JP2025102638A - Coating agent for lift-off process and method for producing laminate - Google Patents

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Abstract

To provide a coating agent for a lift-off process including a pattern formation step that does not need exposure to light, the coating agent being excellent in fine line reproducibility, immersion cleanability, printability and stability over time.SOLUTION: A coating agent for a lift-off process including a pattern formation step that does not need exposure to light includes an aqueous resin having acidic groups and inorganic fine particles. A laminate having a coating layer of 1 μm thickness formed on a substrate using the coating agent is treated under the following conditions, and the residual rate of the coating layer, expressed by the following (formula 1) is less than 80 mass%. (Treatment conditions) the laminate is immersed in ion-exchanged water at 40°C for 10 minutes, and then dried in an oven at 80°C for 1 minute. (Formula 1) the residual rate of coating layer (mass%)=(the mass of the coating layer after the treatment)/(the mass of the coating layer before the treatment)×100.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、リフトオフプロセス用コーティング剤、及び積層体の製造方法に関する。 The present invention relates to a coating agent for lift-off processes and a method for manufacturing a laminate.

従来、半導体や太陽電池パネルといった電子部品の基材上に、微細なパターン化電極層を形成するための手法の一つとして、リフトオフ工法やフォトリソグラフィ工法が主に採用されているが、生産性向上の観点から、エッチング工程が不要である、リフトオフ工法(リフトオフプロセス)が注目を集めている。 Traditionally, lift-off and photolithography methods have been the main methods used to form finely patterned electrode layers on the substrates of electronic components such as semiconductors and solar cell panels. However, from the perspective of improving productivity, the lift-off method (lift-off process), which does not require an etching process, is attracting attention.

リフトオフプロセスは、一般的には、(1)基材上に、フォトレジスト膜を貼付、又は、フォトレジスト液を塗布することによりレジスト層を形成し、(2)フォトマスクを用いてレジスト層を露光し、(3)現像液を用いて、不要なレジスト層を除去することで、レジストパターンを形成し、(4)スパッタリング又は蒸着により、基材上及びレジスト層上に電極層を形成し、(5)最後に前記レジストパターンを除去することにより、パターン化電極層を形成するものである。
しかしながら、当該工法は依然工数が多く、半導体や太陽電池パネルの生産においてボトルネックになっており、更なる生産効率の向上が求められている。
生産性向上のため、上記(1)の工程において、印刷によりパターン化されたレジスト層を形成し、かつ、上記(2)及び(3)の工程を含まないプロセスの開発も行われており、当該プロセスもリフトオフプロセスに含まれる。具体的には、(1’)基材上に、グラビア印刷等により、露光によらずにパターン化されたレジスト膜(レジストパターン)を形成し、(2’)スパッタリング又は蒸着により、基材上及びレジスト層上に電極層を形成し、(3’)最後に前記レジストパターンを除去することにより、パターン化電極層を形成するものである。
The lift-off process generally involves the steps of: (1) forming a resist layer by attaching a photoresist film or applying a photoresist liquid onto a substrate; (2) exposing the resist layer using a photomask; (3) removing unnecessary resist layer using a developer to form a resist pattern; (4) forming an electrode layer on the substrate and the resist layer by sputtering or vapor deposition; and (5) finally removing the resist pattern to form a patterned electrode layer.
However, this method still requires a large number of steps and is a bottleneck in the production of semiconductors and solar cell panels, so there is a demand for further improvements in production efficiency.
In order to improve productivity, a process has been developed in which a patterned resist layer is formed by printing in the above step (1) and does not include the above steps (2) and (3), and this process is also included in the lift-off process. Specifically, (1') a resist film (resist pattern) that is patterned without exposure is formed on a substrate by gravure printing or the like, (2') an electrode layer is formed on the substrate and on the resist layer by sputtering or vapor deposition, and (3') the resist pattern is finally removed to form a patterned electrode layer.

特許文献1では、上記リフトオフプロセスの(1)~(3)で形成するレジスト膜の代わりに、ヒドロキシプロピルセルロースを含むコーティング剤をグラビア印刷でパターン塗工する方法が提案されている。特許文献2では、上記リフトオフプロセスの(1)~(3)で形成するレジスト膜の代わりに、ヒドロキシプロピルセルロース及び無機微粒子を含むコーティング剤をシルクスクリーン印刷でパターン塗工する方法が提案されている。しかしながら、特許文献1及び2に記載されたヒドロキシプロピルセルロースを含むコーティング剤は、酸性基を有する樹脂を有さず、水への溶解性が低いため、水での洗浄を行った際に、十分に除去できない懸念がある。 Patent Document 1 proposes a method of applying a pattern of a coating agent containing hydroxypropyl cellulose by gravure printing instead of the resist film formed in steps (1) to (3) of the lift-off process. Patent Document 2 proposes a method of applying a pattern of a coating agent containing hydroxypropyl cellulose and inorganic fine particles by silk screen printing instead of the resist film formed in steps (1) to (3) of the lift-off process. However, the coating agents containing hydroxypropyl cellulose described in Patent Documents 1 and 2 do not contain a resin with an acidic group and have low solubility in water, so there is a concern that they may not be sufficiently removed when washed with water.

特開2002-200833号公報JP 2002-200833 A 特開2013-258215号公報JP 2013-258215 A

本発明は、細線再現性、浸漬洗浄性、印刷適性及び経時安定性に優れた、露光によらないパターン形成工程を含むリフトオフプロセス用コーティング剤に関する。 The present invention relates to a coating agent for lift-off processes, including a pattern formation process that does not involve exposure, that has excellent fine line reproducibility, immersion cleanability, printability, and stability over time.

本発明者は前記課題に対して鋭意研究を重ねた結果、以下に記載の包装材を用いることで上記課題を解決することを見出し、本発明を成すに至った。 As a result of extensive research into the above-mentioned problems, the inventors discovered that the above-mentioned problems could be solved by using the packaging material described below, which led to the creation of the present invention.

すなわち本発明は、以下の[1]~[13]に関する。 That is, the present invention relates to the following [1] to [13].

[1]
露光によらないパターン形成工程を含むリフトオフプロセス用コーティング剤であって、酸性基を有する水性樹脂及び無機微粒子を含む、コーティング剤。
[1]
A coating agent for a lift-off process including a pattern formation step not involving exposure to light, the coating agent comprising an aqueous resin having an acidic group and inorganic fine particles.

[2]
[1]に記載のコーティング剤であって、前記コーティング剤を用いて形成された膜厚1μmのコーティング層を基材上に有する積層体を下記条件で処理した後の、下記(式1)で表される前記コーティング層の残留率が、80質量%未満である、コーティング剤。(処理条件)
前記積層体を40℃のイオン交換水に10分間浸漬させた後、80℃のオーブン中で1分間乾燥。
(式1)
コーティング層の残留率(質量%)=(処理後のコーティング層の質量)/(処理前のコーティング層の質量)×100
[2]
The coating agent according to [1], wherein after a laminate having a coating layer with a thickness of 1 μm formed using the coating agent on a substrate is treated under the following conditions, the residual rate of the coating layer represented by the following formula (1) is less than 80 mass %. (Treatment conditions)
The laminate was immersed in ion-exchanged water at 40° C. for 10 minutes, and then dried in an oven at 80° C. for 1 minute.
(Formula 1)
Residual rate of coating layer (mass %)=(mass of coating layer after treatment)/(mass of coating layer before treatment)×100

[3]
酸性基を有する水性樹脂が、酸性基を有するポリビニルアルコール系樹脂(A)である、[1]又は[2]に記載のコーティング剤。
[3]
The coating agent according to [1] or [2], wherein the aqueous resin having an acidic group is a polyvinyl alcohol-based resin (A) having an acidic group.

[4]
更に、酸性基を有しない水性樹脂を含む、[1]~[3]いずれかに記載のコーティング剤。
[4]
The coating agent according to any one of [1] to [3], further comprising an aqueous resin having no acidic group.

[5]
酸性基を有する水性樹脂と酸性基を有しない水性樹脂との質量比率が、9:1~1:9である、[4]に記載のコーティング剤。
[5]
The coating agent according to [4], wherein the mass ratio of the aqueous resin having an acidic group to the aqueous resin not having an acidic group is 9:1 to 1:9.

[6]
無機微粒子が、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、シリカ、酸化チタン、タルク、モンモリロナイト、カオリン、及びマイカからなる群より選ばれる少なくとも1種である、[1]~[5]いずれかに記載のコーティング剤。
[6]
The coating agent according to any one of [1] to [5], wherein the inorganic fine particles are at least one selected from the group consisting of calcium carbonate, barium sulfate, magnesium carbonate, silica, titanium oxide, talc, montmorillonite, kaolin, and mica.

[7]
無機微粒子のレーザー散乱法による平均粒子径が、5μm以下である、[1]~[6]いずれかに記載のコーティング剤。
[7]
The coating agent according to any one of [1] to [6], wherein the inorganic fine particles have an average particle size of 5 μm or less as measured by a laser scattering method.

[8]
酸性基を有する水性樹脂と無機微粒子との質量比率が、1:0.2~1:3である、[1]~[7]いずれかに記載のコーティング剤。
[8]
The coating agent according to any one of [1] to [7], wherein a mass ratio of the aqueous resin having an acidic group to the inorganic fine particles is 1:0.2 to 1:3.

[9]
更に、アルコール系有機溶剤を含む、[1]~[8]いずれかに記載のコーティング剤。
[9]
The coating agent according to any one of [1] to [8], further comprising an alcohol-based organic solvent.

[10]
アルコール系有機溶剤が、メタノール、エタノール、イソプロパノール、及びn-プロパノールからなる群から選ばれる少なくとも1種である、[9]に記載のコーティング剤。
[10]
The coating agent according to [9], wherein the alcohol-based organic solvent is at least one selected from the group consisting of methanol, ethanol, isopropanol, and n-propanol.

[11]
JIS K 7117-1に従って測定された、25℃、固形分18質量%における粘度が、20~500mPa・sである、[1]~[10]いずれかに記載のコーティング剤。
[11]
The coating agent according to any one of [1] to [10], which has a viscosity of 20 to 500 mPa·s at 25° C. and a solid content of 18% by mass, as measured in accordance with JIS K 7117-1.

[12]
無機微粒子の抽出水のpHが、7.5~14.0である、[1]~[11]いずれかに記載のコーティング剤。
[12]
The coating agent according to any one of [1] to [11], wherein the pH of the water in which the inorganic fine particles are extracted is 7.5 to 14.0.

[13]
基材上の一部に、酸性基を有する水性樹脂及び無機微粒子を含むリフトオフ用コーティング剤を印刷して、露光によらずにパターン化されたコーティング層を形成する工程と、
前記基材上、及び前記コーティング層上に電極層を形成することにより、基材上にコーティング層及び電極層を有する積層体(C)を得る工程と、
前記、基材上にコーティング層及び電極層を有する積層体(C)を、コーティング層除去液に浸漬して、前記コーティング層を除去することにより、基材上にパターン化された電極層を有する積層体(D)を得る工程と、を有する、積層体の製造方法。
[13]
A step of printing a coating agent for lift-off, which includes an aqueous resin having an acidic group and inorganic fine particles, on a part of a substrate to form a patterned coating layer without exposure to light;
forming an electrode layer on the substrate and on the coating layer to obtain a laminate (C) having a coating layer and an electrode layer on the substrate;
and a step of immersing the laminate (C) having a coating layer and an electrode layer on a substrate in a coating layer removal liquid to remove the coating layer, thereby obtaining a laminate (D) having a patterned electrode layer on a substrate.

本発明により、細線再現性、浸漬洗浄性、印刷適性及び経時安定性に優れた露光によらないパターン形成工程を含むリフトオフプロセス用コーティング剤を提供可能となった。 The present invention makes it possible to provide a coating agent for lift-off processes, including a pattern formation process that does not require exposure, that has excellent fine line reproducibility, immersion cleanability, printability, and stability over time.

リフトオフプロセスにおいて、基材上に本発明のコーティング剤を印刷してパターンコーティング層を形成した状態を示すイメージ図である。FIG. 2 is an image showing a state in which the coating agent of the present invention is printed on a substrate to form a pattern coating layer in a lift-off process. リフトオフプロセスにおいて、図1に示される基材上及びパターンコーティング層上に電極層を形成した状態を示すイメージ図である。FIG. 2 is an image showing a state in which an electrode layer is formed on the substrate and the pattern coating layer shown in FIG. 1 in a lift-off process. リフトオフプロセスにおいて、コーティング層除去液を用いて図2に示されるパターンコーティング層を除去することにより、基材上に電極層を形成した状態を示すイメージ図である。FIG. 3 is an image showing a state in which an electrode layer is formed on a substrate by removing the pattern coating layer shown in FIG. 2 using a coating layer remover in a lift-off process.

