JP2016040344A - Resin composition, method for producing aromatic poly (thio) ether, and molded article - Google Patents

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宮木 伸行
Nobuyuki Miyaki
伸行 宮木
多田羅 了嗣
Akitsugu Tatara
了嗣 多田羅
輝彦 梅原
Teruhiko Umehara
輝彦 梅原
裕也 名和手
Yuya Nawate
裕也 名和手
優紀 北村
Yuki Kitamura
優紀 北村
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Abstract

【課題】成形体の着色を抑制でき、プロセス上有利に製造できる樹脂組成物、芳香族ポリ(チオ)エーテルの製造方法及び成形体を提供する。【解決手段】本発明は、有機溶媒及び芳香族ポリ(チオ)エーテルを含有する樹脂組成物であって上記有機溶媒が下記式(1)で表される化合物、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、又はこれらの2以上の組み合わせである。式(1)中、Rは、アミド基以外の炭素数1〜5の1価の有機基である。nは、0〜5の整数である。nが2以上の場合、複数のRは同一であっても異なっていてもよい。上記有機溶媒としては、ベンゾニトリル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、又はトリエチレングリコールジメチルエーテルであるとよい。【選択図】なしDisclosed are a resin composition, a method for producing an aromatic poly (thio) ether, and a molded product, which can suppress coloring of the molded product and can be produced advantageously in a process. The present invention provides a resin composition containing an organic solvent and an aromatic poly (thio) ether, wherein the organic solvent is a compound represented by the following formula (1): diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, Triethylene glycol dimethyl ether, or a combination of two or more thereof. In formula (1), R is a C1-C5 monovalent organic group other than an amide group. n is an integer of 0-5. When n is 2 or more, the plurality of R may be the same or different. The organic solvent is preferably benzonitrile, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, or triethylene glycol dimethyl ether. [Selection figure] None

Description

本発明は、樹脂組成物、芳香族ポリ(チオ)エーテルの製造方法及び成形体に関する。   The present invention relates to a resin composition, a method for producing an aromatic poly (thio) ether, and a molded article.

芳香族ポリ(チオ)エーテルは、一般に非プロトン性極性溶媒中で合成されている。このように非プロトン性極性溶媒中で芳香族ポリ(チオ)エーテルの合成を行うことで、芳香族求核置換反応が促進され、高分子量体を得ることができる。   Aromatic poly (thio) ethers are generally synthesized in aprotic polar solvents. By thus synthesizing the aromatic poly (thio) ether in an aprotic polar solvent, the aromatic nucleophilic substitution reaction is promoted and a high molecular weight product can be obtained.

芳香族ポリ(チオ)エーテルの合成に使用する非プロトン性極性溶媒としては、例えばN−メチルピロリドン(NMP)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、スルホラン、ジメチルスルホキシド(DMSO)が挙げられる(特開平5−339364号公報、特開2010−95614号公報及び特公平8−5959号公報参照)。   Examples of the aprotic polar solvent used for the synthesis of aromatic poly (thio) ether include N-methylpyrrolidone (NMP), dimethylacetamide (DMAc), N, N-dimethylformamide (DMF), sulfolane, dimethyl sulfoxide ( DMSO) (see JP-A-5-339364, JP-A-2010-95614 and JP-B-8-5959).

また、室温で固体であるジフェニルスルホンを300℃程度の高温で溶融させ、反応を進行させる方法も知られている(特開2013−47331号公報参照)。   Also known is a method in which diphenylsulfone, which is a solid at room temperature, is melted at a high temperature of about 300 ° C. to advance the reaction (see JP 2013-47331 A).

しかし、芳香族ポリ(チオ)エーテルの合成に使用する従来公知の非プロトン性極性溶媒には、種々の不都合があり、代替溶媒の開発が求められている。   However, conventionally known aprotic polar solvents used for the synthesis of aromatic poly (thio) ethers have various disadvantages, and development of alternative solvents is required.

例えば、NMP、DMAc、DMF等のアミド系溶媒は、生体毒性が懸念される。また、アミド系溶媒は、一般に分解しやすく、分解生成物が重合反応を阻害するおそれがある。例えば、NMPは、ヒドロキシ−N−メチルピロリドンへと分解し、この分解生成物が重合反応を阻害するために高分子量体を得ることが難しいことが知られている(特開平11−158264号公報参照)。加えて、アミド系溶媒の分解生成物は、芳香族ポリエーテルを含有する組成物から得られる成形体の着色の原因ともなる。例えば、DMAcは、酸素と水の存在下で容易に分解反応が進行し、この際に生成した分解生成物が着色の原因となることが知られている(特開平7−173119号公報参照)。着色物質を、除去することは非常に難しく、色相を改善するためには、着色物質の発生を抑えることが肝要である。   For example, amide solvents such as NMP, DMAc, and DMF are feared for biotoxicity. In addition, amide solvents are generally easily decomposed, and there is a risk that decomposition products may inhibit the polymerization reaction. For example, it is known that NMP decomposes into hydroxy-N-methylpyrrolidone and it is difficult to obtain a high molecular weight product because this decomposition product inhibits the polymerization reaction (Japanese Patent Laid-Open No. 11-158264). reference). In addition, the decomposition product of the amide solvent also causes coloring of the molded product obtained from the composition containing the aromatic polyether. For example, DMAc is known to easily undergo a decomposition reaction in the presence of oxygen and water, and a decomposition product generated at this time is known to cause coloring (see JP-A-7-173119). . It is very difficult to remove the colored substance, and in order to improve the hue, it is important to suppress the generation of the colored substance.

