JP2020503563A

JP2020503563A - Optical film and manufacturing method thereof

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Publication number: JP2020503563A
Application number: JP2019536042A
Authority: JP
Inventors: ▲ビン▼剛郭
Original assignee: 深▲せん▼市光科全息技術有限公司
Priority date: 2016-12-26
Filing date: 2017-04-17
Publication date: 2020-01-30
Anticipated expiration: 2037-04-17
Also published as: CN106772747A; CN106772747B; JP6760678B2; WO2018120521A1

Abstract

本発明は光学フィルム及びその製造方法を提供する。光学フィルムは、基材１０、基材１０上に交互に設置された誘電体層１２及び粒子層１１を含み、そのうち、粒子層１１は複数の粒子１１１を含み、粒子１１１の間隔の取り得る値の範囲はλ１／８からλ１／２であり、誘電体層１２の光学的厚さの取り得る値の範囲はλ２／８からλ２／２であり、且つ粒子層１１の屈折率は誘電体層１２の屈折率より大きいか又は小さい。光学フィルムは、１つの中心波長又は２つの中心波長の光を強く反射でき、同時に他の波長帯域の光波に影響を与えず、狭帯域フィルタリングを実現することができる。【選択図】図１The present invention provides an optical film and a method for manufacturing the same. The optical film includes a substrate 10, a dielectric layer 12 and a particle layer 11 alternately provided on the substrate 10, wherein the particle layer 11 includes a plurality of particles 111, and the value of the distance between the particles 111 can be taken. Is from λ1 / 8 to λ1 / 2, the range of possible values of the optical thickness of the dielectric layer 12 is from λ2 / 8 to λ2 / 2, and the refractive index of the particle layer 11 is Greater than or less than 12 refractive indices. The optical film can strongly reflect light having one center wavelength or two center wavelengths, and at the same time, can achieve narrow band filtering without affecting light waves in other wavelength bands. [Selection diagram] Fig. 1

Description

本発明は、光学フィルムの技術分野に属し、詳しくは、光学フィルム及びその製造方法に関する。 The present invention belongs to the technical field of optical films, and more particularly, to an optical film and a method for manufacturing the same.

光学素子の光波又はある特定波長の光波に対する反射率を増加させるために、通常、光学素子の表面に光学フィルムが貼り付けられるか又は１層の光学フィルムがめっきされる。光学フィルムの作用により光波又はある特定波長の光波に対する強い反射が実現され、即ち光波又はある特定波長の光波に対するフィルタリング機能が実現する。例えば、携帯電話内のＬＥＤ光源から発せられた高エネルギーの青色光を反射し、即ち高エネルギーの青色光をカットし、携帯電話のスクリーンを透過する青色光を大幅に減少させるアンチブルーレイフィルムを、携帯電話のスクリーンに貼り付けることで、青色光による目への傷害を減らすという目的が達成される。 In order to increase the reflectivity of the optical element for light waves or light waves of a specific wavelength, an optical film is usually attached to the surface of the optical element or a single layer of optical film is plated. By the action of the optical film, strong reflection is realized for the light wave or the light wave of a specific wavelength, that is, a filtering function for the light wave or the light wave of a specific wavelength is realized. For example, an anti-Blu-ray film that reflects high-energy blue light emitted from an LED light source in a mobile phone, that is, cuts high-energy blue light and greatly reduces blue light transmitted through a mobile phone screen, Affixing to a mobile phone screen achieves the goal of reducing blue light injury to the eyes.

既存の光学フィルムは、一般に、高屈折率と低屈折率とを交互に有する誘電体層からなり、ある特定波長の光波に対して強い反射作用を果たすことができる。しかし、既存の光学フィルムは、特定波長の光波を反射するとき、該特定波長の光波に近い他の波長の光波を部分的に反射する傾向がある。即ち該光学フィルムは該特定波長の光波に対する広いフィルタリング帯域幅を有するので、光学フィルムを通過して出射された光線の色に偏りがあり、表示効果に深刻な影響を及ぼす。 Existing optical films are generally composed of a dielectric layer having alternately high and low refractive indices, and can exert a strong reflection effect on light waves of a certain specific wavelength. However, when an existing optical film reflects a light wave of a specific wavelength, it tends to partially reflect a light wave of another wavelength close to the light wave of the specific wavelength. That is, since the optical film has a wide filtering bandwidth for the light wave of the specific wavelength, the color of the light beam emitted through the optical film is biased, which seriously affects the display effect.

本発明の実施例の目的は、光学フィルム及びその製造方法を提供して、従来技術における光学フィルムの広いフィルタリング帯域幅などの技術的問題に対処することである。 It is an object of embodiments of the present invention to provide an optical film and a method of manufacturing the same to address technical problems such as the wide filtering bandwidth of the optical film in the prior art.

本発明の好ましい実施例は光学フィルムを提供し、該光学フィルムは、ある波長帯域の光を反射するために用いられ、基材、前記基材上に交互に設置された誘電体層及び粒子層を含み、前記粒子層は複数の粒子を含み、前記粒子の間隔の取り得る値の範囲はλ_１／８からλ_１／２であり、前記誘電体層の光学的厚さの取り得る値の範囲はλ_２／８からλ_２／２であり、且つ前記粒子層の屈折率は前記誘電体層の屈折率より大きいか又は小さく、ここで、λ_１及びλ_２はそれぞれ第１の波長帯域の光の中心波長及び第２の波長帯域の光の中心波長である。 A preferred embodiment of the present invention provides an optical film, which is used to reflect light in a certain wavelength band, a substrate, a dielectric layer and a particle layer alternately disposed on the substrate. hints, the particle layer includes a plurality of particles, the range of possible values of the interval of the particles is lambda _1/2 from lambda _1/8, the optical thickness of the possible values of the dielectric layer range is lambda _2/2 from lambda _2/8, and the refractive index of the particle layer is greater or smaller than the refractive index of said dielectric layer, wherein, lambda ₁ and lambda ₂ are a first wavelength band respectively And the center wavelength of light in the second wavelength band.

本発明の好ましい実施例に記載の光学フィルムにおいて、前記第１の波長帯域の光の中心波長λ_１は第２の波長帯域の光の中心波長λ_２に等しい。 In the optical film according to a preferred embodiment of the present invention, the center wavelength lambda ₁ of the light of the first wavelength band is equal to the center wavelength lambda ₂ of the light of the second wavelength band.

本発明の好ましい実施例に記載の光学フィルムにおいて、前記基材と接触する層は前記粒子層であり、前記基材から遠い最外層は前記粒子層又は前記誘電体層である。 In the optical film according to a preferred embodiment of the present invention, the layer in contact with the substrate is the particle layer, and the outermost layer far from the substrate is the particle layer or the dielectric layer.

本発明の好ましい実施例に記載の光学フィルムにおいて、前記基材と接触する層は前記誘電体層であり、前記基材から遠い最外層は前記粒子層又は前記誘電体層である。 In the optical film according to the preferred embodiment of the present invention, the layer in contact with the substrate is the dielectric layer, and the outermost layer far from the substrate is the particle layer or the dielectric layer.

本発明の好ましい実施例に記載の光学フィルムにおいて、前記粒子の直径はλ_１／４より小さい。 In the optical film according to a preferred embodiment of the present invention, the diameter of the particles lambda _1/4 less.