以下に本発明の実施の形態を詳細に説明するが、記載する実施形態又は要件の説明は、本発明の実施形態の一例であり、本発明はその要旨を超えない限りこれらの内容に限定されない。 The following describes in detail the embodiments of the present invention, but the embodiments and explanations of the requirements described are merely examples of the embodiments of the present invention, and the present invention is not limited to these contents as long as they do not exceed the gist of the present invention.

<リフトオフプロセス用コーティング剤>
本発明のコーティング剤は、酸性基を有する水性樹脂及び無機微粒子を含み、露光によらないパターン形成工程を含むリフトオフプロセス用であることを特徴とする。一般的なリフトオフプロセスにおいて、パターン化されたレジスト膜の形成方法は限定されないが、本発明における「リフトオフプロセス」とは、コーティング剤からなるコーティング層(レジスト膜)を除去し、パターン化された電極層を有する層を形成できるものである。具体的には、グラビア印刷等の公知の印刷方法を用いてパターン化されたレジスト膜を形成し、除去するプロセスが挙げられる。本発明では、パターン化されたレジスト膜を露光によらずに形成することにより、パターン化されたレジスト膜を形成する際の露光工程が不要であり、露光工程が必須の公知技術とは異なるプロセスである。
本発明は、露光によらないパターン形成工程を含むリフトオフプロセス用コーティング剤であり、基板上の一部に、本発明のコーティング剤を印刷して、パターン化されたコーティング層を形成する工程と、前記基材上、及び前記コーティング層上に電極層を形成することにより、基材上にコーティング層及び電極層を有する積層体(C)を得る工程と、コ
ーティング層除去液に浸漬して、前記コーティング層及び前記電極層を除去することにより、基材上にパターン化された電極層を有する積層体(D)を得る工程に用いられることが好ましい。
<Coating agent for lift-off process>
The coating agent of the present invention is characterized in that it contains an aqueous resin having an acidic group and inorganic fine particles, and is for a lift-off process including a pattern formation step not involving exposure. In a general lift-off process, the method for forming a patterned resist film is not limited, but the "lift-off process" in the present invention is a process in which a coating layer (resist film) made of a coating agent is removed to form a layer having a patterned electrode layer. Specifically, a process in which a patterned resist film is formed using a known printing method such as gravure printing and then removed can be mentioned. In the present invention, by forming a patterned resist film without exposure, an exposure step is not required when forming a patterned resist film, and this process is different from known techniques in which an exposure step is essential.
The present invention relates to a coating agent for a lift-off process including a pattern formation step not involving exposure to light, and is preferably used in a step of printing the coating agent of the present invention on a part of a substrate to form a patterned coating layer, a step of forming electrode layers on the substrate and on the coating layer to obtain a laminate (C) having a coating layer and an electrode layer on the substrate, and a step of immersing the substrate in a coating layer removal liquid to remove the coating layer and the electrode layer to obtain a laminate (D) having a patterned electrode layer on the substrate.

上述の通り、本発明における、露光によらないパターン形成工程を含むリフトオフプロセスとは、レジスト等の脱離層をグラビア印刷等の公知の印刷方法を用いてパターニングした後に、電極材料の製膜を行い、レジスト等の脱離層を剥離して電極を形成するプロセスである。なお、リフトオフプロセスの別の呼称としてシーライトプロセスやシーライト加工があるが、同じプロセスである。
露光によらないパターン形成工程を含むリフトオフプロセスは、例えば、基材上の電極層が不要な箇所に、本発明のコーティング剤をグラビア印刷してパターンコーティング層を形成し(図1)、その後、前記基材上及び前記パターンコーティング層上に、酸化インジウムスズ等の電極材料を用いてスパッタ等の方法で電極層を形成し(図2)、最後に、後述するコーティング層除去液を用いて前記パターンコーティング層を除去する工程を含む。これにより、必要な箇所にのみ、電極層を形成することができる(図3)。
なお、本発明の課題である細線再現性は、最終的に得られる電極層の細線の断線の有無を評価しており、本発明のコーティング剤を用いることで、上述のパターンコーティング層を高精度で形成することができるため、電極層の断線を抑制することができる。
本発明のコーティング剤は、露光によらないパターン形成工程を含むリフトオフプロセスに使用でき、例えば、半導体又は太陽電池パネルの製造に用いられる電子部品の基材上に、微細なパターン化電極層を形成するために用いることが好ましい。
As described above, the lift-off process including a pattern formation step not involving exposure in the present invention is a process in which a layer of resist or the like is patterned using a known printing method such as gravure printing, a film of an electrode material is formed, and the layer of resist or the like is peeled off to form an electrode. Note that the lift-off process is also called the celite process or celite processing, but it is the same process.
The lift-off process including a pattern formation step not involving exposure includes, for example, a step of forming a pattern coating layer by gravure printing the coating agent of the present invention on a portion of a substrate where an electrode layer is not required (FIG. 1), then forming an electrode layer on the substrate and the pattern coating layer by a method such as sputtering using an electrode material such as indium tin oxide (FIG. 2), and finally removing the pattern coating layer using a coating layer removal liquid described later. This allows the electrode layer to be formed only in the required portion (FIG. 3).
The fine line reproducibility, which is the subject of the present invention, is evaluated by evaluating the presence or absence of breaks in the fine lines of the electrode layer finally obtained. By using the coating agent of the present invention, the above-mentioned pattern coating layer can be formed with high precision, thereby suppressing breaks in the electrode layer.
The coating agent of the present invention can be used in a lift-off process including a pattern formation step not involving exposure to light, and is preferably used to form a fine patterned electrode layer on the substrate of an electronic component used in the manufacture of, for example, a semiconductor or solar panel.

本発明のコーティング剤は、JIS K7117-1に従って測定された、25℃、固形分18質量%における粘度が、20~450mPa・sであることが好ましく、100~300mPa・sであることがより好ましく、200~280mPa・sであることが更に好ましい。コーティング剤の25℃、固形分18質量%における粘度が上記範囲である場合、希釈溶剤による印刷等のための粘度調整時、必要固形分を維持したまま粘度調整が可能であるため、細線再現性、印刷適性、及び経時安定性が良好となる。また、高速印刷可能なグラビア印刷、及びフレキソ印刷の適性粘度の観点から、25℃、固形分10%における粘度が、20~200mPa・sであることが好ましく、50~150mPa・sであることがより好ましい。コーティング剤の25℃、固形分10質量%における粘度が上記範囲である場合、細線再現性及び印刷適性が良好となる。 The coating agent of the present invention preferably has a viscosity of 20 to 450 mPa·s at 25°C and 18% solids by mass, measured according to JIS K7117-1, more preferably 100 to 300 mPa·s, and even more preferably 200 to 280 mPa·s. When the viscosity of the coating agent at 25°C and 18% solids by mass is within the above range, the viscosity can be adjusted while maintaining the necessary solids when adjusting the viscosity for printing, etc. using a dilution solvent, so that fine line reproducibility, printability, and stability over time are good. In addition, from the viewpoint of suitable viscosity for gravure printing and flexographic printing, which are capable of high-speed printing, the viscosity at 25°C and 10% solids by mass is preferably 20 to 200 mPa·s, and more preferably 50 to 150 mPa·s. When the viscosity of the coating agent at 25°C and 10% solids by mass is within the above range, fine line reproducibility and printability are good.

本発明のコーティング剤が酸性基を有する水性樹脂及び無機微粒子を含むことにより、水性樹脂が有する酸性基が無機微粒子の表面に吸着し、安定性の高い無機微粒子分散体が形成されるため、高速印刷に適した粘弾性を有し、かつ、水に対して高い溶解性を有する。なお、前記無機微粒子分散体が高速印刷に適した粘弾性を有していることにより、高精度なパターンコーティング層を形成可能であるため、電極層の断線を抑制することができる。従って、優れた細線再現性、浸漬洗浄性、及び経時安定性を実現することができる。ただし、上記作用は科学的考察に基づくものであって、本発明は当該作用を奏するもののみに限定されない。 The coating agent of the present invention contains an aqueous resin having acidic groups and inorganic fine particles, and the acidic groups of the aqueous resin are adsorbed to the surface of the inorganic fine particles to form a highly stable inorganic fine particle dispersion, which has viscoelasticity suitable for high-speed printing and is highly soluble in water. Since the inorganic fine particle dispersion has viscoelasticity suitable for high-speed printing, a highly accurate pattern coating layer can be formed, and breaks in the electrode layer can be suppressed. Therefore, excellent fine line reproducibility, immersion cleanability, and stability over time can be achieved. However, the above action is based on scientific considerations, and the present invention is not limited to only those that exhibit this action.

上記の理由から、本発明のコーティング剤は、例えば10m/分以上の印刷速度における印刷に適し、50m/分以上、100m/分以上、または120m/分以上の高速印刷にも適する。本発明のコーティング剤は、特に生産性の高い、グラビア印刷で印刷速度120m/分以上の高速印刷においても、優れた細線再現性を発揮できる。 For the reasons stated above, the coating agent of the present invention is suitable for printing at a printing speed of, for example, 10 m/min or more, and is also suitable for high-speed printing at 50 m/min or more, 100 m/min or more, or 120 m/min or more. The coating agent of the present invention can exhibit excellent fine-line reproducibility even in high-speed printing at a printing speed of 120 m/min or more, particularly in gravure printing, which is highly productive.

<酸性基を有する水性樹脂>
本発明のコーティング剤は、酸性基を有する水性樹脂を含有する。当該水性樹脂は、後述する水性溶媒と混和する樹脂であり、水系のコーティング層除去液に対して溶解性を有す
る。
酸性基としては、無機微粒子への吸着能を有していることが好ましく、スルホン酸基、カルボキシル基、フェノール性水酸基等の公知の酸性基を使用できるが、中でもカルボキシル基が好ましい。
<Aqueous Resin Having Acidic Group>
The coating agent of the present invention contains an aqueous resin having an acidic group. The aqueous resin is a resin that is miscible with an aqueous solvent described below and has solubility in an aqueous coating layer removal liquid.
The acidic group is preferably one that has an ability to be adsorbed to inorganic fine particles, and known acidic groups such as sulfonic acid groups, carboxyl groups, and phenolic hydroxyl groups can be used, with the carboxyl group being preferred.

酸性基を有する水性樹脂の樹脂骨格としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂、アクリル樹脂、スチレン-アクリル樹脂、スチレン-マレイン酸樹脂、ウレタン樹脂、ポリ乳酸樹脂、レゾール型フェノール樹脂、メチロール化ユリア(尿素)樹脂、メチロール化メラミン樹脂、ポリエチレンオキシド、ポリアクリルアミド、多糖類系樹脂及びこれらの変性樹脂が挙げられる。これら酸性基を有する水性樹脂は、単独又は二種以上で用いることができる。上記の中でも、ポリビニルアルコール系樹脂、アクリル樹脂及び多糖類系樹脂からなる群より選ばれる1種以上であることが好ましく、ポリビニルアルコール系樹脂、及び/又は多糖類系樹脂であることがより好ましく、ポリビニルアルコール系樹脂であることが更に好ましい。
多糖類系樹脂としては、公知の単糖類が2つ以上結合した化合物であればよく、例えば、セルロース系樹脂、プルラン、デンプン、アガロース、アラビアガムが挙げられ、セルロース系樹脂、プルラン、及びデンプンからなる群より選ばれる1種以上であることが好ましい。
なお、酸性基を持たない樹脂骨格の場合は、公知の方法により酸変性を行い、酸性基を付与することができる。
Examples of the resin skeleton of the aqueous resin having an acidic group include polyvinyl alcohol resin, acrylic resin, styrene-acrylic resin, styrene-maleic acid resin, urethane resin, polylactic acid resin, resol-type phenol resin, methylolated urea resin, methylolated melamine resin, polyethylene oxide, polyacrylamide, polysaccharide resin, and modified resins thereof. These aqueous resins having an acidic group can be used alone or in combination of two or more. Among the above, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of polyvinyl alcohol resin, acrylic resin, and polysaccharide resin, more preferably polyvinyl alcohol resin and/or polysaccharide resin, and even more preferably polyvinyl alcohol resin.
The polysaccharide resin may be any compound in which two or more known monosaccharides are bonded together, such as cellulose resin, pullulan, starch, agarose, and gum arabic, and is preferably one or more selected from the group consisting of cellulose resin, pullulan, and starch.
In the case of a resin skeleton that does not have an acidic group, acidic groups can be imparted to the resin skeleton by acid modification using a known method.