また、スルホランは、生体毒性の問題がないものの、それ自体が不純物の影響で淡黄色をしており、さらに加熱により容易に黄変する。また室温で固化することからプロセス上の不都合が存在する。同様に、ジフェニルスルホンも室温で固体のため(融点127℃、沸点379℃)、取扱いにくく、プロセス上の不都合が存在している。また、芳香族ポリエーテルの合成後にジフェニルスルホンを除去するためには、繰り返し有機溶媒で抽出を行わなければならないという不都合もある。   In addition, although sulfolane does not have a problem of biotoxicity, it itself has a pale yellow color due to the influence of impurities, and further easily turns yellow upon heating. In addition, there is a process inconvenience due to solidification at room temperature. Similarly, since diphenyl sulfone is solid at room temperature (melting point: 127 ° C., boiling point: 379 ° C.), it is difficult to handle and there are inconveniences in the process. In addition, in order to remove diphenylsulfone after the synthesis of the aromatic polyether, there is a disadvantage that extraction must be repeated with an organic solvent.

特に、高い無色透明性が求められる用途、例えば耐熱透明フィルム、透明回路基板、レンズ、太陽電池基板等の用途に芳香族ポリ(チオ)エーテルを適用する場合、それらの成形体の着色を抑制する必要性が高い。そのため、成形体を得るための樹脂組成物には、着色の要因が極力排除されることが求められ、またプロセス上有利に製造できることが求められる。   In particular, when aromatic poly (thio) ether is applied to applications requiring high colorless transparency, such as heat-resistant transparent films, transparent circuit boards, lenses, solar battery substrates, etc., coloring of the molded products is suppressed. The necessity is high. Therefore, the resin composition for obtaining a molded body is required to eliminate coloring factors as much as possible, and is required to be able to be produced advantageously in the process.

特開平5−339364号公報JP-A-5-339364 特開2010−95614号公報JP 2010-95614 A 特公平8−5959号公報Japanese Patent Publication No. 8-5959 特開2013−47331号公報JP 2013-47331 A 特開平11−158264号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-158264 特開平7−173119号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-173119

本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであり、成形体の着色を抑制でき、プロセス上有利に製造できる樹脂組成物、芳香族ポリ(チオ)エーテルの製造方法及び成形体を提供することを目的とする。   The present invention has been made based on the circumstances as described above, and can provide a resin composition, an aromatic poly (thio) ether manufacturing method, and a molded body that can suppress coloring of the molded body and can be advantageously manufactured in a process. The purpose is to provide.

上記課題を解決するためになされた本発明は、有機溶媒及び芳香族ポリ(チオ)エーテルを含有する樹脂組成物であって、上記有機溶媒が下記式(1)で表される化合物、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、又はこれらの2以上の組み合わせである。

Figure 2016040344
(式(1)中、Rは、アミド基以外の炭素数1〜5の1価の有機基である。nは、0〜5の整数である。nが2以上の場合、複数のRは同一であっても異なっていてもよい。) The present invention made in order to solve the above problems is a resin composition containing an organic solvent and an aromatic poly (thio) ether, wherein the organic solvent is a compound represented by the following formula (1): diethylene glycol dimethyl ether , Diethylene glycol ethyl methyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, or a combination of two or more thereof.
Figure 2016040344
(In Formula (1), R is a C1-C5 monovalent organic group other than an amide group. N is an integer of 0 to 5. When n is 2 or more, a plurality of R are They may be the same or different.)

上記課題を解決するためになされた別の本発明は、有機溶媒を用い、重縮合反応により芳香族ポリ(チオ)エーテルを製造する方法であって、上記有機溶媒が上記式(1)で表される化合物、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、又はこれらの2以上の組み合わせである。   Another aspect of the present invention made to solve the above problems is a method for producing an aromatic poly (thio) ether by polycondensation reaction using an organic solvent, wherein the organic solvent is represented by the formula (1). The compound is diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, or a combination of two or more thereof.

上記課題を解決するためになされたさらに別の本発明は、有機溶媒及び芳芳香族ポリ(チオ)エーテルを含有する成形体であって、上記有機溶媒が上記式(1)で表される化合物、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、又はこれらの2以上の組み合わせである。   Yet another aspect of the present invention made to solve the above problems is a molded article containing an organic solvent and a aromatic aromatic poly (thio) ether, wherein the organic solvent is a compound represented by the above formula (1). , Diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, or a combination of two or more thereof.

