formed on the upper surface of the first metal layer by using any one of screen printing, electroplating, sputtering, evaporation, ink jetting, And embedding the metal pattern layer on the printed circuit board.
상기 실장하는 단계는,
상기 캐비티 내에 형성된 상기 접착층 위에 적어도 1 이상의 능동 소자를 실장하거나, 능동소자와 수동소자를 각각 적어도 1 이상 실장하는 단계를 포함하는 매립형 인쇄회로기판의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the mounting comprises:
Mounting at least one active element on the adhesive layer formed in the cavity, or mounting at least one active element and at least one passive element, respectively.
상기 제 2 절연층 위에 상기 외부회로패턴의 일부를 선택적으로 노출하도록 솔레지스트 층을 패터닝하여 형성하는 단계와,
상기 외부회로패턴의 노출면에 표면처리층을 형성하는 단계를 더 포함하는 매립형 인쇄회로기판의 제조방법.
The method according to claim 1,
A step of patterning and forming a polysilicon layer so as to selectively expose a part of the external circuit pattern on the second insulating layer;
Further comprising the step of forming a surface treatment layer on the exposed surface of the external circuit pattern.
상기 표면처리층은,
상기 외부회로패턴의 노출면에 Cu, Ni, Pd, Au, Sn, Ag, Co 중 어느 하나 또는 이들의 이원, 원 합금을 이용하여 단층 또는 다층으로 도금처리가 수행되어 형성되는 매립형 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 10,
The surface-
Wherein the exposed surface of the external circuit pattern is plated with a single layer or multiple layers using any one of Cu, Ni, Pd, Au, Sn, Ag, and Co, Gt;
상기 외부회로패턴의 상면에 절연층 및 금속층을 적층하고, 상기 금속층을 가공하여 상기 외부회로패턴과 전기적으로 연결되는 회로패턴을 가공하는 단계가 적어도 1회 이상 반복되는 매립형 인쇄회로기판의 제조방법.
The method according to claim 1,
A step of laminating an insulating layer and a metal layer on the upper surface of the external circuit pattern and processing the circuit pattern electrically connected to the external circuit pattern by processing the metal layer is repeated at least once or more.
상기 제 1 절연층의 상면에 배치되며, 칩 실장 영역에 대응하는 캐비티를 포함하는 제 1 내부 회로 패턴;
상기 제 1 절연층의 하면에 배치되는 제 2 내부 회로 패턴;
상기 캐비티 내에 도포된 접착층;
상기 접착층에 배치되며, 적어도 일부가 상기 캐비티 내에 삽입되는 전자소자 칩;
상기 제 1 절연층 위에 배치되며, 상기 제 1 내부 회로 패턴, 상기 접착층 및 상기 전자소자칩을 매립하는 제 2 절연층;
상기 제 2 절연층 위에 배치된 외부 회로 패턴;
상기 제 2 절연층을 관통하는 제 1 비아 홀 내에 충진된 금속물질을 포함하며, 상기 제 1 내부 회로 패턴과 상기 외부 회로 패턴을 전기적으로 연결하는 도전 비아; 및
상기 제 2 절연층을 관통하는 제 2 비아 홀 내에 충진된 솔더 페이스트를 포함하며, 상기 전자소자 칩의 단자부와 상기 외부 회로 패턴을 전기적으로 연결하는 솔더 비아를 포함하며,
상기 제 1 내부 회로 패턴의 두께는,
상기 접착층의 두께와 동일하며,
상기 제 1 내부 회로 패턴의 상면, 상기 접착층의 상면 및 상기 단자부의 상면은 서로 동일 평면 상에 배치되는 매립형 인쇄회로기판.
A first insulating layer;
A first internal circuit pattern disposed on an upper surface of the first insulating layer and including a cavity corresponding to a chip mounting area;
A second internal circuit pattern disposed on a lower surface of the first insulating layer;
An adhesive layer applied in the cavity;
An electronic element chip disposed in the adhesive layer, at least a part of which is inserted into the cavity;
A second insulating layer disposed on the first insulating layer and filling the first internal circuit pattern, the adhesive layer, and the electronic device chip;
An external circuit pattern disposed on the second insulating layer;
A conductive via electrically connecting the first internal circuit pattern and the external circuit pattern, the conductive via including a metallic material filled in a first via hole passing through the second insulating layer; And
And a solder via filled in a second via hole passing through the second insulating layer, the solder via electrically connecting the terminal portion of the electronic device chip to the external circuit pattern,
The thickness of the first internal circuit pattern is preferably,
Is equal to the thickness of the adhesive layer,
Wherein an upper surface of the first internal circuit pattern, an upper surface of the adhesive layer, and an upper surface of the terminal portion are disposed on the same plane.
상기 제 2 절연층 위에 배치되고, 상기 외부회로패턴의 일부를 선택적으로 노출하는 솔더레지스트 패턴층과, 상기 외부회로패턴의 노출면에 형성되는 표면처리층을 더 포함하는 매립형 인쇄회로기판.
14. The method of claim 13,
A solder resist pattern layer disposed on the second insulating layer and selectively exposing a portion of the external circuit pattern; and a surface treatment layer formed on an exposed surface of the external circuit pattern.
상기 표면처리층은,
상기 외부회로패턴의 노출면에 Cu, Ni, Pd, Au, Sn, Ag, Co 중 어느 하나 또는 이들의 이원, 원 합금을 이용하여 단층 또는 다층으로 도금처리가 수행되어 형성되는 매립형 인쇄회로기판.
19. The method of claim 18,
The surface-
Wherein at least one of the Cu, Ni, Pd, Au, Sn, Ag, and Co is formed on the exposed surface of the external circuit pattern by a single layer or multilayer plating process.
상기 외부회로패턴의 상부에는,
상기 외부회로패턴과 전기적으로 연결되는 제2외부회로패턴 및 제 3 절연층이 적어도 1 이상 적층되는 매립형 인쇄회로기판.
14. The method of claim 13,
At an upper portion of the external circuit pattern,
A second external circuit pattern electrically connected to the external circuit pattern, and a third insulating layer.
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