本発明の好ましい実施例に記載の光学フィルムにおいて、前記第１の波長帯域の光の中心波長λ_１及び第２の波長帯域の光の中心波長λ_２の取り得る値の範囲は１００ナノメートル〜２０００マイクロメートルである。 In a preferred optical film according to an embodiment of the present invention, the first center wavelength lambda ₁ and the second range of the center wavelength lambda ₂ of the possible values of the light in the wavelength band of light in the wavelength band from 100 nanometers to 2000 micrometers.

本発明の好ましい実施例に記載の光学フィルムにおいて、前記粒子及び前記誘電体層に使用される材料は酸化マグネシウム、酸化イットリウム、硫化亜鉛、セレン化亜鉛、ガリウムヒ素、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、アルミナ、ＳｉＯ_ｘ、ＴｉＯ_ｘ及び／又はＮｂＯ_ｘを含む。 In the optical film according to the preferred embodiment of the present invention, the material used for the particles and the dielectric layer is magnesium oxide, yttrium oxide, zinc sulfide, zinc selenide, gallium arsenide, magnesium fluoride, calcium fluoride, _alumina, including SiO x, TiO _x and / or NbO _x.

本発明の好ましい実施例に記載の光学フィルムにおいて、前記基材は金属基材、ガラス基材、石英基材、ゴム基材又はプラスチック基材を含む。 In the optical film according to the preferred embodiment of the present invention, the substrate includes a metal substrate, a glass substrate, a quartz substrate, a rubber substrate, or a plastic substrate.

本発明の好ましい実施例はさらに光学フィルムの製造方法を提供し、光学フィルムは、
基材と、
前記基材上に交互に製造された誘電体層及び粒子層と、を含み、
前記粒子層は複数の粒子を含み、前記粒子の間隔の取り得る値の範囲はλ_１／８からλ_１／２であり、前記誘電体層の光学的厚さの取り得る値の範囲はλ_２／８からλ_２／２であり、且つ前記粒子層の屈折率は前記誘電体層の屈折率より大きいか又は小さく、ここで、λ_１及びλ_２はそれぞれ第１の波長帯域の光の中心波長及び第２の波長帯域の光の中心波長である。 Preferred embodiments of the present invention further provide a method for producing an optical film, wherein the optical film comprises:
A substrate,
And a dielectric layer and a particle layer alternately manufactured on the base material,
The particle layer may include a plurality of particles, the range of possible values of the interval of the particles is lambda _1/2 from lambda _1/8, the range of the optical thickness of the possible values of the dielectric layer is lambda is from _{_2/8 λ 2/2,} and the refractive index of the particle layer is greater or smaller than the refractive index of said dielectric layer, wherein, lambda ₁ and lambda ₂ is in the light of the first wavelength band respectively The center wavelength and the center wavelength of light in the second wavelength band.

本発明の好ましい実施例に記載の光学フィルムの製造方法において、誘電体層及び粒子層を交互に製造するために採用される方法は、真空成膜プロセス、ゾル−ゲル薄膜成膜プロセス及び／又は自己組織化薄膜成膜プロセスを含み、前記真空成膜プロセスは物理／化学気相成長、真空蒸着、マグネトロンスパッタリング、イオンプレーティング、エピタキシャル成長を含み、前記粒子の間隔の精度誤差は前記粒子の間隔の５％以下であり、前記光学的厚さの精度誤差は前記光学的厚さの５％以下である。 In the method for manufacturing an optical film according to the preferred embodiment of the present invention, a method adopted for alternately manufacturing the dielectric layer and the particle layer includes a vacuum film forming process, a sol-gel thin film forming process, and / or Including a self-assembled thin film deposition process, the vacuum deposition process includes physical / chemical vapor deposition, vacuum deposition, magnetron sputtering, ion plating, and epitaxial growth, and the accuracy error of the particle spacing is reduced by the 5% or less, and the accuracy error of the optical thickness is 5% or less of the optical thickness.

本発明の実施例は、従来技術と比べて好ましい光学フィルム及びその製造方法を提供する。該光学フィルムは基材上に誘電体層及び粒子層を交互に設置し、ただし、粒子層は複数の粒子を含み、且つ前記粒子の間隔の取り得る値の範囲はλ_１／８からλ_１／２であり、前記誘電体層の光学的厚さの取り得る値の範囲はλ_２／８からλ_２／２であり、粒子層の屈折率は誘電体層の屈折率より大きいか又は小さく、ここで、λ_１及びλ_２はそれぞれ第１の波長帯域の光の中心波長及び第２の波長帯域の光の中心波長である。該光学フィルムは、他の波長帯域の光波に影響を与えることなく、第１の波長帯域及び第２の波長帯域の光を同時に強く反射でき、即ち第１の波長帯域及び第２の波長帯域の光を同時に狭帯域フィルタリングできる。特に第１の波長帯域の光の中心波長が第２の波長帯域の光の中心波長に等しいとき、特定の波長帯域の光に対する狭帯域フィルタリングが達成され得る。 Embodiments of the present invention provide a preferable optical film and a manufacturing method thereof compared to the prior art. Optical film is placed alternately dielectric layer and particle layer on a substrate, however, the particle layer comprises a plurality of particles, the and scope of the possible values of the interval of the particles lambda _1/8 from lambda ₁ / 2, the range of possible values of the optical thickness of the dielectric layer is lambda _2/2 from lambda _2/8, the refractive index of the particle layer is greater or smaller than the refractive index of the dielectric layer Here, λ ₁ and λ ₂ are the central wavelength of light in the first wavelength band and the central wavelength of light in the second wavelength band, respectively. The optical film can strongly reflect the light of the first wavelength band and the light of the second wavelength band at the same time without affecting the light waves of the other wavelength bands, that is, the first wavelength band and the second wavelength band. Light can be narrow-band filtered at the same time. In particular, when the center wavelength of light in the first wavelength band is equal to the center wavelength of light in the second wavelength band, narrow band filtering for light in a specific wavelength band can be achieved.

本発明の実施例における技術的解決手段についてより明確に説明するために、以下、実施例又は従来技術の記述に対して必要な図面を用いて簡潔に説明するが、当然ながら、以下に記載する図面は本発明の実施例の一部にすぎず、当業者であれば、創造的な労力を要することなく、これらの図面に基づき他の図面に想到し得る。 In order to more clearly describe the technical solutions in the embodiments of the present invention, the embodiments or the description of the related art will be briefly described with reference to the drawings necessary for the description. The drawings are only a part of embodiments of the present invention, and those skilled in the art will be able to conceive of other drawings based on these drawings without creative effort.

本発明の好ましい実施例による第１の光学フィルムの構造模式図である。FIG. 2 is a schematic structural view of a first optical film according to a preferred embodiment of the present invention. 本発明の好ましい実施例による第２の光学フィルムの構造模式図である。FIG. 3 is a schematic structural diagram of a second optical film according to a preferred embodiment of the present invention. 本発明の好ましい実施例による第３の光学フィルムの構造模式図である。FIG. 4 is a schematic structural diagram of a third optical film according to a preferred embodiment of the present invention. 本発明の好ましい実施例による第４の光学フィルムの構造模式図である。FIG. 9 is a schematic structural diagram of a fourth optical film according to a preferred embodiment of the present invention.

以下の記述は、限定するためのものではなく説明するためのものであり、特定のシステム構造、インタフェース、技術のような具体的な詳細を提供することにより、本発明の実施例を深く理解しやすくする。しかしながら、当業者にとって自明であるように、具体的な詳細がない他の実施例においても本発明を実現することができる。その他、公知のシステム、装置、回路及び方法に対する詳細な説明を省略し、これにより不要な詳細が本発明の説明を妨げることを回避する。 The following description is intended to be illustrative rather than restrictive, providing specific details such as particular system structures, interfaces and techniques to provide a thorough understanding of embodiments of the present invention. Make it easier. However, it will be apparent to one skilled in the art that the present invention may be practiced in other embodiments without specific details. In other instances, detailed descriptions of well-known systems, devices, circuits, and methods are omitted so as not to unnecessarily obscure the description of the present invention.

