JPS58134450A - Semiconductor device and manufacture thereof - Google Patents
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- JPS58134450A JPS58134450A JP57016230A JP1623082A JPS58134450A JP S58134450 A JPS58134450 A JP S58134450A JP 57016230 A JP57016230 A JP 57016230A JP 1623082 A JP1623082 A JP 1623082A JP S58134450 A JPS58134450 A JP S58134450A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はキャリアパッケージ型の半導体装置に関し、%
にパッケージの薄型化、低コスト化を図ると共に実装の
容易化を図った半導体装置およびその製造方法に関する
ものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a carrier package type semiconductor device.
The present invention relates to a semiconductor device that has a thinner package, lower cost, and easier packaging, and a method for manufacturing the same.
一般にチップキャリアと称せられるキャリアパッケージ
型の半導体装置は、実装用の回路基板上に直接載置して
上記回路基板の配線端子と上記半導体装置の外部接続端
子とを接続するだけで実装を完成し得るため、実装の容
易化や上記半導体装置が実装される装置全体の薄型化に
有効であり、その需要は増々増大する傾向にある。A carrier package type semiconductor device, generally referred to as a chip carrier, can be mounted directly on a circuit board for mounting, and the mounting can be completed by simply connecting the wiring terminals of the circuit board and the external connection terminals of the semiconductor device. Therefore, it is effective for facilitating mounting and reducing the thickness of the entire device in which the semiconductor device is mounted, and the demand for it is increasing.
従来のこの種の半導体iIM−としては、@1図に■:
示すようにセラミックを使用したキャリアノくツケージ
が殆んどである。このキャリアパッケージ1は、例えば
グリーンプロセスによって形成するギヤリアペース2の
上面に凹@3を形成してその内底面に半導体素子(ペレ
ット)4を固着すると共K、凹部3周囲からベース裏面
にかけてインナリードと外部接続用のアウタリードから
なるリード6をメタライズ等の手段にて形成しペレット
4とリード6との間をワイヤ7にて電気接続した上で、
金属或はセラミックのキャップ8により封止するように
したものである。Most of the conventional semiconductor iIMs of this type are carrier cages using ceramics, as shown in Figure 1 (■). This carrier package 1 has a concave @3 formed on the upper surface of a gear rear space 2 formed by, for example, a green process, and a semiconductor element (pellet) 4 is fixed to the inner bottom surface of the concave @3, and an inner lead extends from the periphery of the concave 3 to the back surface of the base. A lead 6 consisting of an outer lead for external connection is formed by means such as metallization, and the pellet 4 and the lead 6 are electrically connected with a wire 7, and then
It is sealed with a metal or ceramic cap 8.
しかしながら、このパッケージではグリーン竜ラミック
の厚さの低減には限界があるためこれを積層形成したペ
ース2の厚さ低減にも自から限界が生じ、パッケージ全
体の薄型化の障害になっている。また、前述のグリーン
プロセスは多ニーIKわたるため、セラミックの材料価
格と合わせてパーケージ全体が高μ路になる。However, since there is a limit to the reduction in the thickness of Green Dragon Lamic in this package, there is also a limit to the reduction in the thickness of PACE 2, which is formed by laminating it, and this is an obstacle to making the overall package thinner. Furthermore, since the above-mentioned green process involves multiple IKs, the entire package becomes a high μ road along with the ceramic material cost.
更に、セラミックは実装用基板として一般に使用ハ
用されているガラスエポキシ材等のプリント回路、・:
:1
基板とは熱膨張率が大幅に相違しているため、セラミッ
クのパッケージをこの種のプリント基板に直接固着接続
したときには温度変化に伴なってパッケージとプリント
基板との間に熱膨張率差に基づく応力が発生し、接続が
破損されることがある。Furthermore, ceramics are commonly used as mounting boards for printed circuits such as glass epoxy materials.
:1 The coefficient of thermal expansion is significantly different from that of the substrate, so when a ceramic package is directly fixedly connected to this type of printed circuit board, the difference in coefficient of thermal expansion between the package and the printed circuit board will occur due to temperature changes. stress may occur and the connection may fail.
また、前述したセラミックのノくツケージは1個づつ単
独に製造しているため、ペース2上へのペレット4の固
着、ワイヤ7のボンディング、キャップ8の固着等の作
業を全自動化することが難かしい。更に不利な点は夫々
製造されたノくツケージの寸法に誤差が生じ易く、自動
化を一層困−なものとしている。In addition, since the ceramic nut cages mentioned above are individually manufactured one by one, it is difficult to fully automate operations such as fixing the pellet 4 onto the paste 2, bonding the wire 7, and fixing the cap 8. That's funny. A further disadvantage is that the dimensions of the respective manufactured socket cages tend to vary, making automation even more difficult.