酸性基を有する水性樹脂の含有率は、細線再現性、浸漬洗浄性、印刷適性及び経時安定性の観点から、コーティング剤100質量%中、1~30質量%であることが好ましく、2~15質量%であることがより好ましく、3~8質量%であることが更に好ましい。 From the viewpoints of fine line reproducibility, immersion washability, printability, and stability over time, the content of the aqueous resin having acidic groups is preferably 1 to 30 mass% of 100 mass% of the coating agent, more preferably 2 to 15 mass%, and even more preferably 3 to 8 mass%.

<ポリビニルアルコール系樹脂(A)>
上述した通り、酸性基を有する水性樹脂は、酸性基を有するポリビニルアルコール系樹脂(A)であることが好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂(A)は、上述の酸性基、及びビニルアルコール単位を有する樹脂であればよく、さらに、エチレン由来の構造単位を含む、エチレンビニルアルコール樹脂であってもよい。
<Polyvinyl alcohol resin (A)>
As described above, the aqueous resin having an acidic group is preferably a polyvinyl alcohol resin (A) having an acidic group. The polyvinyl alcohol resin (A) may be any resin having the above-mentioned acidic group and vinyl alcohol unit, and may further be an ethylene-vinyl alcohol resin containing a structural unit derived from ethylene.

ポリビニルアルコール系樹脂(A)の重合度は、100~3,000であることが好ましく、500~2,400であることがより好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂(A)の重合度が上記範囲である場合、浸漬洗浄性、細線再現性、印刷適性及び経時安定性が良好となる。 The degree of polymerization of the polyvinyl alcohol-based resin (A) is preferably 100 to 3,000, and more preferably 500 to 2,400. When the degree of polymerization of the polyvinyl alcohol-based resin (A) is within the above range, the immersion cleanability, fine line reproducibility, printability, and stability over time are good.

ポリビニルアルコール系樹脂(A)におけるエチレン由来の構造単位の含有率は、1~40モル%であることが好ましく、3~20モル%であることがより好ましく、5~15モル%であることが更に好ましい。エチレン由来の構造単位の含有率が上記範囲である場合、浸漬洗浄性及び経時安定性が良好となる。 The content of ethylene-derived structural units in the polyvinyl alcohol resin (A) is preferably 1 to 40 mol%, more preferably 3 to 20 mol%, and even more preferably 5 to 15 mol%. When the content of ethylene-derived structural units is within the above range, the immersion cleanability and stability over time are good.

ポリビニルアルコール系樹脂(A)は架橋剤で架橋されたものを使用することができ、使用される架橋剤としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、シランカップリング系架橋剤等の公知の架橋剤が挙げられ、オキサゾリン系架橋剤、及び/又はシランカップリング系架橋剤が好ましい。 The polyvinyl alcohol resin (A) may be crosslinked with a crosslinking agent. Examples of the crosslinking agent include known crosslinking agents such as isocyanate-based crosslinking agents, epoxy-based crosslinking agents, melamine-based crosslinking agents, oxazoline-based crosslinking agents, and silane coupling-based crosslinking agents, with oxazoline-based crosslinking agents and/or silane coupling-based crosslinking agents being preferred.

ポリビニルアルコール系樹脂(A)のけん化度は、以下(式2)で表され、80モル%以上であることが好ましく、90モル%であることがより好ましく、95モル%であることが好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂(A)のけん化度が上記範囲である場合、浸漬洗浄性及び経時安定性が良好となる。
(式2)
けん化度:(水酸基数)/{(水酸基数)+(酢酸基数)}×100 [モル%]
The degree of saponification of the polyvinyl alcohol-based resin (A) is represented by the following formula 2, and is preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol%, and more preferably 95 mol%. When the degree of saponification of the polyvinyl alcohol-based resin (A) is within the above range, the immersion cleanability and stability over time are good.
(Formula 2)
Degree of saponification: (number of hydroxyl groups)/{(number of hydroxyl groups)+(number of acetate groups)}×100 [mol %]

ポリビニルアルコール系樹脂(A)の市販品としては、例えば、クラレポバール25-88KL(クラレ社製、イタコン酸変性ポリビニルアルコール樹脂)、6-77KL(クラレ社製、酸変性ポリビニルアルコール樹脂)、ゴーセネックスL-3266、CKS-50(三菱ケミカル社製、スルホン酸変性ポリビニルアルコール樹脂)が挙げられる。 Commercially available polyvinyl alcohol resins (A) include, for example, Kuraray Poval 25-88KL (manufactured by Kuraray Co., Ltd., itaconic acid modified polyvinyl alcohol resin), 6-77KL (manufactured by Kuraray Co., Ltd., acid modified polyvinyl alcohol resin), Gohsenex L-3266, and CKS-50 (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., sulfonic acid modified polyvinyl alcohol resin).

<酸性基を有しない水性樹脂>
本発明のコーティング剤は、更に、酸性基を有しない水性樹脂を含有することが好ましい。
酸性基を有しない水性樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂、アクリル樹脂、スチレン-アクリル樹脂、スチレン-マレイン酸樹脂、ウレタン樹脂、ポリ乳酸樹脂、多糖類系樹脂及びこれらの変性樹脂が挙げられる。これらの親水性樹脂は、単独又は二種以上で用いることができる。上記の中でも、ポリビニルアルコール系樹脂を含むことが好ましい。
<Aqueous resin having no acidic group>
The coating agent of the present invention preferably further contains an aqueous resin having no acidic groups.
Examples of aqueous resins that do not have an acidic group include polyvinyl alcohol resins, acrylic resins, styrene-acrylic resins, styrene-maleic acid resins, urethane resins, polylactic acid resins, polysaccharide resins, and modified resins thereof. These hydrophilic resins can be used alone or in combination of two or more. Among the above, it is preferable to use a polyvinyl alcohol resin.

酸性基を有しない水性樹脂の含有率は、細線再現性、印刷適性及び浸漬洗浄性の観点から、コーティング剤100質量%中、0.1~30質量%であることが好ましく、1~15質量%であることがより好ましく、2~8質量%であることが更に好ましい。 From the viewpoints of fine line reproducibility, printability and immersion washability, the content of the aqueous resin without acidic groups is preferably 0.1 to 30 mass% of 100 mass% of the coating agent, more preferably 1 to 15 mass%, and even more preferably 2 to 8 mass%.

本発明のコーティング剤が、酸性基を有する水性樹脂及び酸性基を有しない水性樹脂をいずれも含む場合、酸性基を有する水性樹脂と、酸性基を有しない水性樹脂との合計の含有率は、細線再現性、浸漬洗浄性、印刷適性及び経時安定性の観点から、コーティング剤100質量%中、1~30質量%であることが好ましく、3~20質量%であることがより好ましく、5~15質量%であることが更に好ましい。 When the coating agent of the present invention contains both an aqueous resin having an acidic group and an aqueous resin not having an acidic group, the total content of the aqueous resin having an acidic group and the aqueous resin not having an acidic group is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 3 to 20% by mass, and even more preferably 5 to 15% by mass, based on 100% by mass of the coating agent, from the viewpoints of fine line reproducibility, immersion cleanability, printability, and stability over time.

本発明のコーティング剤が、酸性基を有する水性樹脂及び酸性基を有しない水性樹脂をいずれも含む場合、酸性基を有する水性樹脂と酸性基を有しない水性樹脂との質量比率は、9:1~1:9であることが好ましく、7:3~3:7であることがより好ましい。上記質量比率が上記範囲である場合、細線再現性、浸漬洗浄性、印刷適性及び経時安定性が良好となる。 When the coating agent of the present invention contains both an aqueous resin having an acidic group and an aqueous resin not having an acidic group, the mass ratio of the aqueous resin having an acidic group to the aqueous resin not having an acidic group is preferably 9:1 to 1:9, and more preferably 7:3 to 3:7. When the mass ratio is within the above range, fine line reproducibility, immersion washability, printability, and stability over time are good.

<ポリビニルアルコール系樹脂(B)>
上述した通り、本発明のコーティング剤は、酸性基を有する水性樹脂の他に、酸性基を有しないポリビニルアルコール系樹脂(B)を含むことも好ましい。
ポリビニルアルコール系樹脂(B)は、酸性基を有さず、ビニルアルコール単位を有する樹脂であればよく、さらに、エチレン由来の構造単位を含んでいてもよい。
ポリビニルアルコール系樹脂(B)の、重合度、架橋、けん化度についての好ましい態様は、上述の<ポリビニルアルコール系樹脂(A)>の記載を援用することができる。
<Polyvinyl alcohol resin (B)>
As described above, the coating agent of the present invention preferably contains a polyvinyl alcohol-based resin (B) that does not have an acidic group, in addition to the aqueous resin having an acidic group.
The polyvinyl alcohol-based resin (B) may be any resin having no acidic group and having a vinyl alcohol unit, and may further contain a structural unit derived from ethylene.
As for the preferred embodiments of the degree of polymerization, crosslinking and degree of saponification of the polyvinyl alcohol-based resin (B), the description of the above-mentioned <Polyvinyl alcohol-based resin (A)> can be cited.

ポリビニルアルコール系樹脂(B)は、エチレン由来の構造単位を含んでいることが好ましく、ポリビニルアルコール系樹脂(B)におけるエチレン由来の構造単位の含有率は、1~40モル%であることが好ましく、3~20モル%であることがより好ましく、5~15モル%であることが更に好ましい。エチレン由来の構造単位の含有率が上記範囲である場合、浸漬洗浄性及び経時安定性が良好となる。 The polyvinyl alcohol resin (B) preferably contains structural units derived from ethylene, and the content of structural units derived from ethylene in the polyvinyl alcohol resin (B) is preferably 1 to 40 mol%, more preferably 3 to 20 mol%, and even more preferably 5 to 15 mol%. When the content of structural units derived from ethylene is within the above range, the immersion cleanability and stability over time are good.

<無機微粒子>
本発明のコーティング剤は、無機微粒子を含む。無機微粒子としては、酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛酸化クロム、アルミニウム粒子、マイカ(雲母)、ブロンズ粉、クロムバ
ーミリオン、黄鉛、カドミウムイエロー、カドミウムレッド、群青、紺青、ベンガラ、黄色酸化鉄、鉄黒、シリカ、硫酸バリウム、マイカ、モンモリロナイト、カオリンクレー、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等が挙げられ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、シリカ、酸化チタン、タルク、モンモリロナイト、カオリン、及びマイカからなる群より選ばれる少なくとも1種であることが好ましく、炭酸カルシウムであることがより好ましい。炭酸カルシウムは、比重が小さく沈降しにくいため、コーティング剤の安定性を向上させ、吸油量や形状に起因するコーティング剤の粘度上昇も少ないため、好適である。
<Inorganic fine particles>
The coating agent of the present invention contains inorganic fine particles. Examples of inorganic fine particles include titanium oxide, zinc oxide, zinc sulfide chromium oxide, aluminum particles, mica, bronze powder, chrome vermilion, yellow lead, cadmium yellow, cadmium red, ultramarine, Prussian blue, red iron oxide, yellow iron oxide, iron black, silica, barium sulfate, mica, montmorillonite, kaolin clay, talc, calcium carbonate, magnesium carbonate, etc., and it is preferable that it is at least one selected from the group consisting of calcium carbonate, barium sulfate, magnesium carbonate, silica, titanium oxide, talc, montmorillonite, kaolin, and mica, and it is more preferable that it is calcium carbonate. Calcium carbonate is suitable because it has a small specific gravity and is difficult to settle, which improves the stability of the coating agent, and the viscosity increase of the coating agent due to the oil absorption amount and shape is small.

無機微粒子のレーザー散乱法により測定した平均粒子径は、5μm以下が好ましく、2μm以下がより好ましく、1μm以下が更に好ましく、0.5μm以下が特に好ましく、0.01~0.1μmであることが最も好ましい。無機微粒子のレーザー散乱測定法による平均粒子径が上記範囲である場合、細線再現性、印刷適性及び経時安定性が向上する。 The average particle size of the inorganic microparticles measured by the laser scattering method is preferably 5 μm or less, more preferably 2 μm or less, even more preferably 1 μm or less, particularly preferably 0.5 μm or less, and most preferably 0.01 to 0.1 μm. When the average particle size of the inorganic microparticles measured by the laser scattering method is within the above range, the fine line reproducibility, printability, and stability over time are improved.

