JP2023132986A - Light guide plate for image display - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、画像表示用導光板に関する。 The present invention relates to a light guide plate for image display.
表示装置において、画像表示用導光板が用いられる場合がある。例えば、VR(仮想現
実、Virtual Reality)技術又はAR(拡張現実、Augmented
Reality)技術を用いた表示装置においては、ホログラム層が透明基材に支持され
た画像表示用導光板が用いられる。
In a display device, a light guide plate for image display is sometimes used. For example, VR (Virtual Reality) technology or AR (Augmented Reality)
In a display device using Reality technology, a light guide plate for displaying an image in which a hologram layer is supported by a transparent base material is used.
上記透明基材としては、ガラス基材が用いられることが多いが、軽量化および安全性向
上を目的として、上記透明基材をガラス製からプラスチック製へ変更する検討がなされて
いる。
Although a glass substrate is often used as the transparent substrate, studies have been made to change the transparent substrate from glass to plastic for the purpose of reducing weight and improving safety.
例えば特許文献1には、車載用ヘッドアップディスプレイに用いられるホログラム積層
体が開示されている。このホログラム積層体は、アクリル系樹脂基板、アクリル系接着剤
層、アクリル系フォトポリマーからなるホログラム層、アクリル系接着剤層及びアクリル
系樹脂基板が、この順に積層されている。さらに特許文献1には、アクリル系樹脂基板の
表面平滑性によって、ホログラムの外観変化が発生することが記載されており、ホログラ
ム積層体の表面平滑性を表す最大高さRmaxが50μmを超えると、ホログラムの外観
変化が顕著になる。一方、最大高さRmaxが25μm未満の場合、ホログラムの外観変
化は許容範囲である。
For example, Patent Document 1 discloses a hologram laminate used in a vehicle head-up display. This hologram laminate includes an acrylic resin substrate, an acrylic adhesive layer, a hologram layer made of an acrylic photopolymer, an acrylic adhesive layer, and an acrylic resin substrate, which are laminated in this order. Further, Patent Document 1 describes that the appearance of the hologram changes depending on the surface smoothness of the acrylic resin substrate, and when the maximum height Rmax representing the surface smoothness of the hologram laminate exceeds 50 μm, The change in the appearance of the hologram becomes noticeable. On the other hand, when the maximum height Rmax is less than 25 μm, the change in the appearance of the hologram is within an acceptable range.
上記のアクリル系樹脂基盤のような樹脂製透明基材の構成としては、透明性の高い樹脂
基材に傷つき防止や耐薬品性を向上する目的で樹脂系のハードコート層を設け、さらにホ
ログラム層への吸湿防止の目的でガスバリア層が設けられることが好ましい。さらには、
そのようなハードコート層には平滑性を向上させるため、レベリング剤を添加するのが一
般的である。
The structure of a transparent resin base material such as the acrylic resin base mentioned above is such that a resin hard coat layer is provided on the highly transparent resin base material for the purpose of preventing scratches and improving chemical resistance, and a hologram layer is added to the resin base material. A gas barrier layer is preferably provided for the purpose of preventing moisture absorption. Furthermore,
A leveling agent is generally added to such a hard coat layer in order to improve smoothness.
しかしながら、このようなレベリング剤は高温高湿環境下において、表面にブリードす
る現象を引き起こす場合がある。その表面状態の変化によってヘーズが上昇し、ひいては
画像表示の際の輝度の低下を引き起こす恐れがある。特許文献1には、湿熱環境下におけ
るホログラム積層体の表面性の変化については言及されていない。
However, such a leveling agent may cause a phenomenon of bleeding onto the surface in a high temperature and high humidity environment. Changes in the surface condition may increase haze, which may lead to a decrease in brightness when displaying images. Patent Document 1 does not mention changes in the surface properties of the hologram laminate under a moist heat environment.
本発明は、前記のような問題に鑑みてなされたものであり、樹脂基材を用いた画像表示
用導光板において、湿熱耐久性に優れた画像表示用導光板を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a light guide plate for image display that uses a resin base material and has excellent wet heat durability. .
本発明者らはこのような状況に鑑み、上記ハードコート層である多官能(メタ)アクリ
レートがUV照射によるラジカル重合反応によって硬化する樹脂材料であることに着目し
、分子内に二重結合を有するレベリング剤を使用した。それにより、硬化時にレベリング
剤とアクリレートを化学的に結合させることで、高温高湿環境下においてもレベリング剤
が表面にブリードすることを抑制でき、ヘーズの上昇を抑制することができた。
本発明は以下の態様を有する。
[1]第1樹脂基材と、多官能(メタ)アクリレート由来の繰り返し単位を含む(メタ)
アクリル系樹脂を含有する第1保護層と、ホログラム層とが厚み方向においてこの順に配
置される画像表示用導光板であって、前記第1保護層の85℃かつ85%RHの環境下に
おける500時間後のヘーズ上昇が0.1%以下である、画像表示用導光板。
[2]前記第1保護層が、多官能(メタ)アクリレートを含むマトリックス樹脂成分と分
子内に1つ以上の二重結合を有する化合物とを含む(メタ)アクリル系樹脂組成物の硬化
物である第1有機材料層を備える、[1]の画像表示用導光板。
[3]前記化合物がレベリング剤である、[1]又は[2]の画像表示用導光板。
[4]前記(メタ)アクリル系樹脂組成物中の前記レベリング剤の含有量が、前記マトリ
ックス樹脂成分100質量部に対して、0.01質量部以上2質量部以下である、[3]
の画像表示用導光板。
[5]前記第1保護層の厚みが1μm以上15μm以下である、[1]~[4]のいずれ
かの画像表示用導光板。
[6]前記第1保護層が、さらに第1無機材料層を備える、[1]~[5]のいずれかの
画像表示用導光板。
[7]前記第1無機材料層が、酸化ケイ素、窒化ケイ素、窒化酸化ケイ素、硫化ケイ素、
酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化酸化アルミニウム及び硫化アルミニウムから
なる群から選択される少なくとも1種の無機材料を含む、[1]~[6]のいずれかの画
像表示用導光板。
[8]前記第1無機材料層の厚みが50nm以上5000nm以下である、[1]~[7
]のいずれかの画像表示用導光板。
[9]前記ホログラム層が、シングル又は体積ホログラム材料からなる、[1]~[8]
のいずれかの画像表示用導光板。
In view of this situation, the present inventors focused on the fact that the polyfunctional (meth)acrylate that is the hard coat layer is a resin material that hardens through a radical polymerization reaction caused by UV irradiation, and created a double bond in the molecule. A leveling agent was used. By chemically bonding the leveling agent and acrylate during curing, it was possible to suppress the leveling agent from bleeding onto the surface even in high temperature and high humidity environments, and it was possible to suppress an increase in haze.
The present invention has the following aspects.
[1] Contains a first resin base material and a repeating unit derived from polyfunctional (meth)acrylate (meth)
A light guide plate for image display in which a first protective layer containing an acrylic resin and a hologram layer are arranged in this order in the thickness direction, wherein A light guide plate for image display, which has a haze increase of 0.1% or less after a period of time.
[2] The first protective layer is a cured product of a (meth)acrylic resin composition containing a matrix resin component containing a polyfunctional (meth)acrylate and a compound having one or more double bonds in the molecule. The light guide plate for image display according to [1], comprising a certain first organic material layer.
[3] The light guide plate for image display according to [1] or [2], wherein the compound is a leveling agent.
[4] The content of the leveling agent in the (meth)acrylic resin composition is 0.01 parts by mass or more and 2 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the matrix resin component, [3]
Light guide plate for image display.
[5] The light guide plate for image display according to any one of [1] to [4], wherein the first protective layer has a thickness of 1 μm or more and 15 μm or less.
[6] The light guide plate for image display according to any one of [1] to [5], wherein the first protective layer further includes a first inorganic material layer.
[7] The first inorganic material layer is silicon oxide, silicon nitride, silicon nitride oxide, silicon sulfide,
The image display light guide plate according to any one of [1] to [6], comprising at least one inorganic material selected from the group consisting of aluminum oxide, aluminum nitride, aluminum nitride oxide, and aluminum sulfide.
[8] The thickness of the first inorganic material layer is 50 nm or more and 5000 nm or less, [1] to [7]
] Any of the image display light guide plates.
[9] The hologram layer is made of a single or volume hologram material, [1] to [8]
A light guide plate for image display.
本発明によれば、湿熱耐久性に優れた画像表示用導光板を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a light guide plate for image display that has excellent wet heat durability.
以下では、本発明の実施形態について添付図面を参照して説明する。すべての図面にお
いて、実施形態が異なる場合であっても、同一又は相当する部材には同一の符号を付し、
共通する説明は省略する。
「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の両端の数値を含む。
「UV」は、紫外線を意味する。
「(メタ)アクリル」は、アクリル及びメタクリルの一方又は両方を意味する。
「(メタ)アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの一方又は両方を意味
する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. In all drawings, even if the embodiments are different, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals.
Common explanations will be omitted.
A numerical range expressed using “~” includes the numbers at both ends of “~”.
"UV" means ultraviolet light.
"(Meth)acrylic" means one or both of acrylic and methacrylic.
"(Meth)acrylate" means one or both of acrylate and methacrylate.
<画像表示用導光板>
本発明の実施形態の画像表示用導光板について説明する。本実施形態の画像表示用導光
板は、第1樹脂基材、第1保護層、及びホログラム層を有する。第1樹脂基材、第1保護
層、及びホログラム層は、厚み方向において、この順に配置されている。第1保護層は、
第1有機材料層を有し、必要に応じて第1無機材料層も有することができる。第1保護層
はホログラム層の少なくとも一方の表面に配置されていればよいが、ホログラム層の他方
の面に第2保護層及び第2樹脂基材厚み方向においてこの順に配置させ、ホログラム層の
両表面に保護層が配置されていてもよい。この場合、ホログラム層は、第1保護層及び第
2保護層との間に挟まれており、第1保護層の他方の面には第1樹脂基材が積層されてお
り、第2保護層の他方の面には第2樹脂基材が積層されている。本実施形態において、第
1樹脂基材及び第2樹脂基材を総称して、以下、単に「樹脂基材」という場合がある。ま
た、第1保護層及び第2保護層を総称して、以下、単に「保護層」という場合がある。ま
た、第1有機材料層及び第2有機材料層を総称して、以下、単に「有機材料層」という場
合がある。また、第1無機材料層及び第2無機材料層を総称して、以下、単に「無機材料
層」という場合がある。
図1は、本発明の実施形態の変形例の画像表示用導光板の一例を示す模式的な断面図で
ある。
<Light guide plate for image display>
A light guide plate for image display according to an embodiment of the present invention will be described. The image display light guide plate of this embodiment has a first resin base material, a first protective layer, and a hologram layer. The first resin base material, the first protective layer, and the hologram layer are arranged in this order in the thickness direction. The first protective layer is
It has a first organic material layer and can also have a first inorganic material layer if necessary. The first protective layer may be disposed on at least one surface of the hologram layer, but the second protective layer and the second protective layer may be disposed on the other surface of the hologram layer in this order in the thickness direction of the second resin base. A protective layer may be arranged on the surface. In this case, the hologram layer is sandwiched between the first protective layer and the second protective layer, the first resin base material is laminated on the other surface of the first protective layer, and the second protective layer A second resin base material is laminated on the other surface. In this embodiment, the first resin base material and the second resin base material may be collectively referred to as simply "resin base material" hereinafter. Further, the first protective layer and the second protective layer may be collectively referred to as simply "protective layer" hereinafter. Further, the first organic material layer and the second organic material layer may be collectively referred to as simply "organic material layer" hereinafter. Further, the first inorganic material layer and the second inorganic material layer may be collectively referred to as simply "inorganic material layer" hereinafter.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of an image display light guide plate according to a modification of the embodiment of the present invention.