したがって本発明の第1の目的は、上記した半導体装置
の薄型化、低コスト化を達成することカーできる半導体
装置を提供することである。又、第2の目的は、通常使
用されているプリント回路基板への実装を容易なものに
し、一方で(i寸法槽度の向上を図ることができる半導
体装置を提供することである。さらに、@3の目的は、
製造の自動化を達成することができる半導体装置を提供
する−ことKある。Therefore, a first object of the present invention is to provide a semiconductor device that can achieve the above-mentioned thinner semiconductor device and lower cost. A second object is to provide a semiconductor device that can be easily mounted on a commonly used printed circuit board, while also improving the (i) dimension.Furthermore, The purpose of @3 is
To provide a semiconductor device that can achieve manufacturing automation.
さらに、本発明の第4の目的をま、ガラスエポキシ等な
材料とする基板K IJ−ドを形成し、ペレットの固着
およびペレットとリードとのワイヤボンディングの後に
レジン輪にて封止を行なうことKより前記した半導体装
置を容易にかつ効率的に製−することができる半導体装
置の製造方法を提供することKある。Furthermore, the fourth object of the present invention is to form a substrate KIJ-de made of a material such as glass epoxy, and seal it with a resin ring after fixing the pellet and wire bonding the pellet and the lead. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a semiconductor device that can easily and efficiently manufacture the semiconductor device described above.
以下、本発明の半導体装置およびその製造方法を図示の
実施例に基づい【説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A semiconductor device and a method for manufacturing the same according to the present invention will be described below based on illustrated embodiments.
第2図(A) 、 (B)は本発明の半導体装置10の
破断斜視図であり、図においC1lはガラスエポキシ板
からなるペースである。このガラスエポキシ板は通常プ
リント回路基板とし℃使用されているものをそのまま利
用でき、その両面に形成されている導電層を後述するよ
うにエツチングしてインナリード12とアウタリード1
3を形成すると共K、これらインナリードとアウタリー
ドとをスルーホール手法にて形成した連絡部14によっ
て接続することによりリード15を形成している。また
、ペース11の上面中央には方形の凹w16を切削等に
て形成し、その内底面には半導体素子(ペレット)17
を接着剤等により固定している。そして、ペレット17
の電極パッドと前記インナリード12とをワイヤ18に
て接続し、しかる後ボッティング等の手法にてペース1
1上に供給したレジ719によってベレット17.ワイ
ヤ18およびインナリード12を隠蔽し、これらを封止
しているのである。なお、前記リード15の中、少なく
ともインナリード12とアウタリード13には金めつき
を施し、ワイヤ18の接続や実装時の半田付を容易に行
ない得るようにしている。また、ベース11上面のリー
ド露出部(ワイヤポンディング部を除く)には予め保睡
用のレジン2oを塗布するようにしてもよい。FIGS. 2A and 2B are cutaway perspective views of the semiconductor device 10 of the present invention, and in the figures, C1l is a plate made of a glass epoxy plate. This glass epoxy board can be used as is, as it is normally used as a printed circuit board, and the conductive layers formed on both sides of the board can be etched as described later to form inner leads 12 and outer leads 1.
3 are formed, and leads 15 are formed by connecting these inner leads and outer leads with a connecting portion 14 formed by a through-hole method. In addition, a rectangular recess w16 is formed in the center of the upper surface of the paste 11 by cutting or the like, and a semiconductor element (pellet) 17 is formed on the inner bottom surface of the recess w16.
are fixed with adhesive etc. And pellet 17
The electrode pad and the inner lead 12 are connected with the wire 18, and then the pace 1 is connected by a method such as botting.
1 by the register 719 supplied on the pellet 17. The wire 18 and inner lead 12 are hidden and sealed. Of the leads 15, at least the inner leads 12 and outer leads 13 are plated with gold to facilitate connection of wires 18 and soldering during mounting. Further, the exposed lead portion (excluding the wire bonding portion) on the upper surface of the base 11 may be coated with a sleep-retaining resin 2o in advance.
以上のような構成の半導体装置は、同図(8)に示すよ
うに、ガラスエポキシ或いはフェノール等からなる通常
のプリント回路基板21上に形成した導電パターン22
上に裏面をfに向けて載置され、生国等のろう材にてア
ウタリード13を各々対応するパターンを極22&C直
mJ*続されて実装が完成されるのである。As shown in FIG. 8, the semiconductor device having the above structure includes a conductive pattern 22 formed on an ordinary printed circuit board 21 made of glass epoxy, phenol, etc.