無機微粒子の抽出水のpHは、中性からアルカリ性であることが好ましく、7.5~14であることが好ましく、7.8~12であることがより好ましく、8.0~9.0であることが更に好ましい。特にアルカリ性であると水性樹脂の酸性基が吸着しやすいため、細線再現性、浸漬洗浄性及び経時安定性が向上する。無機微粒子の抽出水のpHは、無機微粒子5部とイオン交換水100部とを混合して5分間煮沸し、30分間攪拌した後の上澄み水のpHをJIS Z 8802に準拠してpHメーターで測定することにより求められる。 The pH of the water extracted from the inorganic fine particles is preferably neutral to alkaline, more preferably 7.5 to 14, more preferably 7.8 to 12, and even more preferably 8.0 to 9.0. In particular, when the water is alkaline, the acidic groups of the aqueous resin are easily adsorbed, improving fine line reproducibility, immersion cleaning properties, and stability over time. The pH of the water extracted from the inorganic fine particles can be determined by mixing 5 parts of the inorganic fine particles with 100 parts of ion-exchanged water, boiling for 5 minutes, stirring for 30 minutes, and measuring the pH of the supernatant water using a pH meter in accordance with JIS Z 8802.

無機微粒子の比表面積は、10~100m/gであることが好ましく、10~80m/gであることがより好ましい。無機微粒子の比表面積が上記範囲である場合、細線再現性、印刷適性及び経時安定性が向上する。 The specific surface area of the inorganic fine particles is preferably 10 to 100 m 2 /g, and more preferably 10 to 80 m 2 /g. When the specific surface area of the inorganic fine particles is within the above range, fine line reproducibility, printability, and stability over time are improved.

無機微粒子の形状は、球状、正方形、立方体、層状等の公知の形状であってよいが、分散性の観点から、球状であることが好ましい。無機微粒子が球状である場合、細線再現性、浸漬洗浄性、印刷適性及び経時安定性が向上する。 The shape of the inorganic fine particles may be any known shape such as spherical, square, cubic, or lamellar, but from the viewpoint of dispersibility, spherical is preferable. When the inorganic fine particles are spherical, the fine line reproducibility, immersion washability, printability, and stability over time are improved.

<炭酸カルシウム>
炭酸カルシウムとしては、天然炭酸カルシウム(重質炭酸カルシウム)、及び、合成炭酸カルシウム(軽質炭酸カルシウム)がある。天然炭酸カルシウムは石灰石から直接製造される物で、例えば石灰石原石を機械的に粉砕及び分級することにより製造できる。合成炭酸カルシウムは、水酸化カルシウムから製造される物で、例えば水酸化カルシウムを炭酸ガスと反応させることによって製造することができる。
炭酸カルシウムとしては、更に脂肪酸、樹脂酸、シランカップリング剤、等によって表面処理をされた物も使用することができる。
<Calcium carbonate>
Calcium carbonate includes natural calcium carbonate (heavy calcium carbonate) and synthetic calcium carbonate (light calcium carbonate). Natural calcium carbonate is produced directly from limestone, for example by mechanically crushing and classifying limestone ore. Synthetic calcium carbonate is produced from calcium hydroxide, for example by reacting calcium hydroxide with carbon dioxide.
The calcium carbonate may also be surface-treated with a fatty acid, a resin acid, a silane coupling agent, or the like.

コーティング剤中の無機微粒子の含有率は、コーティング剤100質量%中、3~20質量%であることが好ましく、5~15質量%であることが更に好ましい。無機粒子の含有率が上記範囲である場合、細線再現性、浸漬洗浄性、印刷適性及び経時安定性が向上する。 The content of inorganic fine particles in the coating agent is preferably 3 to 20% by mass, and more preferably 5 to 15% by mass, based on 100% by mass of the coating agent. When the content of inorganic particles is within the above range, fine line reproducibility, immersion cleanability, printability, and stability over time are improved.

酸性基を有する水性樹脂と無機微粒子との質量比率は、1:0.2~1:3であることが好ましく、1:0.8~1:2であることがさらに好ましい。酸性基を有する水性樹脂と無機微粒子との質量比率が上記範囲である場合、細線再現性、浸漬洗浄性、印刷適性及び経時安定性が向上する。 The mass ratio of the aqueous resin having acidic groups to the inorganic fine particles is preferably 1:0.2 to 1:3, and more preferably 1:0.8 to 1:2. When the mass ratio of the aqueous resin having acidic groups to the inorganic fine particles is within the above range, fine line reproducibility, immersion washability, printability, and stability over time are improved.

<水性溶媒>
本発明のコーティング剤は、水性溶媒を含むことが好ましい。水性溶媒の主成分は水であることが好ましいが、水に加えて、水溶性有機溶剤を使用できる。具体的には、印刷条件(スピード、版深、デザイン、乾燥温度)に応じて、アルコール系有機溶剤、グリコール系有機溶剤等を含有させることができる。中でも、細線再現性、印刷適性及び経時安定性の観点から、アルコール系有機溶剤を含有することが好ましい。
ここで、本発明において、主成分が水であるとは、水性溶媒中、水の含有量が最も多いことをいう。また、水溶性有機溶剤とは、25℃で液体であり、かつ、25℃の水に対する溶解度が1質量%以上であるものを指す。
<Aqueous Solvent>
The coating agent of the present invention preferably contains an aqueous solvent. The main component of the aqueous solvent is preferably water, but in addition to water, a water-soluble organic solvent can be used. Specifically, depending on the printing conditions (speed, plate depth, design, drying temperature), an alcohol-based organic solvent, a glycol-based organic solvent, etc. can be contained. Among them, from the viewpoints of fine line reproducibility, printability, and stability over time, it is preferable to contain an alcohol-based organic solvent.
In the present invention, the term "mainly water" means that the content of water is the largest in the aqueous solvent, and the term "water-soluble organic solvent" means that the solvent is liquid at 25° C. and has a solubility of 1% by mass or more in water at 25° C.

水性溶媒の含有率は、細線再現性、印刷適性及び経時安定性の観点から、コーティング剤100質量%中、50~95質量%であることが好ましく、70~90質量%であることがより好ましい。 From the viewpoints of fine line reproducibility, printability and stability over time, the content of the aqueous solvent is preferably 50 to 95 mass% of 100 mass% of the coating agent, and more preferably 70 to 90 mass%.

水の含有率は、細線再現性、印刷適性及び経時安定性の観点から、水性溶媒100質量%中、70~100質量%であることが好ましく、85~95質量%であることがより好ましい。 From the viewpoints of fine line reproducibility, printability, and stability over time, the water content is preferably 70 to 100% by mass, and more preferably 85 to 95% by mass, out of 100% by mass of the aqueous solvent.

アルコール系有機溶剤、グリコール系有機溶剤等の水溶性有機溶剤の含有率は、経時安定性、印刷適性及び細線再現性の観点から、コーティング剤100質量%中0.1~30質量%であることが好ましく、1~15質量%であることがより好ましい。 From the viewpoints of stability over time, printability, and fine line reproducibility, the content of water-soluble organic solvents such as alcohol-based organic solvents and glycol-based organic solvents is preferably 0.1 to 30% by mass, and more preferably 1 to 15% by mass, based on 100% by mass of the coating agent.

上記アルコール系有機溶剤としては、メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、イソブタノール、ノルマルブタノール、ターシャリブタノール、ヘキサノール、オクタノール、デカノール等が挙げられる。グラビア印刷・フレキソ印刷によるコーティング方式の場合は、メタノール、エタノール、n-プロパノール、及びイソプロパノールからなる群より選ばれる少なくとも1種が好ましく、n-プロパノールが安定性の点でさらに好ましい。 The above-mentioned alcohol-based organic solvents include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, isobutanol, normal butanol, tertiary butanol, hexanol, octanol, decanol, etc. In the case of a coating method using gravure printing or flexographic printing, at least one selected from the group consisting of methanol, ethanol, n-propanol, and isopropanol is preferred, and n-propanol is even more preferred in terms of stability.

水性溶媒が水及びアルコール系有機溶剤を含む場合、水とアルコール系有機溶剤との質量比率は、経時安定性、印刷適性及び細線再現性の観点から、70:30~97:3であることが好ましく、85:15~95:5であることがより好ましい。 When the aqueous solvent contains water and an alcohol-based organic solvent, the mass ratio of water to alcohol-based organic solvent is preferably 70:30 to 97:3, and more preferably 85:15 to 95:5, from the viewpoints of stability over time, printability, and fine line reproducibility.

上記グリコール系有機溶剤としては、アセチレンジオール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノオクチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコール、ジピロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコール、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノプロピルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジブチルグリコール等が挙げられる。中でも、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、及びプロピレングリコールモノプロピルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも1種であるこ
とが好ましく、プロピレングリコール及び/又はプロピレングリコールモノプロピルエーテルがより好ましい。これら水溶性有機溶剤は単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of the glycol-based organic solvent include acetylene diol, ethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monooctyl ether, diethylene glycol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monopropyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monoethyl ether, tripropylene glycol monopropyl ether, tripropylene glycol monobutyl ether, and dibutyl glycol. Among them, at least one selected from the group consisting of diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, and propylene glycol monopropyl ether is preferred, and propylene glycol and/or propylene glycol monopropyl ether is more preferred. These water-soluble organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

水性溶媒が水及びグリコール系有機溶剤を含む場合、水とグリコール系有機溶剤との質量比率は、100:10~100:0.2であることが好ましく、100:5~100:0.2であることがより好ましい。水とグリコール系有機溶剤との質量比率が上記範囲である場合、細線再現性、印刷適性及び経時安定性が向上する。 When the aqueous solvent contains water and a glycol-based organic solvent, the mass ratio of water to glycol-based organic solvent is preferably 100:10 to 100:0.2, and more preferably 100:5 to 100:0.2. When the mass ratio of water to glycol-based organic solvent is within the above range, fine line reproducibility, printability, and stability over time are improved.

<添加剤>
本発明のコーティング剤は、本発明の効果を損なわない範囲で、イソシアネート化合物、シランカップリング剤、分散剤、安定化剤、粘度調整剤、着色剤等、公知の添加剤を含むことができる。
<Additives>
The coating agent of the present invention may contain known additives such as an isocyanate compound, a silane coupling agent, a dispersant, a stabilizer, a viscosity adjuster, a colorant, etc., within the scope of not impairing the effects of the present invention.

<リフトオフプロセス用コーティング剤の製造方法>
本発明のコーティング剤は、例えば、酸性基を有する水性樹脂、無機微粒子、必要に応じて水性溶媒等を混合し、分散機を用いて無機微粒子を分散させ、得られた分散体に各種添加剤や有機溶剤等を混合して製造できる。分散機としては一般に使用される、例えばローラーミル、ボールミル、ペブルミル、アトライター、サンドミルを用いることができる。
<Method of manufacturing coating agent for lift-off process>
The coating agent of the present invention can be produced, for example, by mixing an aqueous resin having an acidic group, inorganic fine particles, and, if necessary, an aqueous solvent, etc., dispersing the inorganic fine particles using a dispersing machine, and mixing the obtained dispersion with various additives, organic solvents, etc. As the dispersing machine, for example, a roller mill, a ball mill, a pebble mill, an attritor, or a sand mill that are commonly used can be used.

<コーティング層の形成>
本発明のコーティング剤を、基材上にコーティングし、揮発成分を除去することによって、コーティング層を形成することができる。コーティング方法は印刷であることが好ましく、印刷方法として、グラビア印刷方式、フレキソ印刷方式、ディッピング法、ロールコーティング法、スクリーン印刷法、スプレー法等従来公知の方法が挙げられるが、グラビア印刷方式及び/又はフレキソ印刷方式が好ましく、グラビア印刷方式がより好ましい。すなわち、本発明のコーティング剤は、グラビア印刷又はフレキソ印刷用であることが好ましく、グラビア印刷用であることがより好ましい。
<Formation of Coating Layer>
The coating agent of the present invention is coated on a substrate, and a coating layer can be formed by removing volatile components. The coating method is preferably printing, and examples of the printing method include conventionally known methods such as gravure printing, flexographic printing, dipping, roll coating, screen printing, and spraying, but gravure printing and/or flexographic printing are preferred, and gravure printing is more preferred. That is, the coating agent of the present invention is preferably for gravure printing or flexographic printing, and more preferably for gravure printing.