第1樹脂基材と第1有機層との間、第1有機材料層と第2無機材料層の間、及び第1無
機層とホログラム層との間には1層以上の透明層が配置されていてもよい。例えば、接着
剤層、ハードコート層、アンカーコート層などが挙げられる。
One or more transparent layers are arranged between the first resin base material and the first organic layer, between the first organic material layer and the second inorganic material layer, and between the first inorganic layer and the hologram layer. You can leave it there. Examples include an adhesive layer, a hard coat layer, and an anchor coat layer.
画像表示用導光板は、画像光を入射する入射部と、画像光による画像を表示する表示部
とを有する。ホログラム層は、入射部と表示部との間に配置されている。ホログラム層に
は、少なくとも入射部から入射される画像光を表示部に導波し、表示部から出射させるた
めの回折格子パターンが形成されている。表示部における回折格子パターンは、画像表示
用導光板の外部から入射する外光の少なくとも一部を透過させる。なお、外光は、表示部
とは反対側の面から入射する。
The image display light guide plate has an entrance portion into which image light is incident, and a display portion which displays an image using the image light. The hologram layer is arranged between the incident part and the display part. The hologram layer is formed with a diffraction grating pattern for guiding at least image light incident from the incident portion to the display portion and emitted from the display portion. The diffraction grating pattern in the display section transmits at least a portion of external light incident from outside the image display light guide plate. Note that external light enters from the surface opposite to the display section.
入射部に入射した画像光は、ホログラム層内に導波され、表示部から外部に出射される
。一方、外光も樹脂基材及び表示部を透過する結果、表示部の観察者は、画像光及び外光
の両方を、視野内で観察することができる。
本実施形態の画像表示用導光板は、VR技術、AR技術を用いた表示装置などに好適に
用いられる。例えば、本実施形態の画像表示用導光板は、ディスプレイ用途の他に、自動
車搭載用のヘッドアップディスプレイ(HUD)のコンバイナや反射型液晶表示デバイス
用の反射板に代表されるホログラム光学素子(HOE)などの装置に用いられてもよい。
The image light that has entered the incident section is guided into the hologram layer, and is emitted from the display section to the outside. On the other hand, since external light also passes through the resin base material and the display section, an observer of the display section can observe both the image light and the external light within his/her field of view.
The image display light guide plate of this embodiment is suitably used for display devices using VR technology, AR technology, and the like. For example, in addition to display applications, the image display light guide plate of this embodiment can be used for hologram optical elements (HOEs), such as combiners for automotive heads-up displays (HUDs) and reflectors for reflective liquid crystal display devices. ) may be used in devices such as
以下、図1に示す例に基づいて、本実施形態の画像表示用導光板の一例の詳細構成を説
明する。図1は、本発明の実施形態の画像表示用導光板の一例を示す模式的な断面図であ
る。
Hereinafter, based on the example shown in FIG. 1, a detailed configuration of an example of the image display light guide plate of this embodiment will be described. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of an image display light guide plate according to an embodiment of the present invention.
図1に示す画像表示用導光板6では、厚み方向において、第1樹脂基材1、第1有機材
料層22A、第1無機材料層22B、ホログラム層3、第2無機材料層24B、第2有機
材料層24A及び第2樹脂基材5がこの順に配置されている。
画像表示用導光板6の平面視形状は、特に限定されない。例えば、画像表示用導光板6
は、用いられる表示装置に取り付け可能な形状に整形されていてもよい。
例えば、画像表示用導光板6は、表示装置に取り付ける形状よりも大きな矩形板であっ
てもよい。この場合、画像表示用導光板6は、表示装置に組み立てられる前に、表示装置
に取り付け可能な形状に切断されるなどして成形される。
画像表示用導光板6は、平板状であってもよいし、必要に応じて湾曲板状であってもよ
い。
以下では、画像表示用導光板6が平面視矩形状の平板からなる場合の例で説明する。
In the image display
The shape of the image display
may be shaped into a shape that can be attached to a display device to be used.
For example, the image display
The image display
In the following, an example will be described in which the image display
[第1樹脂基材1]
第1樹脂基材1は、画像表示用導光板6の厚み方向の最外部に配置されている。第1樹
脂基材1は、画像表示用導光板6における表示画像出射側の表面に配置されている。
第1樹脂基材1は、画像表示用導光板6の外形と同様の形状を有する。
第1樹脂基材1は、ホログラム層3から出射される画像光と、後述する第2樹脂基材5
及びホログラム層3を透過する外光とを透過する。
第1樹脂基材1の厚みは特に限定されない。例えば、第1樹脂基材1の厚みは、0.1
mm以上10mm以下であってもよい。
なお、本明細書において第1樹脂基材1の厚みは、触針を用いるダイヤルゲージ式やマ
イクロメーター等で測定できる。
[First resin base material 1]
The first resin base material 1 is arranged at the outermost part of the image display
The first resin base material 1 has a shape similar to the outer shape of the image display
The first resin base material 1 receives the image light emitted from the
and external light that passes through the
The thickness of the first resin base material 1 is not particularly limited. For example, the thickness of the first resin base material 1 is 0.1
It may be greater than or equal to mm and less than or equal to 10 mm.
In this specification, the thickness of the first resin base material 1 can be measured using a dial gauge method using a stylus, a micrometer, or the like.
第1樹脂基材1を形成する材料は、透明樹脂材料であれば、公知のものを特に制限なく
使用することが可能である。
透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの主物性を
考慮して、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン等の単独重合体又は共重合体等のポリ
オレフィン系樹脂;環状ポリオレフィン樹脂等の非晶質ポリオレフィン系樹脂;ポリエチ
レンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル
系樹脂;トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系
樹脂;ナイロン6、ナイロン66、ナイロン12、共重合ナイロン等のポリアミド系樹脂
;エチレン-酢酸ビニル共重合体部分加水分解物(EVOH)、ポリイミド系樹脂、ポリ
エーテルイミド系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリエーテ
ルエーテルケトン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、ポリ
アリレート系樹脂、フッ素樹脂、ポリ(メタ)アクリル樹脂、ポリスチレン等のスチレン
系樹脂、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリ塩化ビニル、
セルロース、アセチルセルロース、ポリ塩化ビニリデン、ポリフェニレンスルフィド、ポ
リウレタン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリノルボルネン、スチレン-イソブチレ
ン-スチレンブロック共重合体(SIBS)、アリルジグリコールカーボネート、生分解
性樹脂等の有機材料が挙げられる。なお、第1樹脂基材1は、2種以上の材料で形成され
ていてもよいし、2種以上の材料が積層した積層構造であってもよい。
透明性の観点では、ポリカーボネート系樹脂、ポリ(メタ)アクリル樹脂などが用いら
れることがより好ましい。また、耐プロセス性の観点ではポリ(メタ)アクリル樹脂、エ
ポキシ樹脂、環状ポリオレフィン樹脂などが用いられることがより好ましい。
As the material forming the first resin base material 1, any known transparent resin material can be used without particular limitation.
Considering optical properties such as transparency and refractive index of light, as well as main physical properties such as impact resistance, heat resistance, and durability, we Polyolefin resins; amorphous polyolefin resins such as cyclic polyolefin resins; polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN); cellulose resins such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, and cellophane;
Organic materials such as cellulose, acetyl cellulose, polyvinylidene chloride, polyphenylene sulfide, polyurethane, phenolic resin, epoxy resin, polynorbornene, styrene-isobutylene-styrene block copolymer (SIBS), allyl diglycol carbonate, biodegradable resin, etc. Can be mentioned. Note that the first resin base material 1 may be formed of two or more types of materials, or may have a laminated structure in which two or more types of materials are laminated.
From the viewpoint of transparency, it is more preferable to use polycarbonate resin, poly(meth)acrylic resin, or the like. Further, from the viewpoint of process resistance, it is more preferable to use poly(meth)acrylic resin, epoxy resin, cyclic polyolefin resin, or the like.
[第1有機材料層22A]
第1有機材料層22Aは、多官能(メタ)アクリレート由来の繰り返し単位を含む(メ
タ)アクリル系樹脂を含有する。第1有機材料層22Aを第1樹脂基材1の表面に配置す
ることで、ホログラム層3による第1樹脂基材1の劣化を防止できるため、第1樹脂基材
1に使用できる材料の選択肢を増やすことができる。
[First organic material layer 22A]
The first organic material layer 22A contains a (meth)acrylic resin containing repeating units derived from polyfunctional (meth)acrylate. By arranging the first organic material layer 22A on the surface of the first resin base material 1, deterioration of the first resin base material 1 due to the
第1有機材料層22Aの(メタ)アクリル系樹脂は、多官能の各種(メタ)アクリレー
ト由来の繰り返し単位を含むものであればよく、単官能の各種(メタ)アクリレート由来
の繰り返し単位を含んでいてもよい。
多官能(メタ)アクリレートとは、分子内に2つ以上のラジカル重合性官能基を有する
(メタ)アクリレートを意味する。
(メタ)アクリル系樹脂の原料となる多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、
ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)ア
クリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール
トリ(メタ)アクリレート、トリシクロジデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート等
の多官能(メタ)アクリレートが挙げられる。
また、単官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、イソボルニル(メタ)アクリレ
ート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシ
プロピル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ
)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ヘ
キシルジグリコール(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート
、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フ
ェノキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエン(メタ)アクリレート、ポ
リエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリ
レート、ノニルフェノキシエチルセロソルブ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
これらの(メタ)アクリレートは、単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いて共
重合体を形成してもよい。
The (meth)acrylic resin of the first organic material layer 22A may contain repeating units derived from various polyfunctional (meth)acrylates, and may not contain repeating units derived from monofunctional various (meth)acrylates. You can stay there.
Polyfunctional (meth)acrylate means a (meth)acrylate having two or more radically polymerizable functional groups in the molecule.
Examples of polyfunctional (meth)acrylates that are raw materials for (meth)acrylic resins include:
Polyfunctional (meth)acrylate such as polyethylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, tricyclodidecane dimethanol di(meth)acrylate, etc. ) acrylates.
Examples of monofunctional (meth)acrylates include isobornyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, butoxyethyl (meth)acrylate, and lauryl (meth)acrylate. ) acrylate, stearyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, hexyl diglycol (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, ) acrylate, dicyclopentadiene (meth)acrylate, polyethylene glycol (meth)acrylate, polypropylene glycol (meth)acrylate, nonylphenoxyethyl cellosolve (meth)acrylate, and the like.
These (meth)acrylates may be used alone or in combination of two or more to form a copolymer.
また、上記(メタ)アクリル系樹脂に加えて、上記多官能(メタ)アクリレートからな
るオリゴマーを含有していてもよい。例えば、オリゴウレタン(メタ)アクリレート、オ
リゴエステル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
Moreover, in addition to the above-mentioned (meth)acrylic resin, an oligomer made of the above-mentioned polyfunctional (meth)acrylate may be contained. Examples include oligourethane (meth)acrylate, oligoester (meth)acrylate, and the like.