Mounting is completed by placing the outer leads 13 on top with the back side facing f, and connecting the outer leads 13 with the corresponding patterns to the poles 22&C directly mJ* using brazing material made of the same material.
次に以上の構成になる半導体装置の製造方法を第3図四
〜+1)により説明する。Next, a method of manufacturing a semiconductor device having the above structure will be explained with reference to FIGS. 3-4-+1).
先ず、四面に示すように、ガラスエポキシ板23の表裏
面(上下面)K夫々導電層としての鋼箔24.25を形
成した基板26を用意する。この場合、通常では複数個
(5個)のパッケージを多連kかつ同時に形成するため
、基板26には短冊状のものを使用する。なお、以下の
説明では1個のパッケージを中心に製造方法を説明する
。First, as shown on the four sides, a substrate 26 is prepared on which steel foils 24 and 25 are formed as conductive layers on each of the front and back surfaces (upper and lower surfaces) K of a glass epoxy plate 23. In this case, since a plurality (5) of packages are usually formed in multiple series at the same time, a strip-shaped substrate is used as the substrate 26. Note that in the following explanation, the manufacturing method will be explained focusing on one package.
次K、(同図に示すように、形成されるべきパッケージ
Pの外縁に8うようにしてかつ形成されるべきリード1
5に接続され得る基板′26上の位置に上下に貫通する
スルーホール27をリード相当数だけ形成する。そして
、C)図に示すようにこのスルーホール27の内周面に
無電解めっきな行なって前記連絡部14としての銅めっ
き層28を形成し、との銅めっき層28にて上下面の各
銅箔24.25を導通し得るようKする。その後、0図
、(ロ)図に示すように一板26の上、下面の各鋼箔2
4.25をホトエツチングし、夫々独立した複数本のイ
ンナリード12と、アウタリード13を形成する。ホト
エツチングは、ホトレジスト膜形成、パターン露光、現
象により形成したホトレジストパターン膜を利用して銅
エツチングするものであることは言うまでもない。また
、このエツチングに際し、表面のインナリード12は夫
々独立した形状としているが、アウタリード13はパッ
ケージの外縁JC1’Eiう部分よりも外側の部分13
Aにおいて各リードが導通するように形成しており、ま
た、各パッケージのアウタリードを連絡線29にて接続
させることも行なわれる。この結果、各インナリード1
2はスルーホール27内の鋼めつき層28を介して各ア
ウタリード13に接続され、夫々はインナリード12.
スルーホール27.アウタリード13で独立したリード
15を構成するが、前述したアウタリード形状や連絡線
29VCよってこの状態では全てのリード15は導通状
態にある。Next, K (as shown in the figure, the lead 1 to be formed is 8 in the outer edge of the package P to be formed and
A number of through holes 27 corresponding to the number of leads are formed at positions on the substrate '26 that can be connected to the leads. C) As shown in the figure, electroless plating is performed on the inner peripheral surface of this through hole 27 to form a copper plating layer 28 as the connecting portion 14, and each of the upper and lower surfaces is coated with the copper plating layer 28. The copper foils 24 and 25 are heated so as to be electrically conductive. After that, as shown in Figure 0 and Figure 2, each steel foil 2 on the upper and lower surfaces of the plate 26 is
4.25 is photo-etched to form a plurality of independent inner leads 12 and outer leads 13. It goes without saying that photoetching involves etching copper using a photoresist pattern film formed by photoresist film formation, pattern exposure, and phenomenon. In addition, during this etching, the inner leads 12 on the surface are made into independent shapes, but the outer leads 13 are formed at the portions 13 outside the outer edge JC1'Ei of the package.
Each lead is electrically connected at A, and the outer leads of each package are also connected by a connecting line 29. As a result, each inner lead 1
2 are connected to each outer lead 13 via a steel plating layer 28 in a through hole 27, and each inner lead 12.
Through hole 27. Although the outer leads 13 constitute independent leads 15, all the leads 15 are in a conductive state in this state due to the outer lead shape and the connecting line 29VC described above.