なお、本明細書で参照される図面において、同一の要素には同一の符号が付してある。 In the drawings referred to in this specification, the same elements are denoted by the same reference numerals.

（実施例１）
図１は本発明の好ましい実施例による第１の光学フィルムの構造模式図である。好ましい実施例における光学フィルムは、ある波長帯域の光を反射して、他の波長帯域の光を透過させ、即ちある波長帯域の光をカットし、例えばＬＥＤディスプレイの表面に貼り付けて青色光の透過を減少させるという機能を果たす。また、光波からある特定の波長帯域の光波を選択し、且つ反射により分離し、これによりある特定の波長帯域の光波を得るためにも使用できる。ここでは、好ましい実施例における光学フィルムの具体的な用途について、特に限定しない。 (Example 1)
FIG. 1 is a schematic structural view of a first optical film according to a preferred embodiment of the present invention. The optical film in a preferred embodiment reflects light in a certain wavelength band and transmits light in another wavelength band, that is, cuts light in a certain wavelength band, and is attached to, for example, the surface of an LED display to emit blue light. It serves the function of reducing transmission. Further, it can be used to select a lightwave of a specific wavelength band from the lightwaves and separate them by reflection, thereby obtaining a lightwave of a specific wavelength band. Here, the specific use of the optical film in the preferred embodiment is not particularly limited.

好ましい実施例における光学フィルムは、基材１０、粒子層１１及び誘電体層１２を含む。図１において破線で囲った部分は、粒子層１１であり、粒子層１１は複数の粒子１１１を含む。即ち粒子層１１は基材１０上に分布する複数の粒子１１１からなる。 The optical film in a preferred embodiment includes a substrate 10, a particle layer 11, and a dielectric layer 12. In FIG. 1, a portion surrounded by a broken line is a particle layer 11, and the particle layer 11 includes a plurality of particles 111. That is, the particle layer 11 is composed of a plurality of particles 111 distributed on the substrate 10.

具体的には、図１に示すように、粒子層１１及び誘電体層１２は基材１０上に交互に設置される。基材１０から誘電体層１２に向かう方向において、基材１０と接触する１層目は粒子層１１であり、１層目の粒子層１１上に１層目の誘電体層１２があり、且つ１層目の誘電体層１２が粒子１１１の間の隙間を満たす。１層目の誘電体層１２上に２層目の粒子層１１があり、図１に示す構造を形成するまでこれが繰り返される。 Specifically, as shown in FIG. 1, the particle layers 11 and the dielectric layers 12 are alternately provided on the substrate 10. In the direction from the base material 10 to the dielectric layer 12, the first layer in contact with the base material 10 is the particle layer 11, and the first dielectric layer 12 is on the first particle layer 11, and The first dielectric layer 12 fills the gap between the particles 111. There is a second particle layer 11 on the first dielectric layer 12 and this is repeated until the structure shown in FIG. 1 is formed.

粒子の間隔Ｌの取り得る値の範囲はλ_１／８からλ_１／２であってもよく、誘電体層の光学的厚さの取り得る値の範囲はλ_２／８からλ_２／２であってもよく、且つ粒子層１１の屈折率は誘電体層１２の屈折率より大きいか又は小さい。ただし、λ_１及びλ_２はそれぞれ第１の波長帯域の光の中心波長及び第２の波長帯域の光の中心波長である。図１において、ｄは誘電体層の物理的厚さであり、誘電体層１２を製造するとき、誘電体層１２の物理的厚さｄの公差範囲は正負５ナノメートルである。 Range of possible values of the distance L between the particles may be a lambda _1/2 from λ _1/8, the range of possible values of the optical thickness of the dielectric layer lambda _2/8 from lambda _2/2 And the refractive index of the particle layer 11 is larger or smaller than the refractive index of the dielectric layer 12. Here, λ ₁ and λ ₂ are the central wavelength of light in the first wavelength band and the central wavelength of light in the second wavelength band, respectively. In FIG. 1, d is the physical thickness of the dielectric layer, and when the dielectric layer 12 is manufactured, the tolerance range of the physical thickness d of the dielectric layer 12 is positive or negative 5 nanometers.

一実施例において、粒子の間隔の精度誤差は粒子の間隔の５％以下である。光学的厚さの精度誤差は光学的厚さの５％以下である。 In one embodiment, the accuracy error of the particle spacing is less than 5% of the particle spacing. The accuracy error of the optical thickness is less than 5% of the optical thickness.

実際の用途では、粒子の間隔Ｌの値は誘電体層の光学的厚さより大きくてもよく、誘電体層の光学的厚さより小さくてもよく、誘電体層の光学的厚さに等しくてもよく、本明細書では特に限定されない。該光学フィルムは、他の波長帯域の光波に影響を与えることなく、第１の波長帯域の光の中心波長及び第２の波長帯域の光の中心波長の光を同時に強く反射でき、これにより狭帯域フィルタリングの効果を実現できる。１つの好ましい実施例において、粒子の間隔の値はλ_１／４であり、誘電体層の光学的厚さの値はλ_２／４である。 In practical applications, the value of the spacing L between the particles may be greater than the optical thickness of the dielectric layer, may be less than the optical thickness of the dielectric layer, or may be equal to the optical thickness of the dielectric layer. Well, there is no particular limitation in this specification. The optical film can strongly reflect the central wavelength of the light in the first wavelength band and the central wavelength of the light in the second wavelength band at the same time without affecting the light waves in other wavelength bands. The effect of band filtering can be realized. In one preferred embodiment, the value of the spacing particles is lambda _1/4, the value of the optical thickness of the dielectric layer is λ _2/4.

１つの好ましい実施例において、第１の波長帯域の光の中心波長λ_１は第２の波長帯域の光の中心波長λ_２に等しい。つまり、該光学フィルムは、中心波長がλ_１の光に対して狭帯域フィルタリングを行うために用いられる。例えば、第１の波長帯域の光の中心波長λ_１及び第２の波長帯域の光の中心波長λ_２がいずれも４４０ナノメートルである場合、該光学フィルムは中心波長が４４０ナノメートルの高エネルギーの青色光のみに対して強い反射を行い、即ち高エネルギーの青色光に対して狭帯域フィルタリングを行う。該光学フィルムを携帯電話のスクリーンに貼り付けると、携帯電話内のＬＥＤ光源から発せられた光が光学フィルムに入射すると、光学フィルムはＬＥＤ光源の９０％の高エネルギーの青色光を反射し、即ち大部分の高エネルギーの青色光をカットし、光学フィルムから出射された透過光に約１０％の少量の青色光のみが含まれるようになる。これにより高エネルギーの青色光による目への傷害を減らす。同時に、該光学フィルムは粒子層１１及び誘電体層１２が交互に配置された構造を採用し、且つ粒子の間隔が１１０ナノメートル（λ_１／４）であるため、該光学フィルムが青色光を濾過する帯域幅が狭くなり、これにより青色光をカットすると同時に他の色の光をカットすることを回避し、表示効果を確保しながら、高エネルギーの青色光による目への傷害を減らすことができる。 In one preferred embodiment, the center wavelength λ ₁ of light in the _first wavelength band is equal to the center wavelength λ ₂ of light in the second wavelength band. That is, optical film, the center wavelength is used to perform the narrowband filtering for lambda ₁ light. For example, if the central wavelength lambda ₂ of the first wavelength band of the light center wavelength lambda ₁ and the second wavelength band of light is both 440 nm, high-energy optical film center wavelength is 440 nm Strong reflection is performed only on blue light, that is, narrow band filtering is performed on high energy blue light. When the optical film is affixed to a screen of a mobile phone, when light emitted from an LED light source in the mobile phone is incident on the optical film, the optical film reflects high-energy blue light of 90% of the LED light source, ie, Most of the high-energy blue light is cut off, so that the transmitted light emitted from the optical film contains only a small amount of blue light of about 10%. This reduces eye damage from high energy blue light. At the same time, the optical film adopts a structure in which the particle layer 11 and dielectric layer 12 are alternately arranged, and because the spacing between the particles is 110 nm (λ _1/4), the optical film is a blue light The filtering bandwidth is reduced, which cuts blue light and at the same time avoids cutting light of other colors, reducing the damage to the eyes by high energy blue light while ensuring the display effect. it can.