前記(メタ)アクリル系樹脂は、多官能(メタ)アクリレート由来の繰り返し単位を有
することにより、架橋した構造を有し得るので、ホログラム材料に対して膨潤しがたく耐
薬品性、長期にわたる視認性に優れる導光板を得ることができる。
第1有機材料層22Aの形成方法は特に限定されない。例えば、多官能(メタ)アクリ
レートをマトリックス樹脂成分として含む(メタ)アクリル系樹脂組成物を、第1樹脂基
材の表面に塗布した後、(メタ)アクリル系樹脂組成物を硬化することによって形成でき
る。
(メタ)アクリル系樹脂組成物の塗工方法としては、例えば、エアドクターコーティン
グ、ブレードコーティング、ナイフコーティング、リバースコーティング、トランスファ
ロールコーティング、グラビアロールコーティング、キスコーティング、キャストコーテ
ィング、スプレーコーティング、スロットオリフィスコーティング、カレンダーコーティ
ング、電着コーティング、ディップコーティング、ダイコーティング等のコーティング法
;フレキソ印刷等の凸版印刷法、ダイレクトグラビア印刷法、オフセットグラビア印刷法
等の凹版印刷法、オフセット印刷法等の平版印刷法、スクリーン印刷法等の孔版印刷法等
の印刷法が挙げられる。
The (meth)acrylic resin has a repeating unit derived from a polyfunctional (meth)acrylate, so it can have a crosslinked structure, so it does not swell with the hologram material, has chemical resistance, and has long-term visibility. A light guide plate having excellent properties can be obtained.
The method of forming the first organic material layer 22A is not particularly limited. For example, it is formed by applying a (meth)acrylic resin composition containing polyfunctional (meth)acrylate as a matrix resin component to the surface of the first resin base material, and then curing the (meth)acrylic resin composition. can.
Examples of coating methods for the (meth)acrylic resin composition include air doctor coating, blade coating, knife coating, reverse coating, transfer roll coating, gravure roll coating, kiss coating, cast coating, spray coating, and slot orifice coating. , coating methods such as calendar coating, electrodeposition coating, dip coating, and die coating; letterpress printing methods such as flexographic printing, intaglio printing methods such as direct gravure printing method and offset gravure printing method, and lithographic printing methods such as offset printing method; Examples include printing methods such as stencil printing methods such as screen printing methods.
前記(メタ)アクリル系樹脂組成物は、粘度調整や塗工性改良を目的として、必要に応
じて各種溶剤で希釈して用いてもよい。このような希釈溶剤としては一般的な各種有機溶
剤を用いることができ、例えば、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロ
パノール等のアルコール系化合物;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系化合物;
酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル系化合物;トルエン、キシレン等の
芳香族系化合物等が挙げられる。これらの希釈溶剤は、単独又は2種以上を混合して使用
することができる。
The (meth)acrylic resin composition may be diluted with various solvents as necessary for the purpose of adjusting viscosity and improving coatability. Various general organic solvents can be used as such diluting solvents, such as alcohol compounds such as methanol, ethanol, 1-propanol, and 2-propanol; ketone compounds such as acetone and methyl ethyl ketone;
Examples include ester compounds such as ethyl acetate, propyl acetate, and butyl acetate; aromatic compounds such as toluene and xylene. These diluting solvents can be used alone or in combination of two or more.
前記(メタ)アクリル系樹脂組成物は、必要に応じて光重合開始剤を配合してもよい。
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾ
インイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル
、4,4’-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンジルジメチルケタール、2-
クロロチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、2,2’-ジイソプロピル
チオキサントン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-メチル-1-〔4
-(メチルチオ)フェニル〕-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2,4,6-トリ
メチルベンゾイルフェニルジフォスフィンオキシド等が挙げられる。これらを単独又は2
種類以上を組み合わせて用いることができる。
The (meth)acrylic resin composition may contain a photopolymerization initiator, if necessary.
Examples of the photopolymerization initiator include benzophenone, acetophenone, benzoin, benzoin isobutyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin ethyl ether, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone, benzyl dimethyl ketal, 2-
Chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,2'-diisopropyl
Thioxanthone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-1-[4
-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoylphenyldiphosphine oxide, and the like. These alone or in combination
More than one type can be used in combination.
前記(メタ)アクリル系樹脂組成物には、本発明の画像表示用導光板により優れた特性
を付与することを目的として、前記マトリックス樹脂成分以外に各種添加剤を配合するこ
とができる。
添加剤としては、粘度調整剤、塗工性改良剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止
剤、傷つき防止剤等を適宜配合することができ、特に限定されるものではないが、前記第
1保護層に高い平滑性が付与されることによって、本発明の画像表示用導光板の光学特性
や耐久性等が向上する傾向にあることから、レベリング剤を用いるのが好ましい。
In addition to the matrix resin component, various additives may be added to the (meth)acrylic resin composition for the purpose of imparting more excellent characteristics to the image display light guide plate of the present invention.
As additives, viscosity modifiers, coating property improvers, leveling agents, ultraviolet absorbers, antioxidants, anti-scratch agents, etc. can be blended as appropriate, and are not particularly limited. It is preferable to use a leveling agent because imparting high smoothness to the protective layer tends to improve the optical properties, durability, etc. of the light guide plate for image display of the present invention.
一方、これら添加剤としては、前記(メタ)アクリル系樹脂組成物の硬化時に前記マト
リックス樹脂成分と化学的に結合することができる、分子内に1つ以上の二重結合を有す
る化合物が好ましい。
このような化合物を添加剤として含む(メタ)アクリル系樹脂組成物の硬化物を第1有
機材料層とすることによって、高温高湿環境下においても、添加剤が第1保護層からブリ
ードアウトすることを抑制することができ、本発明の画像表示用導光板における、85℃
、85%RH、かつ500時間の条件下におけるヘーズ上昇を0.1%以下とすることが
できる。
したがって、レベリング剤としては、例えば、アクリル系レベリング剤、シリコーン系
レベリング剤及びフッ素系レベリング剤が好適に挙げられる。具体例としては、ポリエー
テル、アルキル、ポリエステル等を側鎖に含むアクリレート系ポリマー及びオリゴマー、
シリコーン鎖とポリアルキレンオキサイド鎖とを有するシリコーン系ポリマー及びオリゴ
マー、シリコーン鎖とポリエステル鎖とを有するシリコーン系ポリマー及びオリゴマー、
パーフルオロアルキル基とポリアルキレンオキサイド鎖とを有するフッ素系ポリマー及び
オリゴマー、並びに、パーフルオロアルキルエーテル鎖とポリアルキレンオキサイド鎖と
を有するフッ素系ポリマー及びオリゴマー等挙げることができるが、上述の理由から、K
Pシリーズ(信越シリコーン社製)、ポリフローKLシリーズ(共栄社化学社製)等に代表さ
れるエチレン性不飽和基を有するシリコーン系ポリマー及びオリゴマー、あるいはメガフ
ァックRSシリーズ(DIC社製)、KY400シリーズ(信越シリコーン社製)、フタージ
ェントシリーズ(ネオス社製)等に代表されるフッ素系ポリマー及びオリゴマーのように、
前記マトリックス樹脂成分と化学的に結合することができる二重結合を分子内に1つ以上
有する化合物を用いるのが好ましい。
On the other hand, these additives are preferably compounds having one or more double bonds in the molecule that can chemically bond to the matrix resin component during curing of the (meth)acrylic resin composition.
By using a cured product of a (meth)acrylic resin composition containing such a compound as an additive as the first organic material layer, the additive bleeds out from the first protective layer even in a high temperature and high humidity environment. 85° C. in the light guide plate for image display of the present invention.
, 85% RH, and 500 hours of haze increase can be made 0.1% or less.
Therefore, suitable examples of the leveling agent include acrylic leveling agents, silicone leveling agents, and fluorine leveling agents. Specific examples include acrylate polymers and oligomers containing polyether, alkyl, polyester, etc. in their side chains;
silicone polymers and oligomers having silicone chains and polyalkylene oxide chains; silicone polymers and oligomers having silicone chains and polyester chains;
Examples include fluoropolymers and oligomers having a perfluoroalkyl group and a polyalkylene oxide chain, and fluoropolymers and oligomers having a perfluoroalkyl ether chain and a polyalkylene oxide chain, but for the reasons mentioned above, K
Silicone polymers and oligomers with ethylenically unsaturated groups, such as the P series (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) and Polyflow KL series (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), or the Megafac RS series (manufactured by DIC Corporation), KY400 series (manufactured by DIC Corporation), etc. Fluoropolymers and oligomers such as Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) and Ftergent series (Neos Co., Ltd.)
It is preferable to use a compound having one or more double bonds in its molecule that can chemically bond to the matrix resin component.
また、これらレベリング剤は、前記マトリックス樹脂成分100質量部に対して、0.
01質量部以上2質量部以下の範囲で用いるのが好ましい。
レベリング剤の配合量を0.01質量部以上とすることによって、第1保護層を研磨す
ることなくその平滑性や耐擦傷性を向上させることができ、研磨画像表示用導光板として
有用な加工精度が簡便に得られる傾向にある。より好ましくは、0.1質量部以上である
。また、レベリング剤の配合量を1質量部以下とすることによって、画像表示用導光板と
して充分な透明性や機械強度が得られ、高温高湿環境下におけるヘーズ上昇も抑制するこ
とができる傾向にある。より好ましくは、1質量部以下である。
Moreover, these leveling agents are added in an amount of 0.00 parts by weight per 100 parts by mass of the matrix resin component.
It is preferable to use it in a range of 0.01 parts by mass or more and 2 parts by mass or less.
By setting the blending amount of the leveling agent to 0.01 part by mass or more, the smoothness and scratch resistance of the first protective layer can be improved without polishing it, and the processing is useful as a light guide plate for displaying polished images. Accuracy tends to be easily obtained. More preferably, it is 0.1 part by mass or more. Furthermore, by controlling the amount of the leveling agent to 1 part by mass or less, sufficient transparency and mechanical strength can be obtained as a light guide plate for image display, and it tends to be possible to suppress an increase in haze under high temperature and high humidity environments. be. More preferably, it is 1 part by mass or less.
また、前記アクリル系樹脂組成物には、シランカップリング剤を添加し、前記第1有機
材料層22Aと前記第1樹脂基材との密着性を調整することもできる。すなわち、第1有
機材料層22Aと第1樹脂基材との密着性を強める目的で、シランカップリング剤を用い
ることができる。
前記シランカップリング剤の代表例としては、アミノシラン化合物が挙げられる。アミ
ノシラン化合物の具体例としては、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノ
プロピルトリメトキシシラン、N-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメト
キシシラン、γ-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ-N-フェニルアミノプロピ
ルトリメトキシシランが挙げられる。これらのアミノシランは単独又は2種以上混合して
使用することができる。さらに、アミノシラン以外のカップリング剤を併用しても差支え
ない。
Further, a silane coupling agent may be added to the acrylic resin composition to adjust the adhesion between the first organic material layer 22A and the first resin base material. That is, a silane coupling agent can be used for the purpose of strengthening the adhesion between the first organic material layer 22A and the first resin base material.