以上のようにしてリード15を形成した上で、(0図の
ように基板26の上面のインナリード12の中帯部分に
保映レジン20を帯状にスクリーン印刷等によって形成
する。この保■レジン20は必Ilに応じて行なえばよ
く、この保護レジン20を塗布していない部分は機工@
においてNi下地めっきとAuめっきを行なう。このめ
っきは電気めっきであり、前記連絡線29とアウタリー
ド13の導通作用によって一本のリードへの電源接続だ
けで全リードへのめっきを行なうことができる。After forming the leads 15 as described above, (as shown in Figure 0), a strip of anti-reflective resin 20 is formed on the middle band of the inner leads 12 on the upper surface of the substrate 26 by screen printing or the like. 20 may be carried out according to necessity, and the parts not coated with this protective resin 20 should be
In this step, Ni underplating and Au plating are performed. This plating is electroplating, and due to the conduction between the connecting wire 29 and the outer lead 13, all the leads can be plated by simply connecting the power to one lead.
次に0図に示すように基板26の上面、つまりパッケー
ジの中央部分を半導体素子(ペレット)よりも若干大寸
法の方形に座ぐり加工して凹部16を形成し、かつ0図
に示すようにパッケージの外縁に沿って四辺を打抜いて
溝31を形成する。この溝31により、形成されるべき
パッケージペース11は溝31FMlk形成された4本
の橋絡部32によって外周部(フレーム部)33kJI
吊支持された状態とされる。したがって、細巾の橋絡部
32を切断すればパッケージペース11を簡単に得るこ
とができる状態となる。また、前記溝31はその内縁を
スルーホール27に沿わせているため、溝によってスル
ーホール27内部(金めっきされた鋼めっき層28)は
パッケージベース11外縁に露呈される。これと同時に
溝31はアウタリード13の外側部位13Aを打ち抜く
ので、(1)図に示すように各アクタリード13は夫々
切離され【絶縁状態とされ、かつ連絡線29も切断され
て各パッケージ間の導通もなくなる。Next, as shown in Fig. 0, the upper surface of the substrate 26, that is, the center part of the package, is counterbored into a rectangle slightly larger than the semiconductor element (pellet) to form a recess 16, and as shown in Fig. 0. A groove 31 is formed by punching out four sides along the outer edge of the package. Due to this groove 31, the package paste 11 to be formed is formed in the outer peripheral part (frame part) 33kJI by the four bridge parts 32 formed in the groove 31FMlk.
It is assumed to be in a suspended state. Therefore, by cutting the narrow bridging portion 32, the package paste 11 can be easily obtained. Further, since the inner edge of the groove 31 is along the through hole 27, the inside of the through hole 27 (gold plated steel plating layer 28) is exposed to the outer edge of the package base 11 due to the groove. At the same time, the groove 31 punches out the outer portion 13A of the outer lead 13, so (1) as shown in the figure, each actor lead 13 is separated (insulated), and the connecting wire 29 is also cut to connect each package. There will be no continuity.
以上の工@により、第4図に示すよ5に*iB状の基板
26には5個のパッケージペース11が多連に形成でき
る。図中、34は前記溝31と同時に形成したガイド孔
である。そして、この基板26は図外の自動組立機kf
l填され、ベレット付以下の工程が行なわれる。By the above process, five package spaces 11 can be formed in multiple series on the 5*iB-shaped substrate 26 as shown in FIG. In the figure, 34 is a guide hole formed at the same time as the groove 31. This board 26 is assembled by an automatic assembly machine kf (not shown).
1 is loaded, and the following steps are performed.
即ち、第5図に示すように、パッケージベース11の凹
部16内底面に適宜の接着剤にて半導体素子(ベレット
)17を固着し、その上で前記インナリード12の各内
側先端とベレット17の電極パッドの間をワイヤ18.
にて接続する。しかる後、封止用、)vジ、19を具、
ヶー、)、−ユ、1上にポツティング等によって滴下し
てペレッ)17゜ワイヤ18およびインナリード12を
纒蔽封止する。これKより、各パッケージベースでの組
立ては完了され、以後橋絡部32を適宜に切断すれば完
成されたパッケージはフレーム部33から切離され、夫
々独立したパッケージとして得られるのである。That is, as shown in FIG. 5, a semiconductor element (bellet) 17 is fixed to the inner bottom surface of the recess 16 of the package base 11 with an appropriate adhesive, and then each inner tip of the inner lead 12 and the pellet 17 are bonded to each other. A wire 18. is inserted between the electrode pads.
Connect at. After that, for sealing,) vji, 19,
The 17° wire 18 and the inner lead 12 are hermetically sealed by dropping them onto the 17° wire 18 and the inner lead 12 by potting or the like. From this K, the assembly of each package base is completed, and by cutting the bridging portion 32 appropriately, the completed package can be separated from the frame portion 33, and each package can be obtained as an independent package.