コーティング剤は例えば、グラビア印刷に適した粘度及び濃度にまで希釈溶剤で希釈され、単独で又は混合されて各印刷ユニットに供給され、塗布される。その後、オーブン等による乾燥によって被膜を定着させることで、コーティング層を得ることができる。
コーティング層の厚みは、0.1μm~10μmであることが好ましく、0.2~5μmであることがより好ましく、0.3~3μmであることが更に好ましく、0.6~2μmであることが特に好ましい。印刷速度は、特に制限されないが、生産性の観点から、10~300m/分であることが好ましく、50~200m/分であることがより好ましく、80~150m/分であることが更に好ましい。
For example, the coating agent is diluted with a diluting solvent to a viscosity and concentration suitable for gravure printing, and is supplied to each printing unit alone or in a mixture to be applied. Thereafter, the coating film is fixed by drying in an oven or the like to obtain a coating layer.
The thickness of the coating layer is preferably 0.1 μm to 10 μm, more preferably 0.2 to 5 μm, even more preferably 0.3 to 3 μm, and particularly preferably 0.6 to 2 μm. The printing speed is not particularly limited, but from the viewpoint of productivity, it is preferably 10 to 300 m/min, more preferably 50 to 200 m/min, and even more preferably 80 to 150 m/min.

<グラビア印刷>
(グラビア版)
グラビア版は金属製の円筒状である。グラビア版のセルの形成方法としては、彫刻法と、腐食法(感光膜塗布-露光-現像-エッチング)とがあり、コーティング層の輪郭をシャープにする点で、画像のエッジに沿ってセルを形成できる腐食法が好ましい。さらに腐食法では、露光の際の解像度を高めることでセルの精度を高めることができる。製版装置としては、例えばシンク・ラボラトリー社製レーザー自動製版システムFXIII(レーザー描画解像度:面長方向 3200dpi/円周方向12800dpi)やMDC社製レ
ーザー製版装置・電子彫刻機DIGILAS5000を使用することが好ましく、MDC社製レーザー製版装置・電子彫刻機DIGILAS5000を使用することがより好ましい。
<Gravure printing>
(Photogravure version)
The gravure plate is a cylindrical metal plate. The method of forming cells in the gravure plate includes engraving and etching (photosensitive film coating-exposure-development-etching). In terms of making the contour of the coating layer sharp, the etching method is preferred because it can form cells along the edge of the image. Furthermore, in the etching method, the accuracy of the cells can be improved by increasing the resolution during exposure. As the platemaking device, for example, the laser automatic platemaking system FXIII (laser drawing resolution: face length direction 3200 dpi/circumferential direction 12800 dpi) manufactured by Think Laboratory Co., Ltd. or the laser platemaking device/electronic engraving machine DIGILAS5000 manufactured by MDC Co., Ltd. is preferably used, and the laser platemaking device/electronic engraving machine DIGILAS5000 manufactured by MDC Co., Ltd. is more preferably used.

印刷時の解像度に相当するパラメータである線数は、200~350線/inchが好ましい。線数が200/inch以上である場合、印刷部のエッジ形状が良好となることで細線再現性が向上する傾向があり、350/inch以下である場合、セル開口部が大きくなることでインキの転移が良好となり、細線再現性が向上する傾向がある。 The line count, which is a parameter equivalent to the printing resolution, is preferably 200 to 350 lines/inch. If the line count is 200 or more lines/inch, the edge shape of the printed area will be good, which tends to improve fine line reproducibility, and if it is 350 or less lines/inch, the cell openings will be large, which will improve ink transfer and tend to improve fine line reproducibility.

インキの転移量を制御するパラメータである版深は、15~25μmが好ましい。版深が15μm以上である場合、コーティング層のカスレを抑制できるため、細線再現性が向上する傾向がある。版深が25μm以下の場合、コーティング剤の塗工量が適量となるため、コーティング層のにじみを抑制できるため細線再現性が向上する傾向がある。また、版深を25μm以下とすることで、コーティング剤塗布量を低減できるため、乾燥エネルギーも低減でき、印刷スピードすなわち生産性を向上させることができる。 The plate depth, which is a parameter that controls the amount of ink transfer, is preferably 15 to 25 μm. If the plate depth is 15 μm or more, smearing of the coating layer can be suppressed, which tends to improve fine-line reproducibility. If the plate depth is 25 μm or less, the amount of coating agent applied is appropriate, which suppresses bleeding of the coating layer, which tends to improve fine-line reproducibility. In addition, by setting the plate depth to 25 μm or less, the amount of coating agent applied can be reduced, which reduces drying energy and improves printing speed, i.e. productivity.

乾燥が遅い水性インキの場合や濡れ広がりが良いポリエステルフィルムの場合、印刷物のパターン線幅は、コーティング剤がフィルム上で濡れ広がることにより、版パターン線幅よりも幅広になる傾向がある。その場合、コーティング層の濡れ広がりによるにじみを抑制する観点から、版パターン線幅と目標パターン線幅との比率(版パターン線幅/目標パターン線幅)は、75~90%であることが好ましく、77~85%であることがより好ましい。版パターン線幅/目標パターン線幅が、上記範囲である場合、細線再現性が良好となる。 In the case of slow-drying water-based inks or polyester films with good wet spreadability, the pattern line width of the printed matter tends to be wider than the plate pattern line width due to the coating agent wetting and spreading on the film. In such cases, from the viewpoint of suppressing bleeding due to the wetting and spreading of the coating layer, the ratio of the plate pattern line width to the target pattern line width (plate pattern line width/target pattern line width) is preferably 75-90%, and more preferably 77-85%. When plate pattern line width/target pattern line width is within the above range, good thin line reproducibility is achieved.

(印刷機)
グラビア印刷機において、一つの印刷ユニットには上記グラビア版及びドクターブレードを備えている。印刷ユニットは多数あり、有機溶剤系印刷インキ及び絵柄インキに対応する印刷ユニットを設定でき、各ユニットはオーブン乾燥ユニットを有する。印刷は輪転により行われ、巻取印刷方式である。版の種類やドクターブレードの種類は適宜選択され、仕様に応じたものが選定できる。
(printing machine)
In the gravure printing press, one printing unit is equipped with the gravure plate and doctor blade. There are many printing units, and printing units corresponding to organic solvent-based printing inks and picture inks can be set, and each unit has an oven drying unit. Printing is performed by rotary printing, and a roll-to-roll printing method is used. The type of plate and the type of doctor blade are appropriately selected according to the specifications.

<基材上にパターン化された電極層を有する積層体(D)の製造方法>
本発明のリフトオフプロセス用コーティング剤を用いた、基材上にパターン化された電極層を有する積層体の製造方法は、以下の工程を特徴とする。
(1)基材上の一部に、酸性基を有する水性樹脂及び無機微粒子を含むリフトオフ用コーティング剤を印刷して、露光によらずにパターン化されたコーティング層を形成する工程(2)前記基材上、及び前記コーティング層上に電極層を形成することにより、基材上にコーティング層及び電極層を有する積層体(C)を得る工程
(3)前記、基材上にコーティング層及び電極層を有する積層体(C)を、コーティング層除去液に浸漬して、前記コーティング層及び前記コーティング層上に形成された電極層を除去する工程
<Method for producing laminate (D) having a patterned electrode layer on a substrate>
A method for producing a laminate having a patterned electrode layer on a substrate using the coating agent for a lift-off process of the present invention is characterized by the following steps.
(1) A step of printing a coating agent for lift-off, which contains an aqueous resin having an acidic group and inorganic fine particles, on a part of a substrate to form a patterned coating layer without exposure to light; (2) A step of forming an electrode layer on the substrate and on the coating layer to obtain a laminate (C) having a coating layer and an electrode layer on the substrate; (3) A step of immersing the laminate (C) having a coating layer and an electrode layer on the substrate in a coating layer removal liquid to remove the coating layer and the electrode layer formed on the coating layer.

<使用例>
基材上にパターン化された電極層を有する積層体(D)は、半導体や太陽電池パネルなどを形成する一部分とすることができ、例えば、ペロブスカイト太陽電池の積層構成例「基材/透明導電膜(-)/金属酸化物層/ペロブスカイト/正孔輸送層/電極(+)」における「基材/透明導電膜(-)」として用いることができる。
<Usage example>
The laminate (D) having an electrode layer patterned on a substrate can be used as a part of a semiconductor or a solar cell panel, and can be used, for example, as "substrate/transparent conductive film (-)" in the exemplary laminate structure of a perovskite solar cell, "substrate/transparent conductive film (-)/metal oxide layer/perovskite/hole transport layer/electrode (+)."

<基材>
基材としては特に限定されないが、近年、脱炭素社会実現に向け開発が過熱している次世代型太陽電池の用途では特に、軽量かつフレキシブルなプラスチックフィルムを基材にすることが好ましい。プラスチックフィルムとしては、耐候性のためにポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム等が好ましく、ポリエステルフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)が好ましく挙
げられる。積層体に水蒸気バリア性を持たせるために、基材自体に無機酸化物の透明蒸着層などのバリア層があってもよい。また、基材には、印刷及び後加工のために易接着性付与のためのコロナ処理、フレーム処理等の表面処理がされていてもよくコート層があってもよい。
<Base material>
The substrate is not particularly limited, but in the application of next-generation solar cells, which have been developed in recent years to realize a decarbonized society, it is preferable to use a lightweight and flexible plastic film as the substrate. As the plastic film, polyester film, polyimide film, etc. are preferable for weather resistance, and examples of polyester films include polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN). In order to provide the laminate with water vapor barrier properties, the substrate itself may have a barrier layer such as a transparent deposition layer of an inorganic oxide. In addition, the substrate may have a surface treatment such as corona treatment or frame treatment to provide easy adhesion for printing and post-processing, or may have a coating layer.

<電極層>
電極層は、蒸着、スパッタリング等の乾式法によって、基材上に導体を成膜し形成することができる。中でも量産化に適した大面積の成膜に優れるスパッタリングにより形成することが好ましい。導体としては例えば、Al、Ti、Pb、Ni、Cu、Ag、Au、Cr、Sn、In等の金属、ITO、Al2O3、SiO2等の酸化物が挙げられる。次世代型太陽電池の用途では特に、透明電極であり、かつ、PbフリーであるITOが好適である。
<Electrode layer>
The electrode layer can be formed by forming a conductor on the substrate by a dry method such as vapor deposition or sputtering. Among them, it is preferable to form the electrode layer by sputtering, which is excellent in forming a large-area film suitable for mass production. Examples of the conductor include metals such as Al, Ti, Pb, Ni, Cu, Ag, Au, Cr, Sn, and In, and oxides such as ITO, Al2O3, and SiO2. In particular, ITO, which is a transparent electrode and Pb-free, is suitable for use in next-generation solar cells.

<コーティング層の除去方法>
コーティング層は、適宜の手法によって、コーティング層除去液に曝される。例えばコーティング層除去液がコーティング層を覆う導体に向けてスプレー塗布されたり、コーティング層及びこれを覆う導体がコーティング層除去液に浸漬されたりすることで、コーティング層がコーティング層除去液に曝される。コーティング層の除去方法としては、コーティング層除去液への浸漬が好ましい。
<Method of Removing Coating Layer>
The coating layer is exposed to the coating layer removal liquid by an appropriate method. For example, the coating layer removal liquid is sprayed onto the conductor covering the coating layer, or the coating layer and the conductor covering the coating layer are immersed in the coating layer removal liquid, thereby exposing the coating layer to the coating layer removal liquid. The preferred method for removing the coating layer is immersion in the coating layer removal liquid.

<コーティング層除去液>
コーティング層除去液としては、廃液処理を容易にするといった環境対応の観点から、水を用いることが好ましい。また、コーティング層除去液として、更に、水溶性有機溶剤を含有する混合液を用いることもできる。水溶性有機溶剤としては、例えばメタノール、エタノール、2-プロパノール、1,2-プロパンジオール等のアルコール;エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチルセロソルブ、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、ブチルセロソルブ、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル;シクロヘキサノン;が挙げられる。
また、コーティング層除去液は、非イオン性界面活性剤、陰イオン性界面活性剤、及び陽イオン性界面活性剤からなる群より選択される、少なくとも一種を含有することも好ましい。上記溶剤の混合液を使用する場合の混合液中の水の含有率は、混合液100質量%中、50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましく、90質量%以上であることが更に好ましく、95質量%以上であることが特に好ましい。混合液中の水の含有率が上記範囲である場合、細線再現性が向上する傾向がある。
<Coating Layer Removal Solution>
As the coating layer removal liquid, it is preferable to use water from the viewpoint of environmental friendliness, such as facilitating waste liquid treatment. In addition, as the coating layer removal liquid, a mixed liquid containing a water-soluble organic solvent can also be used. Examples of the water-soluble organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol, and 1,2-propanediol; glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethyl cellosolve, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monoisopropyl ether, butyl cellosolve, ethylene glycol monoisobutyl ether, propylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, and dipropylene glycol monomethyl ether; and cyclohexanone.
It is also preferred that the coating layer removal liquid contains at least one selected from the group consisting of nonionic surfactants, anionic surfactants, and cationic surfactants. When a mixture of the above solvents is used, the water content in the mixture is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, even more preferably 90% by mass or more, and particularly preferably 95% by mass or more, based on 100% by mass of the mixture. When the water content in the mixture is within the above range, fine line reproducibility tends to be improved.