A typical example of the silane coupling agent is an aminosilane compound. Specific examples of aminosilane compounds include γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β-(aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, and γ-aminopropyltriethoxysilane. -N-phenylaminopropyltrimethoxysilane is mentioned. These aminosilanes can be used alone or in a mixture of two or more. Furthermore, coupling agents other than aminosilane may be used in combination.
前記の第1有機材料層22Aを備える第1保護層2の厚みは1μm以上であることが好
ましく、2μm以上であることがより好ましく、5μm以上であることがさらに好ましい
。第1保護層2の厚みが1μm以上であることにより、ホログラム層3による樹脂基材の
劣化を防止できる。また、第1保護層2の厚みは15μm以下であることが好ましく、1
2μm以下であることがより好ましく、10μm以下であることがより好ましい。第1保
護層2の厚みが15μm以下であることにより、第1保護有層2の弾性率を高めることが
できる。
なお、第1保護層2の厚みは、非接触の光学式である干渉式膜厚計等で測定できる。
The thickness of the first protective layer 2 including the first organic material layer 22A is preferably 1 μm or more, more preferably 2 μm or more, and even more preferably 5 μm or more. When the thickness of the first protective layer 2 is 1 μm or more, deterioration of the resin base material due to the
It is more preferably 2 μm or less, and even more preferably 10 μm or less. When the thickness of the first protective layer 2 is 15 μm or less, the elastic modulus of the first protective layer 2 can be increased.
Note that the thickness of the first protective layer 2 can be measured using a non-contact optical interference type film thickness meter or the like.
第1有機材料層22Aの弾性率は2GPa以上であることが好ましく、5GPa以上で
あることがより好ましい。弾性率が2GPa以上であることにより、ホログラム層3によ
る樹脂基材の劣化を防止できる。また、第1有機材料層22Aの弾性率は20GPa以下
であることが好ましく、15GPa以下であることがより好ましい。弾性率が20GPa
以下であることにより、有機層形成時の硬化収縮による反りを抑制することができる。
なお、弾性率は、測定装置 島津ダイナミック超微小硬度計、DUH-W201 測定
条件:Triangular115、押し込み深さ230~280nmにより測定できる
。
The elastic modulus of the first organic material layer 22A is preferably 2 GPa or more, more preferably 5 GPa or more. When the elastic modulus is 2 GPa or more, deterioration of the resin base material due to the
By being below, it is possible to suppress warping due to curing shrinkage during formation of the organic layer.
The elastic modulus can be measured using a measuring device: Shimadzu dynamic ultra-microhardness meter, DUH-W201, measuring conditions: Triangular 115, indentation depth of 230 to 280 nm.
また、第1樹脂基材1と第1有機材料層22Aとの屈折率差は0.3以下であることが
好ましく、0.2以下であることがより好ましい。屈折率差が0.3以下であることによ
り、優れた輝度値を付与できるとともに、色ムラを防止することができる。
なお、屈折率は通常用いられているアッベの屈折率計やエリプソメーターを用いる方法
で測定できる。
Further, the difference in refractive index between the first resin base material 1 and the first organic material layer 22A is preferably 0.3 or less, more preferably 0.2 or less. By having a refractive index difference of 0.3 or less, an excellent brightness value can be provided and color unevenness can be prevented.
Note that the refractive index can be measured by a commonly used method using an Abbe refractometer or an ellipsometer.
[第1無機材料層]
第1無機材料層22Bは、ホログラム層への吸湿防止等を目的として、適宜採用するこ
とができるものである。この場合、本発明の実施形態の画像表示用導光板においては、第
1樹脂基材、第1有機材料層、第1無機材料層、及びホログラム層を厚み方向において、
この順に配置させることができる。この場合、ホログラム層への吸湿防止性能がより高く
、ホログラム層による樹脂基材の劣化も防止できる傾向にあることから、第1無機材料層
とホログラム層が直接接しているのが好ましい。
第1無機材料層22Bに使用される無機材料としては、酸化ケイ素、窒化ケイ素、窒化
酸化ケイ素、硫化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化酸化アルミニウム
又は硫化アルミニウムが挙げられる。
なかでも、全光線透過率やバリア性を良好にする観点から、酸化ケイ素、窒化酸化ケイ
素、酸化アルミニウム、窒化酸化アルミニウムが好ましい。特に、ナトリウムやカリウム
などのアルカリ酸化物成分が低い方が、高温高湿度下でのバリア性の低下を抑制できる点
で好ましい。
[First inorganic material layer]
The first inorganic material layer 22B can be appropriately employed for the purpose of preventing moisture absorption into the hologram layer. In this case, in the light guide plate for image display according to the embodiment of the present invention, the first resin base material, the first organic material layer, the first inorganic material layer, and the hologram layer are arranged in the thickness direction.
They can be arranged in this order. In this case, it is preferable that the first inorganic material layer and the hologram layer are in direct contact because the ability to prevent moisture absorption into the hologram layer is higher and the deterioration of the resin base material due to the hologram layer tends to be prevented.
Examples of the inorganic material used for the first inorganic material layer 22B include silicon oxide, silicon nitride, silicon nitride oxide, silicon sulfide, aluminum oxide, aluminum nitride, aluminum nitride oxide, and aluminum sulfide.
Among these, silicon oxide, silicon nitride oxide, aluminum oxide, and aluminum nitride oxide are preferred from the viewpoint of improving total light transmittance and barrier properties. In particular, it is preferable that the content of alkali oxide components such as sodium and potassium is low because it is possible to suppress deterioration of barrier properties under high temperature and high humidity conditions.
第1無機材料層22Bの厚みは、50nm以上5000nm以下が好ましく、50nm
以上3000nm以下がより好ましい。層厚が50nm以上であることにより、十分なホ
ログラム層への吸湿防止効果が得られるとともに、十分な耐ホログラム剤性が得られる傾
向にある。また、層厚が5000nm以下であることにより、保護層22に亀裂が生じに
くくなるため、層間剥離が生じることを抑えられる。特に好ましい層厚としては、50n
m以上1000nm以下である。
The thickness of the first inorganic material layer 22B is preferably 50 nm or more and 5000 nm or less, and 50 nm or more and 5000 nm or less.
The thickness is more preferably 3000 nm or less. When the layer thickness is 50 nm or more, a sufficient effect of preventing moisture absorption into the hologram layer can be obtained, and sufficient hologram agent resistance tends to be obtained. Further, since the layer thickness is 5000 nm or less, cracks are less likely to occur in the protective layer 22, and therefore delamination can be suppressed. A particularly preferable layer thickness is 50n
m or more and 1000 nm or less.
第1無機材料層22Bに用いる無機材料は、第1樹脂基材1や第1有機材料層22Aよ
りも高い屈折率を有していてもよい。例えば、第1無機材料層22Bの屈折率は、1.4
8以上3.0以下であってもよい。第1無機材料層22Bが高屈折率であると、第1保護
層22を経由して第1樹脂基材1を透過する光は、光学的に密な第1無機材料層22Bか
ら光学的に粗な第1有機材料層22Aを通って、第1樹脂基材1に入射する。そのため、
第1保護層22から第1樹脂基材1に向かう光の出射角が、第1保護層2と第1樹脂基材
1との屈折率差に応じて大きくなる。これにより、画像表示用導光板6におけるFOV(
field of view)を広げることができる。
The inorganic material used for the first inorganic material layer 22B may have a higher refractive index than the first resin base material 1 and the first organic material layer 22A. For example, the refractive index of the first inorganic material layer 22B is 1.4.
It may be 8 or more and 3.0 or less. When the first inorganic material layer 22B has a high refractive index, the light that passes through the first resin base material 1 via the first protective layer 22 is optically transmitted from the optically dense first inorganic material layer 22B. The light passes through the rough first organic material layer 22A and enters the first resin base material 1. Therefore,
The emission angle of light directed from the first protective layer 22 toward the first resin base material 1 increases according to the difference in refractive index between the first protective layer 2 and the first resin base material 1. As a result, the FOV (
field of view).
第1無機材料層22Bを形成する方法は特に限定されない。例えば、真空蒸着法、スパ
ッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法等の従来から知られているい
ずれかの方法で形成することができる。珪素酸化物によって第1無機材料層22Bを形成
する際に、成膜面と珪素酸化物との接着性を向上させるために、成膜面にコロナ放電処理
、低温プラズマ処理を施したり、また、シランカップリング剤、飽和ポリエステルとイソ
シアネートの混合物を塗布する等の表面処理を施したりしてもよい。
例えば、真空蒸着法によって珪素酸化物の薄膜を成膜する場合には、蒸発物質として珪
素、一酸化珪素、二酸化珪素、又はこれらの混合物を用い、1.0×10-3Torr~
1.0×10-5Torrの真空下で、電子ビーム、抵抗加熱又は高周波加熱方式で加熱
蒸発させる。また、酸素ガスを供給しながら行う反応蒸着法も採用できる。
第1無機材料層22Bとして珪素窒素酸化物からなる層を形成する場合、珪素酸化物が
珪素窒素酸化物に代えられた以外は、珪素酸化物を主成分とする第1無機材料層22Bと
同様の構成が用いられる。
The method of forming the first inorganic material layer 22B is not particularly limited. For example, it can be formed by any conventionally known method such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, an ion plating method, or a plasma CVD method. When forming the first inorganic material layer 22B using silicon oxide, in order to improve the adhesion between the film-forming surface and the silicon oxide, the film-forming surface may be subjected to corona discharge treatment or low-temperature plasma treatment, or Surface treatment such as coating with a silane coupling agent or a mixture of saturated polyester and isocyanate may be performed.
For example, when forming a thin film of silicon oxide by vacuum evaporation, silicon, silicon monoxide, silicon dioxide, or a mixture thereof is used as the evaporator, and the temperature is 1.0×10 −3 Torr to
The material is heated and evaporated under a vacuum of 1.0×10 −5 Torr using an electron beam, resistance heating, or high frequency heating method. Further, a reactive vapor deposition method performed while supplying oxygen gas can also be adopted.
When forming a layer made of silicon nitride oxide as the first inorganic material layer 22B, it is the same as the first inorganic material layer 22B mainly composed of silicon oxide, except that silicon oxide is replaced with silicon nitride oxide. The following configuration is used.
第1無機材料層22Bとしてアルミニウム酸化物からなる層を形成する場合、例えば、
Al2O3のみで形成されてもよいし、Al、AlO、Al2O3等が混じり合って形成
されてもよい。アルミニウム酸化物層におけるAl:Oの原子数比は、アルミニウム酸化
物層の作製条件によって異なる。第1無機材料層22Bとして使用できるアルミニウム酸
化物層は、緻密性能が損なわれない範囲で微量(全成分に対して高々3%まで)の他成分
が含まれてもよい。
アルミニウム酸化物層の厚みは、耐薬品性能など必要に応じて設定されればよい。例え
ば、アルミニウム酸化物層の厚みは、5nm以上800nm以下であってもよい。
When forming a layer made of aluminum oxide as the first inorganic material layer 22B, for example,
It may be formed of only Al 2 O 3 or may be formed of a mixture of Al, AlO, Al 2 O 3 , etc. The atomic ratio of Al:O in the aluminum oxide layer varies depending on the conditions for producing the aluminum oxide layer. The aluminum oxide layer that can be used as the first inorganic material layer 22B may contain a trace amount (up to 3% of all components) of other components as long as the density performance is not impaired.