当然のことながら、他の好ましい実施例において、第１の波長帯域の光の中心波長λ_１と第２の波長帯域の光の中心波長λ_２は等しくなくてもよい。第１の波長帯域の光の中心波長λ_１と第２の波長帯域の光の中心波長λ_２が等しくない場合、該光学フィルムは２つの中心波長の光に対して狭帯域フィルタリングを実現でき、例えば第１の波長帯域の光の中心波長λ_１が４４０ナノメートルであり、第２の波長帯域の光の中心波長λ_２が７００ナノメートルであり、このように光学フィルムは高エネルギーの青色光及び赤色光を同時に強く反射でき、青色光及び赤色光に対する狭帯域フィルタリングを実現する。 Of course, in other preferred embodiments, the center wavelength λ ₁ of light in the _first wavelength band and the center wavelength λ ₂ of light in the second wavelength band may not be equal. When the first center wavelength lambda ₁ of the light in the wavelength band second unequal central wavelength lambda ₂ of the light wavelength band, the optical film can realize a narrow-band filtering to light in the two central wavelengths, For example, the center wavelength λ ₁ of light in the first wavelength band is 440 nanometers, and the center wavelength λ ₂ of light in the second wavelength band is 700 nanometers. And red light at the same time, and realizes narrow band filtering for blue light and red light.

１つの好ましい実施例において、第１の波長帯域の光の中心波長λ_１及び第２の波長帯域の光の中心波長λ_２の取り得る値の範囲は１００ナノメートル〜２０００マイクロメートルであり、実際の用途では、第１の波長帯域の光の中心波長λ_１及び第２の波長帯域の光の中心波長λ_２の大きさに応じて粒子１１１の間隔及び誘電体層１２の厚さを設計してもよく、これによりある１つの中心波長又は２つの中心波長の光に対する強い反射を実現する。これとともに、粒子１１１の大きさは大きすぎてはならず、一般的には、粒子１１１の直径はλ_１／４より小さく、且つ複数の粒子の大きさは全く同じでなくてもよい。粒子層１１が１層の粒子１１１のみからなる場合、粒子１１１の直径は即ち粒子層１１の厚みとなる。 In one preferred embodiment, the range of possible values of the center wavelength λ ₁ of the light in the first wavelength band and the center wavelength λ ₂ of the light in the second wavelength band is 100 nanometers to 2000 micrometers. In the application of (1), the distance between the particles 111 and the thickness of the dielectric layer 12 are designed according to the magnitude of the center wavelength λ ₁ of the light in the first wavelength band and the center wavelength λ ₂ of the light in the second wavelength band. This may provide a strong reflection for light at one or two central wavelengths. Along with this, the size of the particles 111 should not be too large, in general, the diameter of the particles 111 smaller than lambda _1/4, may not be exactly the same and the size of the plurality of particles. When the particle layer 11 includes only one layer of the particles 111, the diameter of the particles 111 is the thickness of the particle layer 11.

また、粒子１１１及び誘電体層１２に使用される材料は、酸化マグネシウム、酸化イットリウム、硫化亜鉛、セレン化亜鉛、ガリウムヒ素、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、アルミナ、ＳｉＯ_ｘ、ＴｉＯ_ｘ、ＮｂＯ_ｘのうちの１つ又は複数を含む。なお、ＳｉＯ_ｘはケイ素（Ｓｉ）と酸素（Ｏ）の２つの元素で生成された化合物であり、例えば、化学気相成長法を用いて該化合物を製造する過程で、ケイ素及び酸素は予め設定されていない成分比率で化合物を生成するおそれがある。製剤がＳｉＯである場合、ケイ素と酸素との成分比率は理想的には１：１であるが、ケイ素の含有量が多い場合、ケイ素と酸素との成分比率は１：１より高いおそれがある。したがって、ケイ素及び酸素で生成された化合物をＳｉＯ_ｘと略すことができ、ｘは酸素とケイ素との成分比率を表し、例えばｘは１．２である。ＴｉＯ_ｘ及びＮｂＯ_ｘの場合はＳｉＯ_ｘの場合と同様であり、本明細書では説明を省略する。 The materials used for the particles 111 and the dielectric layer 12 are magnesium oxide, yttrium oxide, zinc sulfide, zinc selenide, gallium arsenide, magnesium fluoride, calcium fluoride, alumina, SiO _x , TiO _x , and NbO _x. Including one or more of the following. Note that SiO _x is a compound generated from two elements, silicon (Si) and oxygen (O). For example, in the process of manufacturing the compound using a chemical vapor deposition method, silicon and oxygen are set in advance. There is a possibility that a compound may be formed at a component ratio not specified. When the formulation is SiO, the component ratio between silicon and oxygen is ideally 1: 1. However, when the content of silicon is large, the component ratio between silicon and oxygen may be higher than 1: 1. . Therefore, the compound formed with silicon and oxygen can be abbreviated as SiO _x , where x represents the component ratio between oxygen and silicon, for example, x is 1.2. The case of TiO _x and NbO _{x is the same as} the case of SiO _x , and the description is omitted in this specification.

当然のことながら、粒子１１１及び誘電体層１２には上記例示しない他の材料を採用してもよく、ここでは具体的に限定されず、粒子層１１の屈折率が誘電体層１２の屈折率より大きいか又は小さいことが満たされればよい。例えば、粒子層１１に酸化マグネシウムを採用する場合、誘電体層１２には、粒子層１１の屈折率が誘電体層１２の屈折率より小さくなるように硫化亜鉛を採用してもよい。当然のことながら、粒子層１１には硫化亜鉛を採用してもよく、誘電体層１２には、粒子層１１の屈折率が誘電体層１２の屈折率より大きくなるように酸化マグネシウムを採用する。 Naturally, other materials not illustrated above may be used for the particles 111 and the dielectric layer 12, and are not specifically limited here, and the refractive index of the particle layer 11 is not limited to the refractive index of the dielectric layer 12. Greater or smaller may be satisfied. For example, when magnesium oxide is used for the particle layer 11, zinc sulfide may be used for the dielectric layer 12 so that the refractive index of the particle layer 11 is smaller than the refractive index of the dielectric layer 12. As a matter of course, zinc sulfide may be used for the particle layer 11, and magnesium oxide is used for the dielectric layer 12 so that the refractive index of the particle layer 11 is larger than the refractive index of the dielectric layer 12. .