<コーティング層の残留率>
本発明におけるコーティング層の残留率とは、基材上にコーティング剤を塗工し、膜厚1μmのコーティング層を形成した積層体を下記条件で処理した後の、下記(式1)で表される値である。コーティング層の残留率は、80質量%未満であることが好ましく、50質量%未満であることがより好ましく、10質量%未満であることが更に好ましく、5質量%未満であることが特に好ましい。コーティング層の残留率が上記範囲である場合、浸漬洗浄時において、コーティング層及び不要な電極層部分の除去率が向上するため、細線再現性が向上する傾向がある。
(処理条件)
前記積層体を40℃のイオン交換水に10分間浸漬させた後、80℃のオーブン中で1分間乾燥。
(式1)
コーティング層の残留率(質量%)=(処理後のコーティング層の質量)/(処理前のコーティング層の質量)×100
<Residual rate of coating layer>
The residual rate of the coating layer in the present invention is a value represented by the following formula 1 after a laminate in which a coating agent is applied to a substrate to form a coating layer having a thickness of 1 μm is treated under the following conditions. The residual rate of the coating layer is preferably less than 80 mass%, more preferably less than 50 mass%, even more preferably less than 10 mass%, and particularly preferably less than 5 mass%. When the residual rate of the coating layer is within the above range, the removal rate of the coating layer and unnecessary electrode layer portions is improved during immersion cleaning, and thus fine line reproducibility tends to be improved.
(Processing conditions)
The laminate was immersed in ion-exchanged water at 40° C. for 10 minutes, and then dried in an oven at 80° C. for 1 minute.
(Formula 1)
Residual rate of coating layer (mass %)=(mass of coating layer after treatment)/(mass of coating layer before treatment)×100

上記(式1)で表されるコーティング層の残留率の要件を満たす、本発明のコーティング剤の実施形態において、酸性基を有する水性樹脂は、酸性基として、スルホン酸基、カルボキシル基、フェノール性水酸基を有していることが好ましく、酸性基を有する水性樹脂の樹脂骨格としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂(A)、アクリル樹脂、スチレン-アクリル樹脂、スチレン-マレイン酸樹脂、ウレタン樹脂、ポリ乳酸樹脂、レゾール型フェノール樹脂、メチロール化ユリア(尿素)樹脂、メチロール化メラミン樹脂、ポリエチレンオキシド、ポリアクリルアミド、多糖類系樹脂及びこれらの変性樹脂であることが好ましく、上記の酸性基及び樹脂骨格を有する樹脂を使用することで、コーティング剤除去液への溶解性が向上するため、上記コーティング層の残留率を満たす傾向が高まる。
また、無機微粒子としては、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、シリカ、酸化チタン、タルク、モンモリロナイト、カオリン、及びマイカからなる群より選ばれる少なくとも1種であることが好ましく、無機微粒子の形状は、球状であることが好ましい。無機微粒子が上記態様である場合、酸性基を有する樹脂と無機微粒子が形成する無機微粒子分散体との分散性が向上し、水への溶解性が良好になるため、上記コーティング層の残留率を満たす傾向が高まる。
In an embodiment of the coating agent of the present invention that satisfies the requirement for the residual rate of the coating layer represented by the above (Formula 1), the aqueous resin having an acidic group preferably has a sulfonic acid group, a carboxyl group, or a phenolic hydroxyl group as the acidic group, and the resin skeleton of the aqueous resin having an acidic group is preferably, for example, a polyvinyl alcohol-based resin (A), an acrylic resin, a styrene-acrylic resin, a styrene-maleic acid resin, a urethane resin, a polylactic acid resin, a resol-type phenolic resin, a methylolated urea resin, a methylolated melamine resin, a polyethylene oxide, a polyacrylamide, a polysaccharide-based resin, or a modified resin thereof, and the use of the resin having the above acidic group and resin skeleton improves the solubility in the coating agent removal liquid, thereby increasing the tendency to satisfy the above-mentioned residual rate of the coating layer.
In addition, the inorganic fine particles are preferably at least one selected from the group consisting of calcium carbonate, barium sulfate, magnesium carbonate, silica, titanium oxide, talc, montmorillonite, kaolin, and mica, and the shape of the inorganic fine particles is preferably spherical. When the inorganic fine particles are in the above-mentioned form, the dispersibility of the resin having an acidic group and the inorganic fine particle dispersion formed by the inorganic fine particles is improved, and the solubility in water is improved, so that the tendency to satisfy the residual rate of the coating layer is enhanced.

コーティング剤中の酸性基を有する水性樹脂の含有率は、コーティング剤100質量%中、1~30質量%であることが好ましく、2~15質量%であることがより好ましく、3~8質量%であることが更に好ましい。
更に、コーティング剤中の無機微粒子の含有率は、コーティング剤100質量%中、3~20質量%であることが好ましく、酸性基を有する水性樹脂と無機微粒子との質量比率は、1:0.2~1:3であることが好ましい。
無機微粒子は酸性基を有する水性樹脂によって分散された状態であると水等の溶媒への溶解性が向上するため、コーティング剤中の酸性基を有する水性樹脂及び酸性基を有する水性樹脂と無機微粒子との質量比率が上記範囲である場合、上記コーティング層の残留率を満たす傾向が高まる。
The content of the aqueous resin having an acidic group in the coating agent is preferably 1 to 30 mass %, more preferably 2 to 15 mass %, and even more preferably 3 to 8 mass %, based on 100 mass % of the coating agent.
Furthermore, the content of inorganic fine particles in the coating agent is preferably 3 to 20 mass% in 100 mass% of the coating agent, and the mass ratio of the aqueous resin having an acidic group to the inorganic fine particles is preferably 1:0.2 to 1:3.
When inorganic fine particles are dispersed in an aqueous resin having acidic groups, their solubility in solvents such as water is improved. Therefore, when the mass ratio of the aqueous resin having acidic groups and the aqueous resin having acidic groups to the inorganic fine particles in the coating agent is within the above range, the tendency to satisfy the above-mentioned residual rate of the coating layer is increased.

本発明のコーティング剤は、更に、酸性基を有しない水性樹脂を含むことが好ましく、当該水性樹脂は、ポリビニアルコール樹脂(B)であることが好ましく、ポリビニルアルコール系樹脂(B)は、エチレン由来の構造単位を含んでいることが好ましく、ポリビニルアルコール系樹脂(B)におけるエチレン由来の構造単位の含有率は、1~40モル%であることが好ましく、3~20モル%であることがより好ましく、5~15モル%であることが更に好ましい。水性樹脂は乾燥すると水素結合により、水に溶解しにくい特性を示す傾向がある。そのため、構造の異なる樹脂を併用することにより、水素結合力が低下するため、上記コーティング層の残留率を満たす傾向が高まる。特に、酸性基を有しない水性樹脂として、エチレン由来の構造単位を含むポリビニルアルコール樹脂(B)を用いることで、コーティング層中の水酸基の総量が低下するため、上記コーティング層の残留率を満たす傾向がより高まる。 The coating agent of the present invention preferably further contains an aqueous resin having no acidic groups, and the aqueous resin is preferably a polyvinyl alcohol resin (B), and the polyvinyl alcohol resin (B) preferably contains a structural unit derived from ethylene, and the content of the structural unit derived from ethylene in the polyvinyl alcohol resin (B) is preferably 1 to 40 mol%, more preferably 3 to 20 mol%, and even more preferably 5 to 15 mol%. When dried, the aqueous resin tends to show a property of being difficult to dissolve in water due to hydrogen bonds. Therefore, by using resins with different structures in combination, the hydrogen bond strength is reduced, and the tendency to satisfy the residual rate of the coating layer is increased. In particular, by using a polyvinyl alcohol resin (B) containing a structural unit derived from ethylene as an aqueous resin having no acidic groups, the total amount of hydroxyl groups in the coating layer is reduced, and the tendency to satisfy the residual rate of the coating layer is increased.

酸性基を有しない水性樹脂の含有率は、コーティング剤100質量%中、0.1~30質量%であることが好ましく、2~8質量%であることが特に好ましく、酸性基を有する水性樹脂と酸性基を有しない水性樹脂との質量比率は、9:1~1:9であることが好ましく、7:3~3:7であることが特に好ましい。
酸性基を有しない水性樹脂の含有率、及び酸性基を有する水性樹脂と酸性基を有しない水性樹脂との質量比率が上記範囲である場合、水素結合力と無機微粒子の分散性とのバランスが良好となり、上記コーティング層の残留率を満たす傾向が高まる。
The content of the aqueous resin having no acidic group is preferably 0.1 to 30 mass%, and particularly preferably 2 to 8 mass%, in 100 mass% of the coating agent. The mass ratio of the aqueous resin having an acidic group to the aqueous resin having no acidic group is preferably 9:1 to 1:9, and particularly preferably 7:3 to 3:7.
When the content of the aqueous resin that does not have acidic groups and the mass ratio of the aqueous resin that has acidic groups to the aqueous resin that does not have acidic groups are within the above ranges, the balance between the hydrogen bonding strength and the dispersibility of the inorganic fine particles is good, and the tendency to satisfy the above-mentioned residual rate of the coating layer is increased.

以下、実施例をあげて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本発明における部及び%は、特に注釈の無い場合、質量部及び質量%を表す。 The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Note that parts and percentages in the present invention represent parts by mass and percentages by mass unless otherwise noted.

<無機微粒子の抽出水のpHの測定方法>
無機微粒子 5部とイオン交換水 100部とを混合し、100℃で5分加熱した。その後、室温まで冷却し、無機微粒子とイオン交換水の合計量が105部となるように、イオン交換水を加え、撹拌した後、JIS Z 8802に準拠して、マルチpHメーター(アズワン社製)を用いてpH測定を行った。
<Method for measuring pH of water extracted with inorganic fine particles>
Five parts of inorganic fine particles and 100 parts of ion-exchanged water were mixed and heated at 100° C. for 5 minutes. The mixture was then cooled to room temperature, and ion-exchanged water was added so that the total amount of the inorganic fine particles and the ion-exchanged water was 105 parts. After stirring, the pH was measured using a multi-pH meter (manufactured by AS ONE CORPORATION) in accordance with JIS Z 8802.

<粘度測定>
コーティング剤の粘度は、JIS K 7117-1に準拠し、東機産業社製 Viscometer TUB-10を使用して、以下の条件にて測定を行った。なお、固形分濃度が低い場合はコーティング剤の保管容器の蓋を開けて静置し、溶剤を揮発させることで、固形分を調整した。
《測定条件》
・ローター:M1
・回転数:6rpm
・液温:25℃
・希釈前粘度測定時の固形分:18質量%
・希釈後粘度測定時の固形分:10質量%
<Viscosity measurement>
The viscosity of the coating agent was measured under the following conditions in accordance with JIS K 7117-1 using a Viscometer TUB-10 manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. When the solid content concentration was low, the solid content was adjusted by leaving the coating agent in a storage container with the lid open and allowing the solvent to evaporate.
Measurement conditions
Rotor: M1
・Rotation speed: 6 rpm
Liquid temperature: 25°C
Solid content at time of viscosity measurement before dilution: 18% by mass
Solid content at the time of viscosity measurement after dilution: 10% by mass

<重量平均分子量測定>
重量平均分子量は、ポリエチレングリコールを標準物質に用いた換算分子量として求めた。測定器はGPC装置:昭和電工社製 Shodex GPC-401、カラムは昭和電工社製Shodex OHpak LB-805、検出器はRI(示差屈折計)を用いた。溶離液は0.1規定のNaNO水溶液を使用し、カラム温度は35℃、流速は3mL/分で測定を実施した。
<Weight average molecular weight measurement>
The weight average molecular weight was determined as a converted molecular weight using polyethylene glycol as a standard substance. The measuring device used was a GPC device: Shodex GPC-401 manufactured by Showa Denko K.K. The column was a Shodex OHpak LB-805 manufactured by Showa Denko K.K. The detector was an RI (differential refractometer). The eluent used was a 0.1N NaNO3 aqueous solution, and the column temperature was 35°C and the flow rate was 3 mL/min.