The thickness of the aluminum oxide layer may be set according to needs such as chemical resistance. For example, the thickness of the aluminum oxide layer may be 5 nm or more and 800 nm or less.
アルミニウム酸化物によって第1無機材料層22Bを形成する方法は特に限定されない
。例えば、第1無機材料層22Bは、真空蒸着法、スパッター法、イオンプレーティング
法などのPVD法(物理蒸着法)、あるいは、CVD法(化学蒸着法)などが用いられて
もよい。
例えば、真空蒸着法においては、蒸着源材料としてAl、Al2O3等が用いられ、蒸
着源の加熱方式としては、抵抗加熱、高周波誘導加熱、電子ビ-ム加熱等が用いられても
よい。真空蒸着法においては、反応性ガスとして、酸素、窒素、水蒸気等を導入したり、
オゾン添加、イオンアシスト等の手段を用いた反応性蒸着を用いたりしてもよい。さらに
、成膜面に基板にバイアス等を加えたり、成膜面の温度を上昇、あるいは、冷却したりし
てもよい。スパッター法やCVD法等のほかの成膜方法においても同様である。
The method of forming the first inorganic material layer 22B using aluminum oxide is not particularly limited. For example, the first inorganic material layer 22B may be formed using a PVD method (physical vapor deposition method) such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method, or a CVD method (chemical vapor deposition method).
For example, in the vacuum evaporation method, Al, Al 2 O 3 , etc. are used as the evaporation source material, and resistance heating, high frequency induction heating, electron beam heating, etc. may be used as the heating method for the evaporation source. . In the vacuum evaporation method, oxygen, nitrogen, water vapor, etc. are introduced as reactive gases,
Reactive vapor deposition using means such as ozone addition and ion assist may also be used. Furthermore, a bias or the like may be applied to the substrate on the film-forming surface, or the temperature of the film-forming surface may be increased or cooled. The same applies to other film forming methods such as sputtering and CVD.
[ホログラム層3]
ホログラム層3は、第1保護層2の表面に積層されている。ホログラム層3の構成は特
に限定されない。ホログラム層3には、画像表示用導光板6に必要な機能に対応する適宜
の回折格子が形成されている。
ホログラム層3の材料は特に限定されず、公知のホログラム形成用樹脂材料であってよ
い。
例えば、溶媒可溶性でカチオン重合可能なエチレンオキシド環を構造単位中に少なくと
もひとつ有する熱硬化性樹脂と、ラジカル重合可能なエチレン性モノマーよりなるホログ
ラム記録材料(特開平9-62169号公報、特開平11-161141号公報、特開2
002-310932号公報)などが挙げられる。
具体的には、ビスフェノール系エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂;トリエチレングリコー
ルジアクリレート等の(メタ)アクリレート;4、4’-ビス(tert-ブチルフェニ
ル)ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート等の光重合開始剤;3,3’-カルボニ
ルビス(7-ジエチルアミノ)クマリン等の波長増感剤;2-ブタノン等の有機溶剤、を
含む感光材料から形成されることが好ましい。
なかでも、ホログラム層が、シングル又は体積ホログラム材料からなることが好ましい
。
[Hologram layer 3]
The
The material of the
For example, hologram recording materials (JP-A No. 9-62169, JP-A-11-1999) made of a thermosetting resin that is solvent-soluble and has at least one cationically polymerizable ethylene oxide ring in its structural unit, and a radically polymerizable ethylenic monomer Publication No. 161141, Japanese Patent Application Publication No. 2
002-310932).
Specifically, epoxy resins such as bisphenol-based epoxy resins; (meth)acrylates such as triethylene glycol diacrylate; photopolymerization initiators such as 4,4'-bis(tert-butylphenyl)iodonium hexafluorophosphate; It is preferably formed from a photosensitive material containing a wavelength sensitizer such as 3,3'-carbonylbis(7-diethylamino)coumarin; and an organic solvent such as 2-butanone.
Among these, it is preferable that the hologram layer is made of a single or volume hologram material.
[第2無機材料層24B]
第2無機材料層24Bは、第2保護層24の一部であり、ホログラム層3を介して第1
保護層2の反対側に積層されている。第2無機材料層24Bとしては、第1無機材料層2
2Bの説明において例示されたのと同様の構成が用いられる。ただし、第2無機材料層2
4Bの厚み、材料等は、第1無機層22Bと相違していてもよい。
[Second inorganic material layer 24B]
The second inorganic material layer 24B is a part of the second protective layer 24, and the second inorganic material layer 24B is a part of the second protective layer 24.
It is laminated on the opposite side of the protective layer 2. As the second inorganic material layer 24B, the first inorganic material layer 2
A configuration similar to that illustrated in the description of 2B is used. However, the second inorganic material layer 2
The thickness, material, etc. of 4B may be different from those of first inorganic layer 22B.
[第2有機材料層24A]
第2有機材料層24Aは、第2保護層24の一部であり、第1有機材料層22Aの説明
において例示されたのと同様の構成が用いられる。ただし、第2有機材料24Aの厚み、
材料等は、第1有機材料層22Aと相違していてもよい。
[Second organic material layer 24A]
The second organic material layer 24A is a part of the second protective layer 24, and uses the same configuration as exemplified in the description of the first organic material layer 22A. However, the thickness of the second organic material 24A,
The material etc. may be different from that of the first organic material layer 22A.
[第2樹脂基材5]
第2樹脂基材5は、第2保護層24の表面に積層されている。第2樹脂基材5としては
、第1樹脂基材1の説明において例示されたのと同様の構成が用いられる。ただし、第2
樹脂基材5の厚み、材料等は、第1樹脂基材1と相違していてもよい。特に、第2樹脂基
材5は、画像表示用導光板6における表示画像出射側と反対に位置する外光入射側の表面
に配置されるので、第1樹脂基材1に比べて表面硬度が高い材料が用いられてもよい。
[Second resin base material 5]
The second resin base material 5 is laminated on the surface of the second protective layer 24. As the second resin base material 5, a configuration similar to that exemplified in the description of the first resin base material 1 is used. However, the second
The thickness, material, etc. of the resin base material 5 may be different from those of the first resin base material 1. In particular, since the second resin base material 5 is disposed on the surface of the image display
[画像表示用導光板6]
画像表示用導光板6は、第1樹脂基材1とホログラム層3との間、及び第2樹脂基材5
とホログラム層3との間に、それぞれ第1保護層22と第2保護層24とが配置されてい
る。第1保護層22は、第1有機材料層22Aと第1無機材料層22Bとを備え、第2保
護層24は、第2有機材料層24Aと第2無機材料層24Bとを備える。
第1保護層22は、第1有機材料層22Aが第1樹脂基材1の側に配置され、第1無機
材料層22Bがホログラム層3の側に配置されることが好ましい。また、第2保護層24
も、第2有機材料層24Aが第2樹脂基材2の側に配置され、第2無機材料層24Bがホ
ログラム層3の側に配置されることが好ましい。
第1樹脂基材1及び第2樹脂基材5の耐薬品性は、樹脂材料の種類によって程度の差は
あるが、ガラスに比べると格段に低い。このため、第1樹脂基材1及び第2樹脂基材5は
、ガラスよりもより低い耐溶剤性、及び耐ホログラム材料性を有している。
第1樹脂基材1及び第2樹脂基材5がホログラム層3と接触している場合、ホログラム
層3の構成成分であるホログラム剤が第1樹脂基材1及び第2樹脂基材5を透過したり、
第1樹脂基材1及び第2樹脂基材5の内部にホログラム剤が蓄積したりしやすい。第1樹
脂基材1及び第2樹脂基材5がホログラム剤に曝されると、第1樹脂基材1及び第2樹脂
基材5が劣化し鮮明度の低下等が起こりやすくなる。
そこで、第1樹脂基材1及び第2樹脂基材5とホログラム層3との間に、それぞれ第1
保護層2及び第2保護層4を設けることにより、第1樹脂基材1及び第2樹脂基材5への
ホログラム剤の浸透が抑制されることで、樹脂基材の劣化が防止される。
[
The image display
A first protective layer 22 and a second protective layer 24 are arranged between and the
In the first protective layer 22, it is preferable that the first organic material layer 22A is disposed on the first resin base material 1 side, and the first inorganic material layer 22B is disposed on the
Also, it is preferable that the second organic material layer 24A is disposed on the second resin base material 2 side, and the second inorganic material layer 24B is disposed on the
Although the chemical resistance of the first resin base material 1 and the second resin base material 5 varies depending on the type of resin material, it is much lower than that of glass. Therefore, the first resin base material 1 and the second resin base material 5 have lower solvent resistance and hologram material resistance than glass.
When the first resin base material 1 and the second resin base material 5 are in contact with the
The hologram agent tends to accumulate inside the first resin base material 1 and the second resin base material 5. When the first resin base material 1 and the second resin base material 5 are exposed to the hologram agent, the first resin base material 1 and the second resin base material 5 are likely to deteriorate, resulting in a decrease in clarity and the like.
Therefore, between the first resin base material 1 and the second resin base material 5 and the
By providing the protective layer 2 and the second protective layer 4, the penetration of the hologram agent into the first resin base material 1 and the second resin base material 5 is suppressed, thereby preventing deterioration of the resin base material.
<画像表示用導光板の製造方法>
画像表示用導光板6は、例えば、以下のようにして製造できる。
第1樹脂基材1及び第2樹脂基材5が準備され([基板準備工程])、第1樹脂基材1
及び第2樹脂基材5の表面に、第1有機材料層22A及び第2有機材料層24Aがそれぞ
れ形成される([有機材料層形成工程])。樹脂基材と有機材料層とからなる中間体の第
1有機材料層22A及び第2有機材料層24Aの表面に、第1無機材料層22B及び第2
無機材料層24Bがそれぞれ形成される(無機材料層形成工程)。
第1無機材料層22Bの表面に、ホログラム形成用の感光材料が塗布される。このとき
、第1無機材料層22Bの外周部には、ホログラム層3と同厚みの透明なシール層が設け
られてもよい。この場合、感光材料は、シール層で囲まれて形成された凹部に塗布される
。シール層は、ホログラム層3の形成後にホログラム層3の外周部をシールする。
この後、感光材料上に、第2保護層24が形成された第2樹脂基材5が、第2保護層2
4を感光材料の方に向けられた状態で載置される([導光板作製工程])。
この後、減圧プレスによって、第1樹脂基材1、第1保護層2、ホログラム層3、第2
保護層4、及び第2樹脂基材5からなる積層体が貼り合わせられる。
この後、積層体の感光材料に回折パターンに対応した干渉縞を形成し、感光材料中に、
回折格子を形成する。
このようにして、画像表示用導光板6が製造される。
<Method for manufacturing light guide plate for image display>
The image display
A first resin base material 1 and a second resin base material 5 are prepared ([substrate preparation step]), and the first resin base material 1
A first organic material layer 22A and a second organic material layer 24A are respectively formed on the surface of the second resin base material 5 ([organic material layer forming step]). A first inorganic material layer 22B and a second
Inorganic material layers 24B are respectively formed (inorganic material layer forming step).
A photosensitive material for forming a hologram is applied to the surface of the first inorganic material layer 22B. At this time, a transparent sealing layer having the same thickness as the
After that, the second resin base material 5 on which the second protective layer 24 is formed is placed on the photosensitive material.