したがって、この組立に際しては、多連リードフレーム
によるパッケージの形成と同様な工程および設備にて前
記第4図のペース基板26上に組立を行なうことができ
、組立の自動化を実現できる。Therefore, in this assembly, the assembly can be performed on the pace board 26 shown in FIG. 4 using the same process and equipment as for forming a package using a multiple lead frame, and automation of the assembly can be realized.
なお、前記製造工程において、各パッケージの電力供給
部を互に共通−にて並列接続してお會、前記$131の
形成により各アウタリードや連絡線を切断した後もこの
共通線を残し【おくようにすれば、各バッケ〜ジの完成
後に共通線の一部に通電するだけで全部のパッケージに
同時に通電を行、、”・
なうことができ、:、c−ジング作業を容易にかつ嵩:
:′1:、、。In addition, in the above manufacturing process, the power supply parts of each package are connected in parallel with each other at a common line, and this common line is left even after each outer lead and connection line is cut by the formation of the above-mentioned $131. By doing this, you can energize all packages at the same time by simply energizing a part of the common line after each package is completed. Bulk:
:'1:,,.
能率に行なうことが・、できる。所定の温度、電圧。I can do things efficiently. Predetermined temperature and voltage.
時間でのエージングの完了後は、前記共通−を切断する
第゛2の打抜きを行なって各パッケージを電気的に独立
したものとして構成する(この場合でも各パッケージは
橋絡部32によってフレーム部33を介して機械的に一
体化されている)ことにより、各パッケージの試験を個
々kかつ一体的に行なうことができる。After the aging process is completed, a second punching process is performed to cut the common part to configure each package as electrically independent (even in this case, each package is connected to the frame part 3 by the bridge part 32). (mechanical integration via the 2-way 2-way 2-way 2-way 2-way 2-way 2-way 2-way 3-way 2-way 2-way 3-way) allows each package to be tested both individually and integrally.
したがって、以上のように製造された本発明の半導体装
置は、単一の基板を使用しているので装置全体の厚さは
略鋏基板の厚さで済み、薄型化に有効となる。また、玉
揚数も少なくかつ高価格材料を使用していないので低コ
ス)K製作できるという効果もある。更に、装置のペー
スに通常のプリント回路基板と同等の材質を用いている
ので熱膨張率が略等しく、プリント回路基板に直接実装
した場合にも温度変化に伴なう接続破損が発生すること
もない。また、セラミックではないため寸法精度に高い
ものが得られる。Therefore, since the semiconductor device of the present invention manufactured as described above uses a single substrate, the thickness of the entire device can be approximately the thickness of a scissors substrate, which is effective in reducing the thickness. In addition, since the number of doffs is small and high-priced materials are not used, it has the effect of being able to be produced at a low cost. Furthermore, since the device is made of the same material as a normal printed circuit board, the coefficient of thermal expansion is almost the same, and even if it is mounted directly on a printed circuit board, connection damage due to temperature changes may occur. do not have. Moreover, since it is not made of ceramic, it can be obtained with high dimensional accuracy.
また、本発明の半導体装置の製造方法によれば、単一の
基板上Kll数個のパッケージを同時に形成することが
可能であることから、セラミックパッケージと比較して
半導体装置の製造効率を高いものとし、かつ製造工程の
各作業を容易にし更に寸法精度の管理等をも容易にする
等、効率的に製造を行なうことができる。In addition, according to the method for manufacturing a semiconductor device of the present invention, it is possible to simultaneously form several packages on a single substrate, thereby increasing the manufacturing efficiency of semiconductor devices compared to ceramic packages. In addition, each operation in the manufacturing process is facilitated, and dimensional accuracy management is also facilitated, so that manufacturing can be carried out efficiently.
ここで、基板の材料として前記実施例ではガラスエポキ
シを使用しているが、その外にポリエステル、ポリイミ
ド、紙フェノール、トリアジン勢を利用してもよい。ま
た、リードにはワイヤのボンダビリティや半田付は性を
考慮して金めつきを施しているが、場合によってはAJ
、Ag、Niめっきを施すようにしてもよい。Here, although glass epoxy is used as the substrate material in the above embodiment, polyester, polyimide, paper phenol, and triazine may also be used. In addition, the leads are gold plated to ensure wire bondability and solderability, but in some cases AJ
, Ag, or Ni plating may be applied.