当然のことながら、異なる層の粒子層１１又は異なる層の誘電体層１２は異なる材料を採用してもよく、例えば、図１における粒子層１１において、一つの粒子層１１に酸化マグネシウムを採用し、他の一つの粒子層１１に酸化イットリウムを採用し、同様に、誘電体層１２において、一つの誘電体層１２に硫化亜鉛を採用し、他の一つの誘電体層１２にセレン化亜鉛を採用する。これにより粒子層１１の屈折率をいずれも誘電体層１２の屈折率より小さくする。粒子層１１及び誘電体層１２の具体的な材質は実際の必要に応じて選択することができ、ここでは具体的に限定されない。 Naturally, different materials may be used for the different particle layers 11 or the different dielectric layers 12. For example, in the particle layer 11 in FIG. 1, magnesium oxide is used for one particle layer 11. Similarly, yttrium oxide is used for another particle layer 11, zinc sulfide is used for one dielectric layer 12, and zinc selenide is used for another dielectric layer 12 in the same manner. adopt. Thereby, the refractive index of each of the particle layers 11 is made smaller than the refractive index of the dielectric layer 12. Specific materials of the particle layer 11 and the dielectric layer 12 can be selected according to actual needs, and are not specifically limited here.

好ましい実施例において、基材１０は、透明な基材であり、例えばガラス基材や石英基材などであり、光学フィルムを通過した光を基材１０に透過させたり、基材１０を介して入射した光を粒子層１１及び誘電体層１２に入射させたりすることができる。該光学フィルムを用いる場合、入射光は、基材１０から誘電体層１２に向かう方向から入射してもよく、誘電体層１２から基材１０に向かう方向から入射してもよい。どの方向から入射しても、同じ技術効果が得られる。 In a preferred embodiment, the base material 10 is a transparent base material, for example, a glass base material or a quartz base material, and transmits light passing through the optical film to the base material 10 or through the base material 10. The incident light can be made incident on the particle layer 11 and the dielectric layer 12. When the optical film is used, the incident light may enter from the direction from the substrate 10 to the dielectric layer 12 or may enter from the direction from the dielectric layer 12 to the substrate 10. Regardless of the direction from which light is incident, the same technical effects can be obtained.

もちろん、他の実施例において、基材１０は、ゴム基材、プラスチック基材及び金属基材などであってもよく、光学フィルムの実際の応用に応じて異なる基材１０を選択することができる。例えば、光学フィルムが可視光帯域のある波長の光波を反射するために用いられる場合、基材１０は、ガラス基材や石英基材であってもよい。光学フィルムがマイクロ波帯域のある波長の光波を反射するために用いられる場合、基材１０はセラミック基材、ゴム基材又はプラスチック基材であってもよい。光学フィルムが光波を透過する必要がない場合、基材１０は金属基材であってもよい。 Of course, in other embodiments, the substrate 10 may be a rubber substrate, a plastic substrate, a metal substrate, or the like, and a different substrate 10 may be selected according to the actual application of the optical film. . For example, when the optical film is used to reflect light waves of a certain wavelength in the visible light band, the substrate 10 may be a glass substrate or a quartz substrate. If the optical film is used to reflect light waves of a certain wavelength in the microwave band, the substrate 10 may be a ceramic substrate, a rubber substrate or a plastic substrate. If the optical film does not need to transmit light waves, the substrate 10 may be a metal substrate.

なお、図１に示す光学フィルムの構造は、あくまで一例であり、即ち基材１０と接触する層が粒子層１１であり、基材１０から遠い最外層が誘電体層１２である。本発明の光学フィルムの構造は、他の構造、例えば図２乃至図４に示す構造であってもよい。図２、図３及び図４は、それぞれ、本発明の好ましい実施例にて提供される第２、第３及び第４の光学フィルムの構造模式図である。 The structure of the optical film shown in FIG. 1 is merely an example, that is, the layer in contact with the substrate 10 is the particle layer 11, and the outermost layer far from the substrate 10 is the dielectric layer 12. The structure of the optical film of the present invention may be another structure, for example, the structure shown in FIGS. FIGS. 2, 3 and 4 are schematic structural diagrams of second, third and fourth optical films provided in preferred embodiments of the present invention, respectively.

図２に示す第２の光学フィルムの構造では、基材１０と接触する層が粒子層１１であり、基材１０から遠い最外層も粒子層１１である。図３に示す第３の光学フィルムの構造では、基材１０と接触する層が誘電体層１２であり、基材１０から遠い最外層も誘電体層１２である。図４に示す第４の光学フィルムの構造では、基材１０と接触する層が誘電体層１２であり、基材１０から離れる最外層が粒子層１１である。 In the structure of the second optical film shown in FIG. 2, the layer in contact with the substrate 10 is the particle layer 11, and the outermost layer far from the substrate 10 is also the particle layer 11. In the structure of the third optical film shown in FIG. 3, the layer in contact with the substrate 10 is the dielectric layer 12, and the outermost layer far from the substrate 10 is also the dielectric layer 12. In the structure of the fourth optical film shown in FIG. 4, the layer in contact with the substrate 10 is the dielectric layer 12, and the outermost layer separated from the substrate 10 is the particle layer 11.

なお、図１乃至図４は、粒子１１１の概略的な位置関係を示しているだけで、本発明で説明する複数の粒子１１１の具体的な配置態様を限定するものではない。実際に該粒子層１１を製造する過程で、各層の粒子層１１内の複数の粒子１１１が同じ分布態様で整然と配列されることは保証できず、粒子１１１の間隔がほぼ等しい限り、各層の粒子層１１内の複数の粒子１１１が不規則に配列されていてもよいことが理解される。 FIGS. 1 to 4 only show the schematic positional relationship of the particles 111, and do not limit the specific arrangement of the plurality of particles 111 described in the present invention. In the course of actually manufacturing the particle layer 11, it cannot be guaranteed that the plurality of particles 111 in the particle layer 11 of each layer are arranged in the same distribution manner in an orderly manner. It is understood that the plurality of particles 111 in the layer 11 may be randomly arranged.

好ましい実施例の光学フィルムは、基材上に誘電体層及び粒子層を交互に設置し、ただし、粒子層が複数の粒子を含み、粒子の間隔の取り得る値の範囲がλ_１／８からλ_１／２であり、誘電体層の光学的厚さの取り得る値の範囲がλ_２／８からλ_２／２であり、粒子層の屈折率が誘電体層の屈折率より大きいか又は小さい。該光学フィルムは、他の波長帯域の光波に影響を与えることなく、１つの中心波長又は２つの中心波長の光を同時に強く反射でき、これにより狭帯域フィルタリングの効果を実現することができる。 The optical film of the preferred embodiment, established the dielectric layer and the particle layer are alternately on a substrate, however, it includes a plurality of particles the particle layer, the range of possible values of the spacing particles lambda _1/8 lambda _1/2, the range of possible values of the optical thickness of the dielectric layer becomes lambda _2/8 from lambda _2/2, or the refractive index of the particle layer is greater than the refractive index of the dielectric layer or small. The optical film can strongly reflect light of one center wavelength or two center wavelengths at the same time without affecting light waves in other wavelength bands, thereby realizing a narrow band filtering effect.