4 is placed facing the photosensitive material ([light guide plate manufacturing process]).
After that, the first resin base material 1, the first protective layer 2, the
A laminate consisting of the protective layer 4 and the second resin base material 5 is bonded together.
After this, interference fringes corresponding to the diffraction pattern are formed on the photosensitive material of the laminate, and
Form a diffraction grating.
In this way, the image display
無機材料が珪素酸化物の場合には、以下のようにして無機材料層を形成できる。
樹脂基材と有機材料層からなる中間体が真空蒸着装置に配置された後、珪素酸化物の真
空蒸着を行う。真空蒸着装置のチャンバーの到達真空度は、3×10-3Torr以下と
することが好ましい。この真空下、高周波誘導加熱方式により純度99.9%の一酸化珪
素を加熱蒸発させて、樹脂基材の表面に珪素酸化物薄膜を成膜する。これにより、珪素酸
化物薄膜層が成膜された中間積層体が得られる。
その後、画像表示用導光板6を形成する。
When the inorganic material is silicon oxide, the inorganic material layer can be formed as follows.
After the intermediate body consisting of the resin base material and the organic material layer is placed in a vacuum evaporation apparatus, silicon oxide is vacuum evaporated. The ultimate vacuum degree of the chamber of the vacuum evaporation apparatus is preferably 3×10 −3 Torr or less. Under this vacuum, silicon monoxide with a purity of 99.9% is heated and evaporated using a high-frequency induction heating method to form a silicon oxide thin film on the surface of the resin base material. As a result, an intermediate laminate on which a silicon oxide thin film layer is formed is obtained.
After that, the image display
無機材料がアルミナの場合には、以下のようにして無機材料層を形成できる。
電子ビーム蒸着装置内に、樹脂基材と有機材料層からなる中間体を入れ、蒸着源として
純度99.999%で粒径0.5~5mmのアルファアルミナ粒子を適量、配置して、真
空排気を行う。蒸着源からシャッタまでの距離は約3~15cm、蒸着源から樹脂基材表
面までの距離は約5~50cmとすることが好ましい。
電子ビーム蒸着装置の圧力が3×10-3Torr以下に到達後、電子ビームのフィラ
メント電流を25~50mAに上げ、シャッタを開け、アルミナ成膜を行う。装置内の壁
面の温度が45℃以上になったら、シャッタを閉じ、電子ビームのフィラメント電流を止
める。35℃以下まで冷却後、電子ビームのフィラメント電流を25~50mAに上げ蒸
着源を加熱し、シャッタを開け、アルミナ成膜を行う。これを繰り返し、アルミナ成膜を
行う。これにより、アルミナ薄膜層が成膜された中間積層体が得られる。
その後、画像表示用導光板6を形成する。
When the inorganic material is alumina, the inorganic material layer can be formed as follows.
An intermediate body consisting of a resin base material and an organic material layer is placed in an electron beam evaporation device, and an appropriate amount of alpha alumina particles with a purity of 99.999% and a particle size of 0.5 to 5 mm are placed as a evaporation source, and then vacuum evacuated. I do. The distance from the vapor deposition source to the shutter is preferably about 3 to 15 cm, and the distance from the vapor deposition source to the surface of the resin substrate is preferably about 5 to 50 cm.
After the pressure of the electron beam evaporator reaches 3×10 −3 Torr or less, the filament current of the electron beam is increased to 25 to 50 mA, the shutter is opened, and alumina film is formed. When the temperature of the wall inside the device reaches 45°C or higher, the shutter is closed and the filament current of the electron beam is stopped. After cooling to 35° C. or lower, the filament current of the electron beam is increased to 25 to 50 mA to heat the evaporation source, the shutter is opened, and alumina film is formed. This is repeated to form an alumina film. As a result, an intermediate laminate having an alumina thin film layer formed thereon is obtained.
After that, the image display
<輝度値>
ここで、画像表示用導光板6における輝度値の測定方法の一例について簡単に説明する
。
図2は、輝度値の測定方法を説明する模式的な正面図である。
<Brightness value>
Here, an example of a method for measuring the brightness value in the image display
FIG. 2 is a schematic front view illustrating a method for measuring brightness values.
図2に示すように、画像表示用導光板6の輝度値を測定するには、画像表示用導光板6
を用いて表示装置10が製造される。
表示装置10は、画像表示用導光板6に加えて、画像光投影部13及び入射光学系12
を備える。
画像光投影部13は、図示略のコントローラから送出される画像信号に応じて、画像表
示用導光板6に表示する画像光を投影する。
入射光学系12は、例えば、プリズムなどを備える。入射光学系12は、画像光投影部
13から出射される画像光を画像表示用導光板6の表面に設けられた入射部6aに入射さ
せる。例えば、入射部6aは、樹脂基材1側の表面に設けられている。
入射部6aに入射した画像光は、ホログラム層3に形成された導波回折格子部3bを経
由して、ホログラム層3の表示用回折格子部3cに到達する。表示用回折格子部3cでは
、画像光を各表示画素に対応する位置で回折する。回折光は、画像表示用導光板6の表面
における表示部6dから外部に出射される。図2に示す例では、表示部6dは、樹脂基材
1側の表面において、入射部6aから離間した位置に形成されている。
As shown in FIG. 2, in order to measure the brightness value of the image display
The
In addition to the image display
Equipped with
The image
The entrance
The image light incident on the
画像表示用導光板6の輝度値の測定は、表示装置10を測定装置15に配置することに
よって行われる。
測定装置15は、保持台(図示略)と、輝度計14と、ゴニオステージ(図示略)と、
を備える。
保持台は、表示装置10を保持する。輝度計14は、受光光の輝度値を計測する。ゴニ
オステージは、その回転中心を中心とする円周上で、輝度計14を揺動可能に支持する。
輝度計14と表示面3aとの距離dは、表示装置10の装着時における使用者の目の位
置に対応する距離である。例えば、表示装置10がヘッドマウントディスプレイの場合、
dは15mmとされる。
The luminance value of the image display
The measuring
Equipped with
The holding stand holds the
The distance d between the
d is assumed to be 15 mm.
画像表示用導光板6の輝度値は、輝度計14を、揺動角0°の位置(図2における実線
の輝度計14参照)に配置して測定される。表示装置10は、保持台によって、表示面3
aの中心が輝度計14の測定光軸上で輝度計14と対向する位置に配置される。
輝度値は、表示装置10に最大輝度の白色画像を表示させたときに輝度計14で測定さ
れる輝度である。
輝度値は、1000nit以上が好ましく、1200nit以上がより好ましい。
The brightness value of the image display
The center of a is placed at a position facing the
The brightness value is the brightness measured by the
The brightness value is preferably 1000 nits or more, more preferably 1200 nits or more.
以下、本発明を実施例及び製造例によってより具体的に説明する。本発明はこれら実施
例及び製造例により制限されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples and Production Examples. The present invention is not limited to these Examples and Production Examples.
[実施例1]
樹脂基材の材料としては、PMMA(三菱ケミカル社製「アクリライト(登録商標)」
)を用いる。樹脂基材は、幅60mm×長さ60mm×厚み1mmの矩形板とする。
[Example 1]
The material for the resin base material is PMMA (“Acrylite (registered trademark)” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).
) is used. The resin base material is a rectangular plate with a width of 60 mm, a length of 60 mm, and a thickness of 1 mm.
[基板準備工程]
基板準備工程では、樹脂基材の洗浄及び乾燥を行う。
樹脂基材は、中性洗浄剤であるセミクリーン(登録商標)M-LO(商品名;横浜油脂
工業株式会社製)の5%界面活性剤水溶液に浸漬させた状態で5分間超音波洗浄する。
この後、樹脂基材は、超純水に浸漬させた状態で5分間超音波洗浄する。さらに、超純
水による樹脂基材のすすぎを行い、樹脂基材は風乾後に80℃のオーブンで窒素雰囲気下
にて乾燥する。この後、風乾した評価サンプルBは、UVオゾン洗浄機にて1分間、UV
オゾン洗浄する。
以上で、基板準備工程が終了する。
[Substrate preparation process]
In the substrate preparation step, the resin base material is cleaned and dried.
The resin base material is ultrasonically cleaned for 5 minutes while immersed in a 5% surfactant aqueous solution of Semi-Clean (registered trademark) M-LO (trade name; manufactured by Yokohama Yushi Kogyo Co., Ltd.), which is a neutral cleaning agent. .
Thereafter, the resin base material is ultrasonically cleaned for 5 minutes while immersed in ultrapure water. Furthermore, the resin base material is rinsed with ultrapure water, and after air drying, the resin base material is dried in an oven at 80° C. under a nitrogen atmosphere. After that, the air-dried evaluation sample B was exposed to UV ozone for 1 minute in a UV ozone cleaner.
Clean with ozone.
With this, the substrate preparation process is completed.
[有機材料層形成工程]
有機材料層形成工程では、樹脂基材の表面に有機材料層を形成する。
紫光7600B(三菱ケミカル株式会社製、イソホロンジイソシアネート/ペンタエリ
スリトールトリアクリレート)100質量部に対して開始剤としてOmnirad184
(IGM Resins社製)を4質量部、レベリング剤としてポリフローKL402(
シリコーン系レベリング剤、共栄社化学製)を0.1質量部加え、MEK(メチルエチルケ
トン、三協化学製)とPGM(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、三協
化学製)を質量比で7:3に混合した混合溶媒で固形分40質量%となるように調整し有
機材料層用配合液を得た。上記配合液を基材樹脂へバーコーターを用いて塗布し、高圧水
銀ランプ(積算光量:500mJ/cm2)を照射して、硬化後の厚みが5μmとなるよ
うに有機材料層を形成する。
以上で、有機材料層形成工程が終了する。
[Organic material layer formation process]
In the organic material layer forming step, an organic material layer is formed on the surface of the resin base material.
Omnirad 184 as an initiator to 100 parts by mass of Shiko 7600B (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, isophorone diisocyanate/pentaerythritol triacrylate)
(manufactured by IGM Resins) and Polyflow KL402 (manufactured by IGM Resins) as a leveling agent.
0.1 part by mass of a silicone leveling agent (manufactured by Kyoeisha Chemical) was added, and MEK (methyl ethyl ketone, manufactured by Sankyo Chemical) and PGM (propylene glycol monomethyl ether acetate, manufactured by Sankyo Chemical) were mixed at a mass ratio of 7:3. A mixed solvent was used to adjust the solid content to 40% by mass to obtain a liquid mixture for an organic material layer. The above-mentioned liquid mixture is applied to the base resin using a bar coater, and irradiated with a high-pressure mercury lamp (integrated light amount: 500 mJ/cm 2 ) to form an organic material layer having a thickness of 5 μm after curing.
With this, the organic material layer forming process is completed.
[無機材料層形成工程]
無機材料層形成工程では、上記有機材料層の表面に無機材料層を形成する。
有機材料層を形成した樹脂基材が真空蒸着装置に配置された後、珪素酸化物の真空蒸着
を行う。真空蒸着装置のチャンバーの到達真空度は、1.0×10-4Torrとする。
この真空下、高周波誘導加熱方式により純度99.9%の一酸化珪素を加熱蒸発させて、
有機材料層の表面に、厚み100nmの珪素酸化物薄膜を成膜する。
以上で、無機材料層形成工程が終了し、中間体1が得られた。
本操作により、基材樹脂へ有機材料層及び無機材料層をこの順で形成したものを「中間
体」と呼ぶ。
[Inorganic material layer formation process]
In the inorganic material layer forming step, an inorganic material layer is formed on the surface of the organic material layer.