さらに、集積密度を向上させた時の放熱性な考慮したり
、パワーIC等のように放熱性を重視する半導体装置を
製造する場合は、上記@3図(E)の工@において行う
銅箔25のホトエツチング時、基板26の(ペース11
となる部分の)裏面のアウタリード13によって囲まれ
た部分に上記アウタリードとは分離された銅箔が残るよ
うにホトエツチング処理を行い、ヒートシンクとなる銅
箔をペース11となる部分の裏面に形成し、その後、上
記した第3図η〜(I)の工程と同様な処理を行い、さ
らにペレット付、レジンボッティング等の処場を行い半
導体装置を製造する。このような方法によって製造され
た半導体装置の断面図を第6図に′示す。同図において
、30がヒートシンクとなる銅箔である。他の番号で示
した所は上記第5図の説明で行ったものと同一である。Furthermore, when considering heat dissipation when increasing the integration density, or when manufacturing semiconductor devices that emphasize heat dissipation such as power ICs, copper foil During photoetching of step 25, (paste 11) of substrate 26
A photo-etching process is performed so that a copper foil separated from the outer lead remains in the area surrounded by the outer lead 13 on the back surface of the part that will become the paste 11, and a copper foil that will become the heat sink is formed on the back surface of the part that will become the paste 11. Thereafter, processes similar to those shown in FIG. A cross-sectional view of a semiconductor device manufactured by such a method is shown in FIG. In the figure, 30 is a copper foil serving as a heat sink. The parts indicated by other numbers are the same as those described in the explanation of FIG. 5 above.
又、上記のように、ヒートシンク30形成後ガラスエポ
キシ基板からなるパッケージペース11の中央を方形に
貫通させ、上記ヒートシンク30の一部を露出させる。Further, as described above, after the heat sink 30 is formed, the center of the package paste 11 made of a glass epoxy substrate is penetrated in a rectangular manner to expose a part of the heat sink 30.
そして、この露出したヒートシンク面に半導体素子17
を固着させこの素子17とインナリード12とをワイヤ
18にて接続し、この素子17.ワイヤ18及びインナ
リード12の一部を覆うレジン19をポツティング忙よ
り形成する。このような方法によって形成された半導体
装置の断面を第7図圧、裏斜視図を第8図にそれぞれ示
す。同図において、ヒートシンク30に半導体素子17
が接続され、□この半導体素子17とインナリード12
とがワイヤ18によって接続されている。そして、上記
半導体素子17.ワイヤ18及びインナリード12の一
部がレジン19によって覆われている。このような方法
においては、半導体素子が直接鋼箔に接続されるため放
熱特性はより改善される。Then, the semiconductor element 17 is placed on this exposed heat sink surface.
is fixed, and this element 17 and the inner lead 12 are connected with a wire 18, and this element 17. A resin 19 covering a portion of the wire 18 and the inner lead 12 is formed by potting. A cross section of a semiconductor device formed by such a method is shown in FIG. 7, and a back perspective view is shown in FIG. 8. In the figure, a semiconductor element 17 is mounted on a heat sink 30.
are connected, □ this semiconductor element 17 and inner lead 12
are connected by a wire 18. Then, the semiconductor element 17. A portion of the wire 18 and the inner lead 12 is covered with a resin 19. In such a method, the semiconductor element is directly connected to the steel foil, so that the heat dissipation characteristics are further improved.
上記ヒートシンクを形成する方法において、その厚さが
不足するときにはめっき或いは他の銅箔を重ねて増厚し
てもよい。又、鋼箔の変りに鋼板を用いても良い。In the above method for forming a heat sink, if the thickness is insufficient, the thickness may be increased by plating or overlapping other copper foils. Also, a steel plate may be used instead of the steel foil.
以上のように本発明の半導体装置によればガラスエポキ
シ等を材料とするペース基板にリードを形成してパッケ
ージペースとして構成すると共K、このペースにペレッ
トを固着しかつワイヤポンディングを施した上でレジン
にて封止しているので、半導体装置の薄型化、低コスト
化を達成すると共に通常使用されているプリント回路基
板への実装を容易なものにし、また一方では寸法精度の
向上を図りかつ製造の自□動化を達成することができる
−1゜
という効果を奏する。As described above, according to the semiconductor device of the present invention, leads are formed on a paste substrate made of glass epoxy or the like to form a package paste, and pellets are fixed to this paste and wire bonded. Since the semiconductor device is sealed with resin, it not only makes the semiconductor device thinner and lower in cost, but also makes it easier to mount it on commonly used printed circuit boards, while also improving dimensional accuracy. Moreover, it is possible to achieve automation of manufacturing by -1°.