（実施例２）
好ましい実施例は光学フィルムの製造方法を提供し、該方法で製造された光学フィルムは、ある波長帯域の光を反射して、他の波長帯域の光を透過させ、即ちある波長帯域の光をカットし、例えばＬＥＤディスプレイの表面に貼り付けて青色光の透過を減少させるという機能を果たす。また、光波からある特定の波長帯域の光波を選択し、且つ反射により分離し、これによりある特定の波長帯域の光波を得るためにも使用できる。ここでは、該光学フィルムの具体的な用途について、特に限定しない。 (Example 2)
A preferred embodiment provides a method for manufacturing an optical film, and the optical film manufactured by the method reflects light in one wavelength band and transmits light in another wavelength band, that is, transmits light in a certain wavelength band. Cut and affixed, for example, to the surface of an LED display to reduce blue light transmission. Further, it can be used to select a lightwave of a specific wavelength band from the lightwaves and separate them by reflection, thereby obtaining a lightwave of a specific wavelength band. Here, the specific use of the optical film is not particularly limited.

該光学フィルムの製造方法で製造される光学フィルムは、
基材と、
前記基材上に交互に製造された誘電体層及び粒子層と、を含み、前記粒子層は複数の粒子を含み、前記粒子の間隔の取り得る値の範囲はλ_１／８からλ_１／２であり、前記誘電体層の光学的厚さの取り得る値の範囲はλ_２／８からλ_２／２であり、且つ前記粒子層の屈折率は前記誘電体層の屈折率より大きいか又は小さく、ここで、λ_１及びλ_２はそれぞれ第１の波長帯域の光の中心波長及び第２の波長帯域の光の中心波長である。 The optical film produced by the method for producing an optical film,
A substrate,
Wherein on a substrate includes a dielectric layer and a particle layer made alternately, wherein the particle layer comprises a plurality of particles, the range of possible values of the interval of the particles lambda _1/8 from lambda ₁ / 2, or the range of the optical thickness of the possible values of the dielectric layers is lambda _2/2 from lambda _2/8, and the refractive index of the particle layer is greater than the refractive index of the dielectric layer Or small, where λ ₁ and λ ₂ are the center wavelength of light in the first wavelength band and the center wavelength of light in the second wavelength band, respectively.

以下、該光学フィルムの製造方法について詳細に説明する。 Hereinafter, a method for producing the optical film will be described in detail.

まず、基材を選択する。該基材は光学フィルムの実際の使用状況に応じて選択できる。光学フィルムが可視光帯域のある波長の光波を反射するために用いられる場合、基材は、ガラス基材や石英基材であってもよく、これにより光学フィルムを通過した光を基材に透過させたり、基材を介して入射した光を粒子層及び誘電体層に入射させたりすることができる。光学フィルムがマイクロ波帯域のある波長の光波を反射するために用いられる場合、基材はセラミック基材、ゴム基材又はプラスチック基材であってもよい。光学フィルムが光波を透過させる必要がない場合、基材は金属基材であってもよい。ここでは、基材の種類について、特に限定しない。 First, a base material is selected. The substrate can be selected according to the actual use condition of the optical film. If the optical film is used to reflect light waves of a certain wavelength in the visible light band, the substrate may be a glass substrate or a quartz substrate, thereby transmitting light passing through the optical film to the substrate. Or light incident through the base material can be incident on the particle layer and the dielectric layer. If the optical film is used to reflect light waves of a certain wavelength in the microwave band, the substrate may be a ceramic, rubber or plastic substrate. If the optical film does not need to transmit light waves, the substrate may be a metal substrate. Here, the type of the base material is not particularly limited.

次に、基材上に化学気相成長法により粒子層及び誘電体層を順次交互に堆積し、これにより基材上に交互に配置された誘電体層及び粒子層構造を形成する。当然のことながら、他の実施例において、製造における寸法精度が制御可能な真空成膜プロセス、ゾル−ゲル薄膜成膜プロセス、自己組織化薄膜成膜プロセス及び上記プロセスのうちの幾つかのプロセスの自由な組み合わせプロセスを採用することもできる。ただし、前記真空成膜プロセスは物理／化学気相成長、真空蒸着、マグネトロンスパッタリング、イオンプレーティング、エピタキシャル成長などを含む。 Next, a particle layer and a dielectric layer are sequentially and alternately deposited on the substrate by a chemical vapor deposition method, thereby forming a dielectric layer and a particle layer structure alternately arranged on the substrate. Of course, in other embodiments, a vacuum deposition process, a sol-gel thin film deposition process, a self-assembled thin film deposition process, and some of the above processes may be used to control dimensional accuracy in manufacturing. Any combination process can be employed. However, the vacuum film forming process includes physical / chemical vapor deposition, vacuum deposition, magnetron sputtering, ion plating, epitaxial growth and the like.

具体的には、好ましい実施例において、堆積時間、堆積速度などの製造パラメータを正確に制御することにより、基材上に１層の粒子層を堆積し、該粒子層は複数の粒子を含み、複数の粒子が基材の表面上に分布し、且つ粒子の間隔がλ_１／８からλ_１／２に制御され、粒子の直径がλ_１／４より小さく、粒子の大きさが異なっていてもよい。ここで、λ_１は第１の波長帯域の光の中心波長であり、λ_１の取り得る値の範囲は１００ナノメートル〜２０００マイクロメートルである。 Specifically, in a preferred embodiment, a single particle layer is deposited on a substrate by precisely controlling manufacturing parameters such as deposition time, deposition rate, etc., wherein the particle layer comprises a plurality of particles; a plurality of particles distributed on the surface of the substrate, and spacing of the particles is controlled from lambda _1/8 to lambda _1/2, less than the diameter of the particles is lambda _1/4, have different sizes of the particles Is also good. Here, λ ₁ is the center wavelength of light in the first wavelength band, and the range of possible values of λ ₁ is 100 nanometers to 2000 micrometers.

１層目の粒子層を製造した後、１層目の誘電体層を製造する。粒子間に隙間があるため、粒子間の空隙に１層目の誘電体層の材料が満たされることが理解できる。堆積時間、堆積速度などの製造パラメータを正確に制御することで、１層目の誘電体層を形成する。一般的に、誘電体層の光学的厚さの取り得る値の範囲はλ_２／８からλ_２／２であり、ここで、λ_２は第２の波長帯域の光の中心波長であり、λ_２の取り得る値の範囲は１００ナノメートル〜２０００マイクロメートルである。 After manufacturing the first particle layer, the first dielectric layer is manufactured. It can be understood that since there is a gap between the particles, the gap between the particles is filled with the material of the first dielectric layer. The first dielectric layer is formed by accurately controlling manufacturing parameters such as a deposition time and a deposition rate. Generally, the range of possible values of the optical thickness of the dielectric layer is lambda _2/2 from lambda _2/8, where, lambda ₂ is the center wavelength of the light in a second wavelength band, range of lambda ₂ possible values is 100 nanometers to 2,000 micrometers.

本発明の実施例において、粒子の間隔の精度誤差は粒子の間隔の５％以下である。光学的厚さの精度誤差は光学的厚さの５％以下である。 In an embodiment of the present invention, the accuracy error of the particle spacing is less than 5% of the particle spacing. The accuracy error of the optical thickness is less than 5% of the optical thickness.

１層目の誘電体層を製造した後、１層目の誘電体層に２層目の粒子層を堆積し続け、最終層の誘電体層又は粒子層が製造されるまでこのようにする。これにより、基材と、基材上に交互に設置された誘電体層及び粒子層と、からなる光学フィルムが製造される。 After manufacturing the first dielectric layer, the second particle layer is continuously deposited on the first dielectric layer, and so on until the final dielectric layer or particle layer is manufactured. Thereby, an optical film including the base material and the dielectric layers and the particle layers alternately provided on the base material is manufactured.