After the resin base material on which the organic material layer is formed is placed in a vacuum evaporation apparatus, silicon oxide is vacuum evaporated. The ultimate vacuum degree of the chamber of the vacuum evaporation apparatus is 1.0×10 −4 Torr.
Under this vacuum, silicon monoxide with a purity of 99.9% is heated and evaporated using a high-frequency induction heating method.
A silicon oxide thin film with a thickness of 100 nm is formed on the surface of the organic material layer.
With this, the inorganic material layer forming step was completed, and intermediate 1 was obtained.
A product obtained by forming an organic material layer and an inorganic material layer in this order on a base resin by this operation is called an "intermediate".
[実施例2]
実施例2は、有機材料層に含まれるレベリング剤であるポリフローKL402の添加量
を0.3質量部としたこと以外は、実施例1と同様の操作で中間体2を得た。
[Example 2]
In Example 2, Intermediate 2 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the added amount of Polyflow KL402, which is a leveling agent contained in the organic material layer, was 0.3 parts by mass.
[実施例3]
実施例3は、有機材料層に含まれるレベリング剤であるポリフローKL402の添加量
を0.5質量部としたこと以外は、実施例1と同様の操作で中間体3を得た。
[Example 3]
In Example 3,
[実施例4]
実施例4は、有機材料層に含まれるレベリング剤をメガファックRS75(フッ素系、
DIC社製)0.1質量部としたこと以外は、実施例1と同様の操作で中間体4を得た。
[Example 4]
In Example 4, the leveling agent contained in the organic material layer was Megafac RS75 (fluorine-based,
Intermediate 4 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the amount was 0.1 part by mass (manufactured by DIC).
[実施例5]
実施例5は、有機材料層に含まれるレベリング剤をメガファックRS75(フッ素系、
DIC社製)0.3質量部としたこと以外は、実施例1と同様の操作で中間体5を得た。
[Example 5]
In Example 5, the leveling agent contained in the organic material layer was Megafac RS75 (fluorine-based,
Intermediate 5 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the amount was 0.3 parts by mass (manufactured by DIC).
[実施例6]
実施例6は、有機材料層に含まれるレベリング剤をメガファックRS75(フッ素系、
DIC社製)0.5質量部としたこと以外は、実施例1と同様の操作で中間体6を得た。
[Example 6]
In Example 6, the leveling agent contained in the organic material layer was Megafac RS75 (fluorine-based,
Intermediate 6 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the amount was 0.5 parts by mass (manufactured by DIC).
[比較例1]
比較例1は、有機材料層に含まれるレベリング剤を添加しなかったこと以外は、実施例
1と同様の操作で中間体7を得た。
[Comparative example 1]
In Comparative Example 1, Intermediate 7 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the leveling agent contained in the organic material layer was not added.
[比較例2]
比較例2は、有機材料層に含まれるレベリング剤をポリフローPF75(アクリル系、
共栄社化学社製)0.5質量部としたこと以外は、実施例1と同様の操作で中間体8を得
た。
[Comparative example 2]
In Comparative Example 2, the leveling agent contained in the organic material layer was Polyflow PF75 (acrylic,
Intermediate 8 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the amount was 0.5 parts by mass (manufactured by Kyoeisha Kagaku Co., Ltd.).
[比較例3]
比較例2は、有機材料層に含まれるレベリング剤をBYK361N(アクリル系、BY
K社製)0.5質量部としたこと以外は、実施例1と同様の操作で中間体9を得た。
[Comparative example 3]
In Comparative Example 2, the leveling agent contained in the organic material layer was BYK361N (acrylic type, BY
Intermediate 9 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the amount was 0.5 parts by mass (manufactured by Company K).
<湿熱耐久試験>
湿熱耐久試験は、小型環境試験器SH-241(商品名;エスペック株式会社製)を用い
て、上記中間体を85℃、85%RH、の条件下500時間保持した。
<Moist heat durability test>
In the moist heat durability test, the above intermediate was held at 85° C. and 85% RH for 500 hours using a small environmental tester SH-241 (trade name; manufactured by ESPEC Co., Ltd.).
<ヘーズの測定>
ヘーズ測定は日本電色工業社製のヘーズメーターNDH7000IIを用いて上記中間体
を評価し、湿熱試験前後のヘーズ差(Δヘーズ)を算出した。
<Measurement of haze>
For haze measurement, the intermediate was evaluated using a haze meter NDH7000II manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd., and the haze difference (Δ haze) before and after the moist heat test was calculated.
<二重結合の有無>
レベリング剤の二重結合の有無は、メーカーより提示されている分子構造より存在有無
を判断した。
<Presence or absence of double bond>
The presence or absence of double bonds in the leveling agent was determined based on the molecular structure provided by the manufacturer.
各実施例及び各比較例の構成及び測定結果を表1に示す。 Table 1 shows the configuration and measurement results of each Example and each Comparative Example.
<評価結果>
表1に示すように、実施例1~6の湿熱試験前後のヘーズ変化([表1]では「ヘーズ
上昇」)は0.1以下であり、湿熱安定性に優れていると判定できる。これに対して、比
較例1、2及び3の湿熱試験前後のヘーズ変化は、0.1を超えており、いずれも湿熱安
定性に優れていないと判定できる。
この理由は、実施例1~6では、ハードコート層である多官能アクリレートに対しレベ
リング剤が化学的に結合することで、湿熱環境においても表面にレベリング剤がブリード
することがなく、ヘーズの上昇を抑制できたためと言える。
これに対して、比較例1~3ではヘーズ上昇が大きく、特に比較例2及び3では、表面
にレベリング剤のブリードが起こり、著しいヘーズの上昇が引き起こされている。
<Evaluation results>
As shown in Table 1, the haze change (“haze increase” in [Table 1]) before and after the heat-and-moisture test for Examples 1 to 6 was 0.1 or less, and it can be determined that the samples had excellent heat-and-moisture stability. On the other hand, the haze changes before and after the heat-and-moisture test of Comparative Examples 1, 2, and 3 exceeded 0.1, and it can be determined that none of them had excellent heat-and-moisture stability.
The reason for this is that in Examples 1 to 6, the leveling agent is chemically bonded to the polyfunctional acrylate that is the hard coat layer, so the leveling agent does not bleed to the surface even in a moist heat environment, resulting in an increase in haze. This can be said to be because it was able to suppress the
On the other hand, in Comparative Examples 1 to 3, the increase in haze was large, and in Comparative Examples 2 and 3 in particular, bleeding of the leveling agent occurred on the surface, causing a significant increase in haze.
次に、上記の各中間体を用いた画像表示用導光板の実施例を説明する。画像表示用導光
板は、以下に説明する導光板作製工程を行うことによって製造できる。
Next, examples of light guide plates for image display using each of the above-mentioned intermediates will be described. The image display light guide plate can be manufactured by performing the light guide plate manufacturing process described below.
[実施例7]
実施例7は、中間体1を用い、実施形態の画像表示用導光板6を作製するものである。
なお、ホログラム層3用の感光材料としては、ビスフェノール系エポキシ樹脂jER(
登録商標)1007(重合度n=10.8、エポキシ当量:1750-2200、三菱ケ
ミカル製)100質量部、トリエチレングリコールジアクリレート50質量部及び4、4
’-ビス(tert-ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート5質
量部、3,3’-カルボニルビス(7-ジエチルアミノ)クマリン0.5質量部を2-ブ
タノン100質量部に混合溶解したもの(以下、「感光材料A」ともいう)が用いられる
。
[Example 7]
In Example 7, the image display
The photosensitive material for the
(registered trademark) 1007 (degree of polymerization n = 10.8, epoxy equivalent: 1750-2200, manufactured by Mitsubishi Chemical) 100 parts by mass, 50 parts by mass of triethylene glycol diacrylate, and 4,4
A mixture of 5 parts by mass of '-bis(tert-butylphenyl)iodonium hexafluorophosphate and 0.5 parts by mass of 3,3'-carbonylbis(7-diethylamino)coumarin dissolved in 100 parts by mass of 2-butanone (hereinafter referred to as , also referred to as "photosensitive material A").
[導光板作製工程]
実施例7の導光板作製工程では、中間体1を2枚用いて画像表示用導光板6が製造され
る。
一方の中間体の保護層の周縁部に、幅5mm、厚み5μmのシール層が塗布される。
シール層は、透明材料からなり、中間体の保護層同士を互いに接着できる材料であれば
、特に限定されないが、実施例7では、光接着剤ハードロック(登録商標)OP-104
5K(商品名;デンカ株式会社製)が用いられる。
これにより、シール層で囲まれた開口部が50mm×50mmの大きさを有するシール
層段差付き中間基材が準備される。
この後、この中間基材上に、ホログラム用フォトポリマー材料として前記の感光材料A
がスピンコートによって塗布される。感光材料は、乾燥後の厚みが5μmになるように塗
布される。
この後、他方の中間基材を、その保護層がシール層付きの中間基材の保護層と対向する
ように、シール層及び感光材料上に積層し、減圧下にてプレス貼合する。プレス貼合の条
件は、絶対圧5kPa、温度70℃、プレス圧0.04MPaである。
この後、プレス貼合された積層体の感光材料に回折格子を記録する。この工程では、積
層体の温度が20℃に保たれる。回折格子は、積層体に、2つのレーザー光を照射し、そ
れぞれの照射角度や強度を調整することで、必要な回折パターンが形成されるように干渉
縞を形成する。これにより、感光材料に回折格子が記録される。
具体的な回折格子としては、入射部に入射した画像光として入射された赤色、緑色、青
色の波長領域の各光を回折して、画像光の画素に対応する位置において、表示部から出射
させるカラー表示用回折格子が形成される。
この後、積層体を20℃に保った状態で、紫外光(波長365nm、放射照度80W/
cm2)を積層体の片面の方向から30秒間全面照射する。紫外光の光源としては、高圧
水銀ランプが用いられる。
これにより、シール層が硬化し、実施例7の画像表示用導光板6が作製される。
[Light guide plate production process]
In the light guide plate manufacturing process of Example 7, the image display
A sealing layer having a width of 5 mm and a thickness of 5 μm is applied to the peripheral edge of the protective layer of one of the intermediates.
The sealing layer is made of a transparent material, and is not particularly limited as long as it can bond the intermediate protective layers to each other. In Example 7, the optical adhesive Hardrock (registered trademark) OP-104 was used.
5K (trade name; manufactured by Denka Corporation) is used.
As a result, an intermediate base material with a seal layer step is prepared in which the opening surrounded by the seal layer has a size of 50 mm x 50 mm.
After that, the above-mentioned photosensitive material A is applied as a photopolymer material for hologram on this intermediate base material.
is applied by spin coating. The photosensitive material is applied so that the thickness after drying is 5 μm.
Thereafter, the other intermediate base material is laminated on the seal layer and the photosensitive material so that its protective layer faces the protective layer of the intermediate base material with the seal layer, and press laminated under reduced pressure. The conditions for press bonding are an absolute pressure of 5 kPa, a temperature of 70° C., and a press pressure of 0.04 MPa.