<樹脂溶液の調製>
(調製例1)樹脂溶液V01
ポリビニルアルコール系樹脂PVA1 12部、イオン交換水88部を攪拌しながら加熱し、90℃で1時間、加熱攪拌を継続し、その後、加熱を停止して、常温に戻るまで攪拌を継続し、樹脂溶液V01を得た。
<Preparation of resin solution>
(Preparation example 1) Resin solution V01
12 parts of polyvinyl alcohol resin PVA1 and 88 parts of ion-exchanged water were heated with stirring, and the mixture was heated and stirred at 90° C. for 1 hour. After that, heating was stopped and stirring was continued until the temperature returned to room temperature, to obtain resin solution V01.

(調製例2~6)樹脂溶液V02~06
表1に記載した原料及び配合比に変更した以外は、調製例1と同様の方法で、樹脂溶液V02~06を得た。なお、調製例1~6で使用した原料の性状は以下の通りである。
・ポリビニルアルコール系樹脂PVA1:イタコン酸変性ポリビニルアルコール、重合度=1800、粘度(20℃、4%水溶液)=25mPa・s、けん化度=88%、固形分100%
・ポリビニルアルコール系樹脂PVA2:スルホン酸変性ポリビニルアルコール、重合度=300、粘度(20℃、4%水溶液)=2.5mPa・s、けん化度=98%、固形分100%
・ポリビニルアルコール系樹脂PVA3:エチレンビニルアルコール樹脂、エチレン含有率:8モル%、重合度=400、粘度(20℃、4%水溶液)=4mPa・s、けん化度=98%、固形分100%
・ポリビニルアルコール系PVA4:クラレ社製、ポバール28-98、無変性ポリビニルアルコール、重合度=1700、粘度(20℃、4%水溶液)=28mPa・s、けん化度=98%、固形分100%
・セルロース系樹脂CE1:ダイセル社製、CMCダイセル#2200、カルボキシメチルセルロース、粘度(25℃、1%水溶液)=2200mPa・s、固形分100%
・セルロース系樹脂CE2:日本曹達社製、HPC-SL、ヒドロキシプロピルセルロース、粘度(25℃、10%水溶液)=150mPa・s、固形分100%
(Preparation Examples 2 to 6) Resin solutions V02 to 06
Resin solutions V02 to V06 were obtained in the same manner as in Preparation Example 1, except that the raw materials and compounding ratios were changed to those shown in Table 1. The properties of the raw materials used in Preparation Examples 1 to 6 are as follows.
Polyvinyl alcohol resin PVA1: itaconic acid modified polyvinyl alcohol, polymerization degree = 1800, viscosity (20°C, 4% aqueous solution) = 25 mPa·s, saponification degree = 88%, solid content 100%
Polyvinyl alcohol resin PVA2: Sulfonic acid modified polyvinyl alcohol, polymerization degree = 300, viscosity (20°C, 4% aqueous solution) = 2.5 mPa·s, saponification degree = 98%, solid content 100%
Polyvinyl alcohol resin PVA3: ethylene vinyl alcohol resin, ethylene content: 8 mol%, polymerization degree = 400, viscosity (20°C, 4% aqueous solution) = 4 mPa·s, saponification degree = 98%, solid content 100%
Polyvinyl alcohol PVA4: Manufactured by Kuraray Co., Ltd., Poval 28-98, unmodified polyvinyl alcohol, polymerization degree = 1700, viscosity (20°C, 4% aqueous solution) = 28 mPa·s, saponification degree = 98%, solid content 100%
Cellulose-based resin CE1: Daicel Corporation, CMC Daicel #2200, carboxymethyl cellulose, viscosity (25°C, 1% aqueous solution) = 2200 mPa·s, solid content 100%
Cellulose-based resin CE2: Nippon Soda Co., Ltd., HPC-SL, hydroxypropyl cellulose, viscosity (25°C, 10% aqueous solution) = 150 mPa·s, solid content 100%

<リフトオフプロセス用コーティング剤の製造>
(実施例1)リフトオフプロセス用コーティング剤C1
樹脂溶液V01 75.0部、炭酸カルシウム9.0部、イオン交換水8.0部、n-プロピルアルコール8.0部を混合し、ビーズミルで20分間分散して、リフトオフプロセス用コーティング剤C1を得た。
<Production of coating agent for lift-off process>
(Example 1) Coating agent C1 for lift-off process
75.0 parts of resin solution V01, 9.0 parts of calcium carbonate, 8.0 parts of ion-exchanged water, and 8.0 parts of n-propyl alcohol were mixed and dispersed in a bead mill for 20 minutes to obtain a coating agent C1 for lift-off process.

(実施例2~29、比較例1及び2)リフトオフプロセス用コーティング剤C2~31
表2に記載した原料及び配合比に変更した以外は、実施例1と同様の方法で、リフトオフプロセス用コーティング剤C2~31を得た。なお、使用した原料の性状は以下の通りである。pHは、それぞれの抽出水のpHである。
・炭酸カルシウムCA1:白石カルシウム社製、ホモカルD、合成炭酸カルシウム、平均粒子径0.08μm、pH8.6、固形分100%
・炭酸カルシウムCA2:平均粒子径0.3μm、pH8
・炭酸カルシウムCA3:平均粒子径1.5μm、pH9
・炭酸カルシウムCA4:平均粒子径4.5μm、pH8.9
・シリカ:富士シリシア化学社製、サイリシア310、ゲル法シリカ、平均粒子径1.7μm、pH7.5
・硫酸バリウム:堺化学工業社製、バリエースB31、沈降性硫酸バリウム、平均粒子径0.3μm、pH7
・モンモリロナイト:クニミネ工業社製、クニピアF、膨潤性モンモリロナイト、粒子アスペクト比500、粒子厚み1μm、平均粒子径0.5μm、pH8~8.5
・酸化チタン:テイカ社製、チタニックスJR-808、平均粒子径2.3μm、pH7.7
・マイカ:平均粒子径6μm、アスペクト比100、比表面積9m/g、pH8
・カオリン:平均粒子径1.2μm、アスペクト比100、比表面積10m/g、pH6
・タルク:Specialty Minerals社製、AlBACAR5970、平均粒子径1.9μm、pH8
(Examples 2 to 29, Comparative Examples 1 and 2) Coating agents C2 to C31 for lift-off process
Coating agents C2 to C31 for lift-off process were obtained in the same manner as in Example 1, except that the raw materials and compounding ratios were changed to those shown in Table 2. The properties of the raw materials used are as follows. The pH is the pH of the respective extraction water.
Calcium carbonate CA1: manufactured by Shiraishi Calcium Co., Ltd., Homocal D, synthetic calcium carbonate, average particle size 0.08 μm, pH 8.6, solid content 100%
Calcium carbonate CA2: average particle size 0.3 μm, pH 8
Calcium carbonate CA3: average particle size 1.5 μm, pH 9
Calcium carbonate CA4: average particle size 4.5 μm, pH 8.9
Silica: Fuji Silysia Chemical Co., Ltd., Silica 310, gel method silica, average particle size 1.7 μm, pH 7.5
Barium sulfate: Sakai Chemical Industry Co., Ltd., Variace B31, precipitated barium sulfate, average particle size 0.3 μm, pH 7
Montmorillonite: Kunimine Kogyo Co., Ltd., Kunipia F, swelling montmorillonite, particle aspect ratio 500, particle thickness 1 μm, average particle diameter 0.5 μm, pH 8 to 8.5
Titanium oxide: Titanix JR-808, manufactured by Teika Corporation, average particle size 2.3 μm, pH 7.7
Mica: average particle size 6 μm, aspect ratio 100, specific surface area 9 m 2 /g, pH 8
Kaolin: average particle size 1.2 μm, aspect ratio 100, specific surface area 10 m 2 /g, pH 6
Talc: Specialty Minerals, AlBACAR 5970, average particle size 1.9 μm, pH 8

<実施例1のコーティング剤を用いた積層体の製造>
リフトオフプロセス用コーティング剤C1に対し、希釈溶剤(水/n-プロピルアルコール=92/8)を、前記コーティング剤の固形分が10%となるように添加し、撹拌混合した。その後、コロナ処理二軸延伸ポリエステルフィルム(PET)フィルム(厚み50μm)のコロナ処理された面上に、線幅20μm、50μm、100μm、及び200μmの細線ストライプパターンを有した版深20μmのグラビア版(セル形成方法:腐食法、レーザー製版装置D1:MDC社製レーザー製版装置・電子彫刻機 DIGILAS5000、線数300線/inch、版深20μm、版パターン線幅/目標パターン線幅:90%)を備えたグラビア印刷機を用いて、印刷速度120m/分、インラインオーブン80℃の条件下で、希釈したリフトオフプロセス用コーティング剤C1を印刷してコーティング層を形成し、リフトオフプロセス用コーティング剤による線幅20μm、50μm、100μm、及び200μmの細線パターンを有した中間積層体を得た。
前記中間積層体のリフトオフプロセス用コーティング剤による細線パターン印刷面上、及び、前記パターンを有しない基材上に、キャノン・アネルバ株式会社製のSPCシリーズを用い、真空度10-4Pa、印加電圧5.1kVの条件で、ITOをスパッタリング法で蒸着することで、厚み0.4μmの透明な電極層を形成し、積層体を得た。なお、当該積層体は、基材/コーティング層/電極層の構成部分と、基材/電極層の構成部分とを有する。
<Production of Laminate Using Coating Agent of Example 1>
A dilution solvent (water/n-propyl alcohol=92/8) was added to the coating agent C1 for lift-off process so that the solid content of the coating agent was 10%, and the mixture was stirred and mixed. Thereafter, a coating layer was formed by printing the diluted lift-off process coating agent C1 on the corona-treated surface of the corona-treated biaxially stretched polyester film (PET) film (thickness 50 μm) using a gravure printing machine equipped with a gravure plate having a fine-line stripe pattern with line widths of 20 μm, 50 μm, 100 μm, and 200 μm and a plate depth of 20 μm (cell formation method: corrosion method, laser platemaking device D1: MDC laser platemaking device/electronic engraving machine DIGILAS5000, number of lines: 300 lines/inch, plate depth: 20 μm, plate pattern line width/target pattern line width: 90%) under conditions of a printing speed of 120 m/min and an in-line oven temperature of 80° C., thereby obtaining an intermediate laminate having fine-line patterns with line widths of 20 μm, 50 μm, 100 μm, and 200 μm using the lift-off process coating agent.
On the surface of the intermediate laminate on which the fine line pattern was printed using the coating agent for the lift-off process, and on the substrate not having the pattern, ITO was deposited by sputtering under conditions of a vacuum degree of 10 -4 Pa and an applied voltage of 5.1 kV using an SPC series manufactured by Canon Anelva Corporation to form a transparent electrode layer having a thickness of 0.4 μm, thereby obtaining a laminate. Note that this laminate has a component part of substrate/coating layer/electrode layer and a component part of substrate/electrode layer.

<実施例2~29、比較例1及び2のコーティング剤を用いた積層体の製造>
表2のリフトオフプロセス用コーティング剤と希釈溶剤とを用いる他は、<実施例1のコーティング剤を用いた積層体の製造>と同様に積層体を作製した。
<Production of Laminates Using Coating Agents of Examples 2 to 29 and Comparative Examples 1 and 2>
A laminate was produced in the same manner as in <Production of laminate using coating agent of Example 1>, except that the coating agent for lift-off process and dilution solvent in Table 2 were used.

<実施例30~43の積層体の製造>
表3のリフトオフプロセス用コーティング剤と版とを用いる他は、<実施例1のコーティング剤を用いた積層体の製造>と同様に積層体を作製した。なお、使用した版製造装置は以下の通りである。
・レーザー製版装置D1:MDC社製 DIGILAS5000
・レーザー製版装置D2:ヘリオグラフジャパン社製 HelioKlischograph K500 G4
・レーザー製版装置D3:シンク・ラボラトリー社製 newFXIII
<Production of Laminates of Examples 30 to 43>
A laminate was produced in the same manner as in <Production of a laminate using the coating agent of Example 1>, except for using the coating agent and plate for the lift-off process in Table 3. The plate production apparatus used is as follows.
・Laser plate making device D1: MDC DIGILAS5000
Laser plate making device D2: HelioKlischograph K500 G4 manufactured by Heliograph Japan
・Laser plate making device D3: Think Laboratory newFXIII

<コーティング剤及び積層体の評価>
得られたコーティング剤及び積層体について、下記の通り評価を行った。結果を表2及び表3に示す。
<Evaluation of Coating Agent and Laminate>
The obtained coating agent and laminate were evaluated as follows. The results are shown in Tables 2 and 3.