光学フィルムを製造する過程で、粒子の材料及び誘電体層の材料としては、いずれも酸化マグネシウム、酸化イットリウム、硫化亜鉛、セレン化亜鉛、ガリウムヒ素、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、ＳｉＯ_ｘ、ＴｉＯ_ｘ、ＮｂＯ_ｘ、アルミナなどの複数の材質のうちの１種又は複数種を採用してもよい。粒子層の屈折率が誘電体層の屈折率より大きいか又は小さいことを満足すれば、列挙されていない他の材質を採用してもよく、具体的な材質はここでは限定されない。例えば、粒子層に酸化マグネシウムを採用する場合、粒子層の屈折率が誘電体層の屈折率より小さくなるように誘電体層に硫化亜鉛を採用してもよい。当然のことながら、粒子層に硫化亜鉛を採用することもでき、粒子層の屈折率が誘電体層の屈折率より大きくなるように誘電体層に酸化マグネシウムを採用する。また、異なる層の粒子層又は異なる層の誘電体層も異なる材料を採用することができ、例えば、粒子層において、一つの粒子層に酸化マグネシウムを採用し、他の一つの粒子層に酸化イットリウムを採用し、同様に、誘電体層において、一つの誘電体層に硫化亜鉛を採用し、他の一つの誘電体層にセレン化亜鉛を採用し、これにより粒子層の屈折率をいずれも誘電体層の屈折率より小さくする。粒子層及び誘電体層の具体的な材質は実際の必要に応じて選択することができ、ここでは具体的に限定されない。 In the process of manufacturing the optical film, the material of the particles and the material of the dielectric layer are all magnesium oxide, yttrium oxide, zinc sulfide, zinc selenide, gallium arsenide, magnesium fluoride, calcium fluoride, SiO _x , TiO 2 One or more of a plurality of materials such as _x , NbO _x , and alumina may be employed. As long as the refractive index of the particle layer satisfies that the refractive index is larger or smaller than that of the dielectric layer, other materials not listed may be adopted, and specific materials are not limited here. For example, when magnesium oxide is used for the particle layer, zinc sulfide may be used for the dielectric layer so that the refractive index of the particle layer is smaller than the refractive index of the dielectric layer. As a matter of course, zinc sulfide can be used for the particle layer, and magnesium oxide is used for the dielectric layer so that the refractive index of the particle layer is larger than the refractive index of the dielectric layer. In addition, different materials may be used for different particle layers or different dielectric layers.For example, in the particle layer, magnesium oxide is used for one particle layer, and yttrium oxide is used for another particle layer. Similarly, in the dielectric layer, zinc sulfide is used for one dielectric layer, and zinc selenide is used for the other dielectric layer. It should be smaller than the refractive index of the body layer. Specific materials of the particle layer and the dielectric layer can be selected according to actual needs, and are not specifically limited here.

なお、上述の製造方法は、光学フィルムの製造方法の１つにすぎず、他の実施例において、光学フィルムを他のステップで製造してもよい。例えば、基材に対して、堆積時間、堆積速度などの製造パラメータを制御することにより、基材上にまず１層の誘電体層を堆積し、１層目の誘電体層上に１層目の粒子層を堆積し、さらに１層目の粒子層上に２層目の誘電体層を堆積する。ここで、２層目の誘電体層が１層目の粒子層の粒子隙間を満たす。最終層の粒子層又は誘電体層が製造されるまでこのようにすることで、基材と、基材上に交互に設置された誘電体層及び粒子層と、からなる光学フィルムが製造される。 The above-described manufacturing method is only one of the manufacturing methods of the optical film, and in another embodiment, the optical film may be manufactured in another step. For example, by controlling manufacturing parameters such as a deposition time and a deposition rate for a substrate, one dielectric layer is first deposited on the substrate, and the first dielectric layer is deposited on the first dielectric layer. Is deposited, and a second dielectric layer is further deposited on the first particle layer. Here, the second dielectric layer fills the particle gap of the first particle layer. By doing so until the final particle layer or the dielectric layer is manufactured, an optical film composed of the substrate and the dielectric layer and the particle layer alternately arranged on the substrate is manufactured. .

好ましい実施例における製造方法は、基材上に誘電体層及び粒子層を交互に製造することで光学フィルムを形成する。該方法は製造プロセスが簡単であり、本発明にて提供される光学フィルムを製造できる。該光学フィルムは、他の波長帯域の光波に影響を与えることなく、ある特定の波長帯域の光波を強く反射でき、狭帯域フィルタリングを実現することができる。 The manufacturing method in a preferred embodiment forms an optical film by alternately manufacturing a dielectric layer and a particle layer on a substrate. The method has a simple manufacturing process and can manufacture the optical film provided by the present invention. The optical film can strongly reflect light waves in a specific wavelength band without affecting light waves in other wavelength bands, and can realize narrow band filtering.

なお、以上述べた実施例は本発明の技術的解決手段を説明するためのものであり、本発明を限定するものではない。上述の実施例を参照して本発明を詳細に説明したが、当業者は、上述の各実施例に記載された技術的解決手段を修正したり、一部の技術的特徴を均等なものに置換したりすることができる。これらの修正又は置換は、対応する技術的解決手段の本質を本発明の実施例の各実施例の技術的思想や範囲から逸脱させるものではないと理解するであろう。 The embodiments described above are for explaining the technical solution of the present invention, and do not limit the present invention. Although the present invention has been described in detail with reference to the above embodiments, those skilled in the art may modify the technical solution described in each of the above embodiments, or make some technical features equivalent. Can be replaced. It will be understood that these modifications or substitutions do not depart from the essence and scope of each embodiment of the present invention in the nature of the corresponding technical solution.

（付記）
（付記１）
ある波長帯域の光を反射するための光学フィルムであって、
基材、前記基材上に交互に設置された誘電体層及び粒子層を含み、前記粒子層は複数の粒子を含み、前記粒子の間隔の取り得る値の範囲はλ_１／８からλ_１／２であり、前記誘電体層の光学的厚さの取り得る値の範囲はλ_２／８からλ_２／２であり、且つ前記粒子層の屈折率は前記誘電体層の屈折率より大きいか又は小さく、λ_１及びλ_２はそれぞれ第１の波長帯域の光の中心波長及び第２の波長帯域の光の中心波長であることを特徴とする光学フィルム。 (Note)
(Appendix 1)
An optical film for reflecting light in a certain wavelength band,
Substrate includes a dielectric layer and a particle layer disposed alternately on said substrate, said particle layer includes a plurality of particles, the range of possible values of the interval of the particles lambda _1/8 from lambda ₁ / 2, the range of optical thicknesses of the possible values of the dielectric layers is lambda _2/2 from lambda _2/8, and the refractive index of the particle layer is greater than the refractive index of the dielectric layer An optical film, wherein λ ₁ and λ ₂ are respectively a central wavelength of light in a first wavelength band and a central wavelength of light in a second wavelength band.

（付記２）
前記第１の波長帯域の光の中心波長λ_１は第２の波長帯域の光の中心波長λ_２に等しいことを特徴とする付記１に記載の光学フィルム。 (Appendix 2)
Wherein the center wavelength lambda ₁ of the light of the first wavelength band optical film according to Note 1, wherein the equal to the center wavelength lambda ₂ of the light of the second wavelength band.

（付記３）
前記基材と接触する層は前記粒子層であり、前記基材から遠い最外層は前記粒子層又は前記誘電体層であることを特徴とする付記１に記載の光学フィルム。 (Appendix 3)
The optical film according to claim 1, wherein the layer in contact with the substrate is the particle layer, and the outermost layer far from the substrate is the particle layer or the dielectric layer.