また、本発明の製造方法によれば前記半導体装置を容易
Kかつ効率的に製造することができる。Further, according to the manufacturing method of the present invention, the semiconductor device can be easily and efficiently manufactured.
第1図は従来パッケージの破断斜視図、第2図々l 、
(B)は本発明の半導体装置の破断した表斜視図と裏
斜視図、第3図(A)〜(I)は本発明方法の工程図で
囚、(均、 (1) 、 (F) 、13) 、■は表
斜視図、 (C)は断面図、(E) 、 (1)は裏斜
視図、第4図は多連状態の斜視図、第5図は組付完成状
態の断面図、槁6図は他の実施例の断面図、第7図はさ
らに他の実施例の断面図、第8′5Aは第7図に示した
半導体装置の裏斜視図である。
10・・半導体装置、1,1・・・ノくツケージペース
。
12・・インナリード、13・・・アウタリード、14
・・・連絡部、15・・・リード、17・・・ベレット
、18・・・ワイヤ、19・・・レジン、20・・・保
躾レジン、26・・・基板、27・・・スルーホール、
29・・・連JlI線、30・・・鋼板、31・・・溝
、32・・・橋絡部。
第 1 図
第 2 図(A)
第 3 図
(D)
(E)
第 3 図
(F)
第 3 図
(H)
<1)
IP 4 図
第 5 図
第 6 図Figure 1 is a cutaway perspective view of a conventional package, Figure 2 is a
(B) is a broken front perspective view and a back perspective view of the semiconductor device of the present invention, and Figures 3 (A) to (I) are process diagrams of the method of the present invention. , 13) , ■ is a front perspective view, (C) is a sectional view, (E), (1) is a back perspective view, Fig. 4 is a perspective view of the multiple state, and Fig. 5 is a cross section of the completed assembly state. 6 is a sectional view of another embodiment, FIG. 7 is a sectional view of still another embodiment, and 8'5A is a rear perspective view of the semiconductor device shown in FIG. 7. 10... Semiconductor device, 1,1... Noktu cage pace. 12...Inner lead, 13...Outer lead, 14
...Communication part, 15...Lead, 17...Bellet, 18...Wire, 19...Resin, 20...Maintenance resin, 26...Board, 27...Through hole ,
29... Connection JlI wire, 30... Steel plate, 31... Groove, 32... Bridge portion. Figure 1 Figure 2 (A) Figure 3 (D) (E) Figure 3 (F) Figure 3 (H) <1) IP 4 Figure 5 Figure 6
Claims (1)
、このパッケージペースの表面から裏面にわたって形成
した複数本のリードと、前記パッケージペースに固着し
て前記リードに電気的に接続した半導体素子と、少な(
ともこの素子及び、この素子とリードとの電気的接続部
を封止するレジンとを備えることを特徴とする半導体装
置。 2、 リードはベース表面に形成したインナリードと、
ベース裏面に形成したアウタリードと、ベースを貫通し
て前記インナリードとアウタリードを導通させるスルー
ホールとからなる特許請求の範囲第1項記載の半導体装
置。 3、半導体素子はペース表面に形成した凹所内に固着し
てなる特許請求の範囲!1項または第2項記載の半導体
装置。 4、半導体素子はリードとの間に接続したワイヤにて電
気的接続を行なってなる特許請求の範囲第1項ないし第
3項のいずれかに記載の半導体装置。 5、 ガラスエポキシ等を材料とするパッケージペース
の表面から裏面Kかけて複数本のリードを形成すると共
K、前記パンケージペースの表面に半導体素子ペレット
を固着し、このペレットと前記リードとを電気的に接続
した上でペレットや接続部をレジン封止することを特徴
とする半導体装置の製造方法。 6、リードはパッケージペースの表裏面に予め形成され
ている導電箔をエツチングしてインナリード、アウタリ
ードを形成し、前記パッケージペースに形成したスルー
ホール内に導電めっき層な形成し【インナリードとアウ
タリードとな導通させてなる特許請求の範囲第5項に記
載の半導体装置の製造方法。 7、リードはエツチング時には各リードが導通状態にあ
るように形成し、めっき完了後に導通部分を削成して各
リードを絶縁状態とすることを特徴とする特許請求の範
囲第5項または第6項に記載の半導体装置の製造方法。 8、パッケージベースは複数個を一連に一体形成するよ
うにしてなる%W!fd求の範囲第5項ないし第7項の
いずれかに記載の半導体装置の製造方法。[Scope of Claims] 1. A package paste made of glass epoxy or the like, a plurality of leads formed from the front surface to the back surface of the package paste, and a semiconductor fixed to the package paste and electrically connected to the leads. Motoko and a few (
A semiconductor device comprising an element and a resin for sealing an electrical connection between the element and a lead. 2. The lead is an inner lead formed on the base surface,
The semiconductor device according to claim 1, comprising an outer lead formed on the back surface of the base, and a through hole that penetrates the base and connects the inner lead and the outer lead. 3. The claim that the semiconductor element is fixed in a recess formed on the surface of the paste! The semiconductor device according to item 1 or 2. 4. The semiconductor device according to any one of claims 1 to 3, wherein the semiconductor element is electrically connected to the leads by wires connected between them. 5. Form a plurality of leads from the front surface to the back surface K of a package paste made of glass epoxy or the like, adhere a semiconductor element pellet to the surface of the package paste, and connect the pellet and the leads with electricity. 