<浸漬洗浄性>
得られた積層体を10mm×50mmに切り出し、40℃イオン交換水に10分間浸漬させた後、80℃のオーブン中で1分乾燥し、下記の式1により洗浄前後のコーティング層の残留率(質量%)を求め評価した。なおAA~Cが実用レベルである。
本発明のコーティング剤がリフトオフプロセスに利用された場合、高い生産性実現のため、コーティング層の除去はイオン交換水への浸漬のみが好ましいため、本発明の浸漬洗浄性試験は、イオン交換水に浸漬させるのみとした。従来の洗浄性試験として、水流等により圧力をかけることでコーティング層を除去する試験方法が知られるが、本発明の浸漬洗浄性は、水流等の圧力をかけない点で従来の洗浄性試験と相違し、洗浄液へのより高い溶解性が求められる厳しい試験方法である。
(式1)
コーティング層の残留率(質量%)=(処理後のコーティング層の質量)/(処理前のコーティング層の質量)×100
AA:コーティング層の残留率(質量%)が5質量%未満
A:コーティング層の残留率(質量%)が5質量%以上、10質量%未満
B:コーティング層の残留率(質量%)が10質量%以上、50質量%未満
C:コーティング層の残留率(質量%)が50質量%以上、80質量%未満
D:コーティング層の残留率(質量%)が80質量%以上
<Immersion cleaning properties>
The obtained laminate was cut into a size of 10 mm x 50 mm, immersed in 40°C ion-exchanged water for 10 minutes, and then dried in an oven at 80°C for 1 minute. The remaining rate (mass%) of the coating layer before and after washing was calculated and evaluated using the following formula 1. AA to C are practical levels.
When the coating agent of the present invention is used in a lift-off process, in order to achieve high productivity, it is preferable to remove the coating layer only by immersion in ion-exchanged water, so the immersion cleanability test of the present invention was performed by only immersion in ion-exchanged water. A conventional cleanability test is a test method in which the coating layer is removed by applying pressure from a water flow or the like, but the immersion cleanability test of the present invention differs from the conventional cleanability test in that no pressure from a water flow or the like is applied, and is a strict test method that requires higher solubility in the cleaning solution.
(Formula 1)
Residual rate of coating layer (mass %)=(mass of coating layer after treatment)/(mass of coating layer before treatment)×100
AA: Residual rate (mass%) of coating layer is less than 5% by mass A: Residual rate (mass%) of coating layer is 5% by mass or more and less than 10% by mass B: Residual rate (mass%) of coating layer is 10% by mass or more and less than 50% by mass C: Residual rate (mass%) of coating layer is 50% by mass or more and less than 80% by mass D: Residual rate (mass%) of coating layer is 80% by mass or more

<細線再現性>
得られた積層体の浸漬洗浄性試験後の細線ストライプパターン部を目視観察し、以下の基準で評価した。なおAA~Cが実用レベルである。
AA:すべてのストライプパターン部に断線が無い
A:細線20μmストライプパターン部に断線があるが、細線50μm、細線100μm及び細線200μmのストライプパターン部に断線が無い
B:細線50μmストライプパターン部に断線があるが、細線100μm及び細線200μmのストライプパターン部に、断線が無い
C:細線100μmストライプパターン部に断線があるが、細線200μmストライプパターン部に断線が無い
D:200μmストライプパターン部に断線がある
<Fine line reproducibility>
After the immersion cleaning test of the obtained laminate, the thin stripe pattern was visually observed and evaluated according to the following criteria, with AA to C being practical levels.
AA: No breaks in any stripe pattern portion. A: There is a break in the 20 μm thin line stripe pattern portion, but there are no breaks in the 50 μm, 100 μm, and 200 μm thin line stripe pattern portions. B: There is a break in the 50 μm thin line stripe pattern portion, but there are no breaks in the 100 μm and 200 μm thin line stripe pattern portions. C: There is a break in the 100 μm thin line stripe pattern portion, but there are no breaks in the 200 μm thin line stripe pattern portion. D: There is a break in the 200 μm stripe pattern portion.

<経時安定性>
リフトオフプロセス用コーティング剤を、225gマヨネーズ瓶(胴径62mm/全長109mm)に充填し、40℃7日経時後の層分離を確認し、以下の基準で評価した。各基準における長さは、マヨネーズ瓶を水平方向から見て測定した層の長さである。なおA~Cが実用レベルである。
A:層分離がない
B:層分離があり、10mm未満の分離層が発生
C:層分離があり、10mm以上、20mm未満の分離層が発生
D:層分離があり、20mm以上の分離層が発生
<Stability over time>
The coating agent for lift-off process was filled into a 225 g mayonnaise bottle (body diameter 62 mm/total length 109 mm), and layer separation was confirmed after 7 days at 40°C and evaluated according to the following criteria. The length in each criterion is the layer length measured when the mayonnaise bottle is viewed from the horizontal direction. A to C are practical levels.
A: No layer separation B: Layer separation occurs, and a layer of less than 10 mm is formed C: Layer separation occurs, and a layer of 10 mm or more and less than 20 mm is formed D: Layer separation occurs, and a layer of 20 mm or more is formed

<印刷適性>
表2記載の希釈溶剤で希釈したリフトオフプロセス用コーティング剤を印刷機の印刷インキ容器に投入し、印刷速度120m/分、60分間の条件にて、版を回転させた後の版上の非画像部の着色面積を目視で評価し、以下基準にて印刷適性評価を行った。なお、実施例1~29、比較例1及び2は、D1の版を使用し、実施例30~45は表3記載の版を使用した。なおA~Cが実用レベルである。
A:非画像部の着色がない。
B:非画像部の着色があり、着色面積が5面積%未満である
C:非画像部の着色があり、着色面積が5面積%以上~30面積%未満である
D:非画像部の着色があり、着色面積が30面積%以上である
<Printability>
The coating agent for the lift-off process diluted with the dilution solvent shown in Table 2 was poured into the printing ink container of a printing press, and the plate was rotated at a printing speed of 120 m/min for 60 minutes, after which the colored area of the non-image area on the plate was visually evaluated, and the printability was evaluated according to the following criteria. Note that in Examples 1 to 29 and Comparative Examples 1 and 2, plate D1 was used, and in Examples 30 to 45, the plates shown in Table 3 were used. Note that A to C are practical levels.
A: No coloring in non-image areas.
B: Coloring of non-image areas occurs, and the colored area is less than 5% by area. C: Coloring of non-image areas occurs, and the colored area is 5% to less than 30% by area. D: Coloring of non-image areas occurs, and the colored area is 30% or more by area.

上記結果から、比較例1では、酸性基を有する水性樹脂を含まないため、細線再現性、浸漬洗浄性、印刷適性及び経時安定性が不良であった。比較例2では、無機微粒子を含まないため、細線再現性及び浸漬洗浄性が不良であった。
一方、実施例では、酸性基を有する水性樹脂及び無機微粒子を含むため、細線再現性、浸漬洗浄性、印刷適性及び経時安定性が良好であった。
From the above results, since Comparative Example 1 did not contain an aqueous resin having an acidic group, the fine line reproducibility, immersion cleanability, printability, and temporal stability were poor. Since Comparative Example 2 did not contain inorganic fine particles, the fine line reproducibility and immersion cleanability were poor.
On the other hand, in the examples, since the aqueous resin having an acidic group and inorganic fine particles were contained, the fine line reproducibility, immersion cleanability, printability and stability over time were good.

Claims (13)

露光によらないパターン形成工程を含むリフトオフプロセス用コーティング剤であって、
酸性基を有する水性樹脂及び無機微粒子を含む、コーティング剤。
A coating agent for a lift-off process including a pattern formation step not involving exposure to light,
A coating agent comprising an aqueous resin having an acidic group and inorganic fine particles.
請求項1に記載のコーティング剤であって、前記コーティング剤を用いて形成された膜厚1μmのコーティング層を基材上に有する積層体を下記条件で処理した後の、下記(式1)で表される前記コーティング層の残留率が、80質量%未満である、コーティング剤。
(処理条件)
前記積層体を40℃のイオン交換水に10分間浸漬させた後、80℃のオーブン中で1分間乾燥。
(式1)
コーティング層の残留率(質量%)=(処理後のコーティング層の質量)/(処理前のコーティング層の質量)×100
2. The coating agent according to claim 1, wherein after a laminate having a coating layer having a thickness of 1 μm formed using the coating agent on a substrate is treated under the following conditions, a residual rate of the coating layer represented by the following formula (1) is less than 80 mass%.
(Processing conditions)
The laminate was immersed in ion-exchanged water at 40° C. for 10 minutes, and then dried in an oven at 80° C. for 1 minute.
(Formula 1)
Residual rate of coating layer (mass %)=(mass of coating layer after treatment)/(mass of coating layer before treatment)×100
酸性基を有する水性樹脂が、酸性基を有するポリビニルアルコール系樹脂(A)である、請求項1又は2に記載のコーティング剤。 The coating agent according to claim 1 or 2, wherein the aqueous resin having an acidic group is a polyvinyl alcohol-based resin (A) having an acidic group. 更に、酸性基を有しない水性樹脂を含む、請求項1又は2に記載のコーティング剤。 The coating agent according to claim 1 or 2, further comprising an aqueous resin having no acidic groups. 酸性基を有する水性樹脂と酸性基を有しない水性樹脂との質量比率が、9:1~1:9である、請求項4に記載のコーティング剤。 The coating agent according to claim 4, in which the mass ratio of the aqueous resin having an acidic group to the aqueous resin not having an acidic group is 9:1 to 1:9. 無機微粒子が、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、シリカ、酸化チタン、タルク、モンモリロナイト、カオリン、及びマイカからなる群より選ばれる少なくとも1種である、請求項1又は2に記載のコーティング剤。 The coating agent according to claim 1 or 2, wherein the inorganic fine particles are at least one selected from the group consisting of calcium carbonate, barium sulfate, magnesium carbonate, silica, titanium oxide, talc, montmorillonite, kaolin, and mica. 無機微粒子のレーザー散乱法による平均粒子径が、5μm以下である、請求項1又は2に記載のコーティング剤。 The coating agent according to claim 1 or 2, wherein the inorganic fine particles have an average particle size of 5 μm or less as measured by a laser scattering method. 酸性基を有する水性樹脂と無機微粒子との質量比率が、1:0.2~1:3である、請求項1又は2に記載のコーティング剤。 The coating agent according to claim 1 or 2, in which the mass ratio of the aqueous resin having acidic groups to the inorganic fine particles is 1:0.2 to 1:3. 更に、アルコール系有機溶剤を含む、請求項1又は2に記載のコーティング剤。 The coating agent according to claim 1 or 2, further comprising an alcohol-based organic solvent. アルコール系有機溶剤が、メタノール、エタノール、イソプロパノール、及びn-プロパノールからなる群から選ばれる少なくとも1種である、請求項9に記載のコーティング剤。 The coating agent according to claim 9, wherein the alcohol-based organic solvent is at least one selected from the group consisting of methanol, ethanol, isopropanol, and n-propanol. JIS K 7117-1に従って測定された、25℃、固形分18質量%における粘度が、20~450mPa・sである、請求項1又は2に記載のコーティング剤。 The coating agent according to claim 1 or 2, which has a viscosity of 20 to 450 mPa·s at 25°C and 18% solids by mass, measured according to JIS K 7117-1. 無機微粒子の抽出水のpHが、7.5~14.0である、請求項1又は2に記載のコーティング剤。 The coating agent according to claim 1 or 2, wherein the pH of the water from which the inorganic fine particles are extracted is 7.5 to 14.0. 基材上の一部に、酸性基を有する水性樹脂及び無機微粒子を含むリフトオフ用コーティング剤を印刷して、露光によらずにパターン化されたコーティング層を形成する工程と、
前記基材上、及び前記コーティング層上に電極層を形成することにより、基材上にコーテ
ィング層及び電極層を有する積層体(C)を得る工程と、前記、基材上にコーティング層及び電極層を有する積層体(C)を、コーティング層除去液に浸漬して、前記コーティング層を除去することにより、基材上にパターン化された電極層を有する積層体(D)を得る工程と、を有する、積層体の製造方法。
A step of printing a coating agent for lift-off, which includes an aqueous resin having an acidic group and inorganic fine particles, on a part of a substrate to form a patterned coating layer without exposure to light;
A method for producing a laminate, comprising: a step of forming electrode layers on the substrate and on the coating layer to obtain a laminate (C) having a coating layer and an electrode layer on the substrate; and a step of immersing the laminate (C) having the coating layer and the electrode layer on the substrate in a coating layer removal liquid to remove the coating layer, thereby obtaining a laminate (D) having a patterned electrode layer on the substrate.
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