（付記４）
前記基材と接触する層は前記誘電体層であり、前記基材から遠い最外層は前記粒子層又は前記誘電体層であることを特徴とする付記１に記載の光学フィルム。 (Appendix 4)
The optical film according to claim 1, wherein the layer in contact with the substrate is the dielectric layer, and the outermost layer far from the substrate is the particle layer or the dielectric layer.

（付記５）
前記粒子の直径はλ_１／４より小さいことを特徴とする付記１に記載の光学フィルム。 (Appendix 5)
The optical film according to Note 1 the diameter of the particles, characterized in that less than lambda _1/4.

（付記６）
前記第１の波長帯域の光の中心波長λ_１及び第２の波長帯域の光の中心波長λ_２の取り得る値の範囲は１００ナノメートル〜２０００マイクロメートルであることを特徴とする付記５に記載の光学フィルム。 (Appendix 6)
The range of possible values of the center wavelength λ ₁ of the light in the first wavelength band and the center wavelength λ ₂ of the light in the second wavelength band is from 100 nanometers to 2,000 micrometers. The optical film of the above.

（付記７）
前記粒子及び前記誘電体層に使用される材料は酸化マグネシウム、酸化イットリウム、硫化亜鉛、セレン化亜鉛、ガリウムヒ素、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、アルミナ、ＳｉＯ_ｘ、ＴｉＯ_ｘ及び／又はＮｂＯ_ｘを含むことを特徴とする付記１に記載の光学フィルム。 (Appendix 7)
Materials used for the particles and the dielectric layer include magnesium oxide, yttrium oxide, zinc sulfide, zinc selenide, gallium arsenide, magnesium fluoride, calcium fluoride, alumina, SiO _x , TiO _x and / or NbO _x . 3. The optical film according to claim 1, further comprising:

（付記８）
前記基材は金属基材、ガラス基材、石英基材、ゴム基材又はプラスチック基材を含むことを特徴とする付記１に記載の光学フィルム。 (Appendix 8)
2. The optical film according to claim 1, wherein the substrate includes a metal substrate, a glass substrate, a quartz substrate, a rubber substrate, or a plastic substrate.

（付記９）
光学フィルムの製造方法であって、前記光学フィルムは、
基材と、
前記基材上に交互に製造された誘電体層及び粒子層と、を含み、
前記粒子層は複数の粒子を含み、前記粒子の間隔の取り得る値の範囲はλ_１／８からλ_１／２であり、前記誘電体層の光学的厚さの取り得る値の範囲はλ_２／８からλ_２／２であり、且つ前記粒子層の屈折率は前記誘電体層の屈折率より大きいか又は小さく、ここで、λ_１及びλ_２はそれぞれ第１の波長帯域の光の中心波長及び第２の波長帯域の光の中心波長であることを特徴とする光学フィルムの製造方法。 (Appendix 9)
A method for producing an optical film, wherein the optical film is
A substrate,
And a dielectric layer and a particle layer alternately manufactured on the base material,
The particle layer may include a plurality of particles, the range of possible values of the interval of the particles is lambda _1/2 from lambda _1/8, the range of the optical thickness of the possible values of the dielectric layer is lambda is from _{_2/8 λ 2/2,} and the refractive index of the particle layer is greater or smaller than the refractive index of said dielectric layer, wherein, lambda ₁ and lambda ₂ is in the light of the first wavelength band respectively A method for producing an optical film, wherein the optical film has a center wavelength and a center wavelength of light in a second wavelength band.

（付記１０）
誘電体層及び粒子層を交互に製造するために採用される方法は、真空成膜プロセス、ゾル−ゲル薄膜成膜プロセス及び／又は自己組織化薄膜成膜プロセスを含み、前記真空成膜プロセスは物理／化学気相成長、真空蒸着、マグネトロンスパッタリング、イオンプレーティング、エピタキシャル成長を含み、前記粒子の間隔の精度誤差は前記粒子の間隔の５％以下であり、前記光学的厚さの精度誤差は前記光学的厚さの５％以下であることを特徴とする付記９に記載の光学フィルムの製造方法。 (Appendix 10)
Methods employed to alternately produce the dielectric layer and the particle layer include a vacuum deposition process, a sol-gel thin film deposition process and / or a self-assembled thin film deposition process, wherein the vacuum deposition process is Including physical / chemical vapor deposition, vacuum deposition, magnetron sputtering, ion plating, and epitaxial growth, the accuracy error of the space between the particles is 5% or less of the space between the particles, and the accuracy error of the optical thickness is not more than 5%. The method for producing an optical film according to claim 9, wherein the optical thickness is 5% or less of the optical thickness.

Claims

An optical film for reflecting light in a certain wavelength band,
Substrate includes a dielectric layer and a particle layer disposed alternately on said substrate, said particle layer includes a plurality of particles, the range of possible values of the interval of the particles lambda _1/8 from lambda ₁ / 2, the range of optical thicknesses of the possible values of the dielectric layers is lambda _2/2 from lambda _2/8, and the refractive index of the particle layer is greater than the refractive index of the dielectric layer An optical film, wherein λ ₁ and λ ₂ are respectively a central wavelength of light in a first wavelength band and a central wavelength of light in a second wavelength band.

Wherein the center wavelength lambda ₁ of the light of the first wavelength band optical film according to claim 1, characterized in that equal to the center wavelength lambda ₂ of the light of the second wavelength band.

The optical film according to claim 1, wherein the layer that contacts the substrate is the particle layer, and the outermost layer far from the substrate is the particle layer or the dielectric layer.

2. The optical film according to claim 1, wherein the layer in contact with the substrate is the dielectric layer, and an outermost layer far from the substrate is the particle layer or the dielectric layer. 3.

The optical film of claim 1 the diameter of the particles is characterized in that less than lambda _1/4.

The range of possible values of the center wavelength λ ₁ of the light of the first wavelength band and the center wavelength λ ₂ of the light of the second wavelength band is 100 nanometers to 2000 micrometers. An optical film according to item 1.

Materials used for the particles and the dielectric layer include magnesium oxide, yttrium oxide, zinc sulfide, zinc selenide, gallium arsenide, magnesium fluoride, calcium fluoride, alumina, SiO _x , TiO _x and / or NbO _x . The optical film according to claim 1, comprising:

The optical film according to claim 1, wherein the substrate includes a metal substrate, a glass substrate, a quartz substrate, a rubber substrate, or a plastic substrate.

A method for producing an optical film, wherein the optical film is
A substrate,
And a dielectric layer and a particle layer alternately manufactured on the base material,
The particle layer may include a plurality of particles, the range of possible values of the interval of the particles is lambda _1/2 from lambda _1/8, the range of the optical thickness of the possible values of the dielectric layer is lambda is from _{_2/8 λ 2/2,} and the refractive index of the particle layer is greater or smaller than the refractive index of said dielectric layer, wherein, lambda ₁ and lambda ₂ is in the light of the first wavelength band respectively A method for producing an optical film, wherein the optical film has a center wavelength and a center wavelength of light in a second wavelength band.

Methods employed to alternately produce the dielectric layer and the particle layer include a vacuum deposition process, a sol-gel thin film deposition process and / or a self-assembled thin film deposition process, wherein the vacuum deposition process is Including physical / chemical vapor deposition, vacuum deposition, magnetron sputtering, ion plating, and epitaxial growth, the accuracy error of the space between the particles is 5% or less of the space between the particles, and the accuracy error of the optical thickness is not more than 5%. The method for producing an optical film according to claim 9, wherein the thickness is 5% or less of the optical thickness.