1. A method for manufacturing a semiconductor device, which comprises connecting the pellets and connecting portions with resin. 6. For the leads, conductive foils previously formed on the front and back surfaces of the package paste are etched to form inner leads and outer leads, and a conductive plating layer is formed in the through holes formed in the package paste. A method of manufacturing a semiconductor device according to claim 5, wherein the semiconductor device is made conductive. 7. The leads are formed so that each lead is in a conductive state during etching, and after completion of plating, the conductive portion is removed to make each lead in an insulating state. A method for manufacturing a semiconductor device according to paragraph 1. 8. The package base is formed by integrally forming multiple pieces in series%W! A method for manufacturing a semiconductor device according to any one of items 5 to 7 in which the range of fd is determined.
Priority Applications (14)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57016230A JPS58134450A (en) | 1982-02-05 | 1982-02-05 | Semiconductor device and manufacture thereof |
| FR8221110A FR2521350B1 (en) | 1982-02-05 | 1982-12-16 | SEMICONDUCTOR CHIP HOLDER |
| DE19833300693 DE3300693A1 (en) | 1982-02-05 | 1983-01-11 | SEMICONDUCTOR ARRANGEMENT AND METHOD FOR THEIR PRODUCTION |
| KR1019830000264A KR910002035B1 (en) | 1982-02-05 | 1983-01-24 | Semiconductor device and its manufacturing method |
| US06/462,060 US4691225A (en) | 1982-02-05 | 1983-01-28 | Semiconductor device and a method of producing the same |
| GB08302769A GB2115607B (en) | 1982-02-05 | 1983-02-01 | Semiconductor device and a method of producing the same |
| IT19413/83A IT1161868B (en) | 1982-02-05 | 1983-02-03 | SEMICONDUCTIVE DEVICE AND PROCEDURE FOR ITS MANUFACTURE |
| GB08411298A GB2138210B (en) | 1982-02-05 | 1984-05-02 | A multiple frame |
| SG361/87A SG36187G (en) | 1982-02-05 | 1987-04-23 | Semiconductor device and a method of producing the same |
| SG37587A SG37587G (en) | 1982-02-05 | 1987-04-23 | A multiple frame |
| HK713/87A HK71387A (en) | 1982-02-05 | 1987-10-01 | A multiple frame |
| HK708/87A HK70887A (en) | 1982-02-05 | 1987-10-01 | Semiconductor device and a method of producing the same |
| MY602/87A MY8700602A (en) | 1982-02-05 | 1987-12-30 | Semiconductor device and a method of producing the same |
| MY603/87A MY8700603A (en) | 1982-02-05 | 1987-12-30 | A multiple frame |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57016230A JPS58134450A (en) | 1982-02-05 | 1982-02-05 | Semiconductor device and manufacture thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58134450A true JPS58134450A (en) | 1983-08-10 |
Family
ID=11910741
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57016230A Pending JPS58134450A (en) | 1982-02-05 | 1982-02-05 | Semiconductor device and manufacture thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58134450A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59149636U (en) * | 1983-03-25 | 1984-10-06 | イビデン株式会社 | Chippukiyariya |
| JPS6038841A (en) * | 1983-08-12 | 1985-02-28 | Hitachi Ltd | Semiconductor device |
| JPH02198147A (en) * | 1989-01-26 | 1990-08-06 | Omron Tateisi Electron Co | Ic package |
| JPH10308467A (en) * | 1995-11-17 | 1998-11-17 | Anam Ind Co Inc | Ball grid array semiconductor package unit PCB carrier frame and method of manufacturing ball grid array semiconductor package using the same |
-
1982
- 1982-02-05 JP JP57016230A patent/JPS58134450A/en active Pending
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