Thereafter, a diffraction grating is recorded on the photosensitive material of the press-bonded laminate. In this step, the temperature of the laminate is maintained at 20°C. In the diffraction grating, interference fringes are formed by irradiating a stacked body with two laser beams and adjusting the irradiation angle and intensity of each laser beam so that a necessary diffraction pattern is formed. As a result, a diffraction grating is recorded on the photosensitive material.
A specific diffraction grating is a diffraction grating that diffracts each light in the red, green, and blue wavelength range that is incident as image light into the incident part, and emits it from the display part at the position corresponding to the pixel of the image light. A color display diffraction grating is formed.
After that, while the laminate was kept at 20°C, ultraviolet light (wavelength 365 nm, irradiance 80 W/
cm 2 ) is irradiated over the entire surface of the laminate for 30 seconds from one side. A high-pressure mercury lamp is used as the ultraviolet light source.
Thereby, the sealing layer is cured, and the image display
[実施例8]
実施例8は、中間体2を用い、実施形態の画像表示用導光板6を作製するものである。
中間体2を用いること以外は実施例7と同様にして、実施例8の画像表示用導光板6が作
製される。
[Example 8]
Example 8 uses the intermediate body 2 to produce the image display
The image display
[実施例9]
実施例9は、中間体3を用い、実施形態の画像表示用導光板6を作製するものである。
中間体3を用いること以外は実施例7と同様にして、実施例9の画像表示用導光板6が作
製される。
[Example 9]
In Example 9, the
The image display
[実施例10]
実施例10は、中間体4を用い、実施形態の画像表示用導光板6を作製するものである
。中間体4を用いること以外は実施例7と同様にして、実施例10の画像表示用導光板6
が作製される。
[Example 10]
Example 10 uses the intermediate body 4 to produce the image display
is produced.
[実施例11]
実施例11は、中間体5を用い、実施形態の画像表示用導光板6を作製するものである
。中間体5を用いること以外は実施例7と同様にして、実施例11の画像表示用導光板6
が作製される。
[Example 11]
Example 11 uses the intermediate body 5 to produce the image display
is produced.
[実施例12]
実施例12は、中間体6を用い、実施形態の画像表示用導光板6を作製するものである
。中間体6を用いること以外は実施例7と同様にして、実施例12の画像表示用導光板6
が作製される。
[Example 12]
Example 12 uses the
is created.
[比較例4]
比較例4は、中間体7を用いて画像表示用導光板を作製するものである。中間体1の代
わりに中間体7を用いること以外は実施例7と同様にして、比較例4の画像表示用導光板
6が作製される。
[Comparative example 4]
In Comparative Example 4, an image display light guide plate is manufactured using Intermediate 7. An image display
[比較例5]
比較例5は、中間体8を用いて画像表示用導光板を作製するものである。中間体8を用
いること以外は実施例7と同様にして、比較例5の画像表示用導光板が作製される。
[Comparative example 5]
In Comparative Example 5, a light guide plate for image display is produced using Intermediate 8. An image display light guide plate of Comparative Example 5 is produced in the same manner as in Example 7 except that intermediate 8 is used.
[比較例6]
比較例6は、中間体9を用いて画像表示用導光板を作製するものである。中間体9を用
いること以外は実施例7と同様にして、比較例6の画像表示用導光板が作製される。
[Comparative example 6]
In Comparative Example 6, a light guide plate for image display is manufactured using Intermediate 9. An image display light guide plate of Comparative Example 6 is produced in the same manner as in Example 7 except that intermediate 9 is used.
<評価方法>
次に、各製造例の評価方法について説明する。評価としては、表示画像の鮮明性評価が
行われる。
<Evaluation method>
Next, the evaluation method for each manufacturing example will be explained. The evaluation is performed by evaluating the clarity of the displayed image.
[表示画像の鮮明性評価]
表示画像の鮮明性の測定用サンプルとして、湿熱試験を行わないサンプル(表2では「
初期」)を準備する。測定用サンプルの鮮明性の測定は、実施形態において上述した測定
方法に基づいて行われる。各測定用サンプルは、それぞれ上述の表示装置に組み立てられ
る。
表示画像の鮮明性の評価は、輝度計BM-8(商品名;株式会社トプコン製)が用いら
れる。
評価に用いる入力画像としては、白色画像と文字表示画像とが用いられる。
評価は、白色画像と文字表示画像との見え方を目視で判定することにより行われる。文
字画像としては、10mm×100mm内の「ABCDE」が表示される。
白色画像において虹色が見えず、文字表示画像において、文字がはっきり見える場合、
鮮明性良好で表示画像に問題なし(表2では「A」と記載)と判定する。
文字ははっきり見えるが、白色画像において虹色が見える場合、表示画像は使用可能で
あるが画質は劣る(表2では「B」と記載)と判定する。
白色画像において虹色が見え、かつ文字表示画像において、文字の輪郭がぼやけて見え
る場合、表示画像は使用不可(表2では「C」と記載)と判定する。
該測定用サンプルについて上記に示す湿熱耐久試験を行った後、同様の鮮明性の評価を
行う(表2では「湿熱耐久試験後」と記載)。
[Evaluation of clarity of displayed image]
As samples for measuring the clarity of displayed images, samples that were not subjected to a moist heat test (in Table 2,
Prepare "Initial"). The sharpness of the measurement sample is measured based on the measurement method described above in the embodiment. Each measurement sample is assembled into the above-mentioned display device.
A luminance meter BM-8 (trade name; manufactured by Topcon Co., Ltd.) is used to evaluate the clarity of the displayed image.
A white image and a character display image are used as input images for evaluation.
The evaluation is performed by visually determining how the white image and character display image appear. As the character image, "ABCDE" within 10 mm x 100 mm is displayed.
If the rainbow colors are not visible in the white image and the characters are clearly visible in the character display image,
It is determined that the clarity is good and there is no problem with the displayed image (denoted as "A" in Table 2).
If the characters are clearly visible but rainbow colors are visible in the white image, it is determined that the displayed image is usable but the image quality is poor (denoted as "B" in Table 2).
If a rainbow color appears in the white image and the outline of the character appears blurred in the character display image, the display image is determined to be unusable (denoted as "C" in Table 2).
After conducting the above-mentioned heat and humidity durability test on the measurement sample, the same evaluation of sharpness is performed (described as "after the heat and humidity durability test" in Table 2).
下記表2に各実施例、比較例の評価結果を示す。 Table 2 below shows the evaluation results of each example and comparative example.
<評価結果>
表2に示すように、実施例7~12の表示画像の鮮明性は、初期、湿熱耐久試験後のい
ずれの場合においても良好であり、表示画像に問題なしと判定できる。これに対して、比
較例4~6表示画像の鮮明性は、各実施例よりも劣ると判定できる。
<Evaluation results>
As shown in Table 2, the clarity of the displayed images of Examples 7 to 12 was good both at the initial stage and after the wet heat durability test, and it can be determined that there were no problems with the displayed images. On the other hand, the clarity of the images displayed in Comparative Examples 4 to 6 can be determined to be inferior to each of the Examples.
以上、本発明の好ましい実施形態、及び実施例を説明したが、本発明はこれらの実施形
態、及び実施例に限定されることはない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、構成の付加
、省略、置換、及びその他の変更が可能である。
また、本発明は前述した説明によって限定されることはなく、添付の特許請求の範囲に
よってのみ限定される。
Although preferred embodiments and examples of the present invention have been described above, the present invention is not limited to these embodiments and examples. Additions, omissions, substitutions, and other changes to the configuration are possible without departing from the spirit of the present invention.
Moreover, the invention is not limited by the foregoing description, but only by the scope of the appended claims.
本発明の画像表示用導光板は、湿熱環境においてもヘーズ上昇が抑制され、鮮明な画像
を保持できるため、例えば、VR、ARアプリケーションの表示装置用途に有用である。
例えば、本発明の画像表示用導光板は、ヘッドアップディスプレイ、ウェアラブルディス
プレイ、ヘッドマウントディスプレイなど表示装置用途に有用である。
The image display light guide plate of the present invention suppresses haze increase even in a humid heat environment and can maintain a clear image, so it is useful for display devices in VR and AR applications, for example.
For example, the image display light guide plate of the present invention is useful for display devices such as head-up displays, wearable displays, and head-mounted displays.
1 第1樹脂基材
22 第1保護層
3 ホログラム層
3a 表示面
3b 導波回析格子部
3c 表示用回析格子部
24 第2保護層
5 第2樹脂基材
6 画像表示用導光板
6a 入射部
6d 表示部
10 表示装置
12 入射光学系
13 画像光投影部
14 輝度計
15 測定装置
22A 第1有機材料層
22B 第1無機材料層
24A 第2有機材料層
24B 第2無機材料層
1 First resin base material 22 First
Claims (9)
リル系樹脂を含有する第1保護層と、ホログラム層とが厚み方向においてこの順に配置さ
れる画像表示用導光板であって、前記第1保護層の85℃かつ85%RHの環境下におけ
る500時間後のヘーズ上昇が0.1%以下である、画像表示用導光板。 A guide for image display in which a first resin base material, a first protective layer containing a (meth)acrylic resin containing repeating units derived from polyfunctional (meth)acrylate, and a hologram layer are arranged in this order in the thickness direction. A light guide plate for image display, wherein the first protective layer has a haze increase of 0.1% or less after 500 hours in an environment of 85° C. and 85% RH.
に1つ以上の二重結合を有する化合物とを含む(メタ)アクリル系樹脂組成物の硬化物で
ある第1有機材料層を備える、請求項1に記載の画像表示用導光板。 The first protective layer is a cured product of a (meth)acrylic resin composition containing a matrix resin component containing a polyfunctional (meth)acrylate and a compound having one or more double bonds in the molecule. The light guide plate for image display according to claim 1, comprising an organic material layer.
ス樹脂成分100質量部に対して、0.01質量部以上2質量部以下である、請求項3に
記載の画像表示用導光板。 The image according to claim 3, wherein the content of the leveling agent in the (meth)acrylic resin composition is 0.01 parts by mass or more and 2 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the matrix resin component. Light guide plate for display.
に記載の画像表示用導光板。 The light guide plate for image display according to any one of claims 1 to 4, wherein the first protective layer has a thickness of 1 μm or more and 15 μm or less.
載の画像表示用導光板。 The image display light guide plate according to claim 1, wherein the first protective layer further includes a first inorganic material layer.
アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化酸化アルミニウム及び硫化アルミニウムからなる
群から選択される少なくとも1種の無機材料を含む、請求項1~6のいずれか1項に記載
の画像表示用導光板。 The first inorganic material layer includes at least one inorganic material selected from the group consisting of silicon oxide, silicon nitride, silicon nitride oxide, silicon sulfide, aluminum oxide, aluminum nitride, aluminum nitride oxide, and aluminum sulfide. The image display light guide plate according to any one of items 1 to 6.
ずれか1項に記載の画像表示用導光板。 The light guide plate for image display according to any one of claims 1 to 7, wherein the first inorganic material layer has a thickness of 50 nm or more and 5000 nm or less.
れか1項に記載の画像表示用導光板。 The light guide plate for image display according to any one of claims 1 to 8, wherein the hologram layer is made of a single or volume hologram material.
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