ここで、「有機基」とは、少なくとも1つの炭素原子を含む基であり、「有機基」はヘテロ原子を含んでいてもよい。   Here, the “organic group” is a group containing at least one carbon atom, and the “organic group” may contain a hetero atom.

本発明によれば、成形体の着色を抑制でき、プロセス上有利に製造できる樹脂組成物、芳香族ポリ(チオ)エーテルの製造方法及び成形体を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the coloring of a molded object can be suppressed and the manufacturing method and molded object of an aromatic poly (thio) ether which can be manufactured advantageously on a process can be provided.

本発明は、樹脂組成物、成形体、及び芳香族ポリ(チオ)エーテルの製造方法を含む。以下、これらについて詳説する。   The present invention includes a resin composition, a molded article, and a method for producing an aromatic poly (thio) ether. These will be described in detail below.

<樹脂組成物>
本発明の樹脂組成物は、有機溶媒及び芳香族ポリ(チオ)エーテルを含有する。当該樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意成分を含んでいてもよい。
<Resin composition>
The resin composition of the present invention contains an organic solvent and an aromatic poly (thio) ether. The said resin composition may contain the arbitrary component in the range which does not impair the effect of this invention.

[有機溶媒]
当該樹脂組成物に含有される有機溶媒は、下記式(1)で表される化合物(以下「特定のベンゾニトリル系溶媒」ともいう)、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、又はトリエチレングリコールジメチルエーテル(これらのエーテル系溶媒を総称して、「特定のエーテル系溶媒」ともいう)を含む。なお、以下において、「特定のベンゾニトリル系溶媒」と「特定のエーテル系溶媒」とを総称して「特定の有機溶媒」ともいう。
[Organic solvent]
The organic solvent contained in the resin composition is a compound represented by the following formula (1) (hereinafter also referred to as “specific benzonitrile-based solvent”), diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, or triethylene glycol dimethyl ether ( These ether solvents are collectively referred to as “specific ether solvents”). In the following, “specific benzonitrile-based solvent” and “specific ether-based solvent” are also collectively referred to as “specific organic solvent”.

(特定のベンゾニトリル系溶媒)
特定のベンゾニトリル系溶媒は、アミド基を含まないものである。特定のベンゾニトリル系溶媒は、単独で使用しても複数を組み合わせて使用してもよい。
(Specific benzonitrile solvents)
The specific benzonitrile-based solvent does not contain an amide group. The specific benzonitrile-based solvent may be used alone or in combination.

Figure 2016040344
Figure 2016040344

式(1)中、Rは、アミド基以外の炭素数1〜5の1価の有機基である。nは、0〜5の整数である。nが2以上の場合、複数のRは同一であっても異なっていてもよい。   In formula (1), R is a C1-C5 monovalent organic group other than an amide group. n is an integer of 0-5. When n is 2 or more, the plurality of R may be the same or different.

アミド基以外の炭素数1〜5の1価の有機基としては、例えば炭素数1〜5の鎖状炭化水素基、炭素数3〜5の脂環式炭化水素基等の炭化水素基、これらの炭化水素基の炭素−炭素間にヘテロ原子を有するヘテロ原子含有基(アミド基を有するものを除く)、上記炭化水素基及びヘテロ原子含有基が有する水素原子の一部又は全部が置換基で置換された基等が挙げられる。   Examples of the monovalent organic group having 1 to 5 carbon atoms other than the amide group include hydrocarbon groups such as a chain hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 5 carbon atoms, and the like. A heteroatom-containing group having a heteroatom between carbon-carbons of the hydrocarbon group (excluding those having an amide group), part or all of the hydrogen atoms of the hydrocarbon group and heteroatom-containing group are substituents. Examples include substituted groups.

炭素数1〜5の鎖状炭化水素基としては、例えば、
メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基等のアルキル基;
エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基等のアルケニル基;
エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基等のアルキニル基などが挙げられる。
Examples of the chain hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms include:
Alkyl groups such as methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, i-butyl, sec-butyl, t-butyl and n-pentyl;
Alkenyl groups such as ethenyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group;
Examples thereof include alkynyl groups such as ethynyl group, propynyl group, butynyl group, and pentynyl group.

炭素数3〜5の脂環式炭化水素基としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基が挙げられる。   Examples of the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 5 carbon atoms include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, and a cyclopentyl group.

ヘテロ原子としては、例えば酸素原子、窒素原子、ケイ素原子、リン原子、イオウ原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。   Examples of the hetero atom include an oxygen atom, a nitrogen atom, a silicon atom, a phosphorus atom, a sulfur atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

置換基としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、アシル基、アシロキシ基、オキシ基等のアミド基以外のものが挙げられる。   Examples of the substituent include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, hydroxy group, carboxy group, cyano group, nitro group, alkoxy group, alkoxycarbonyl group, alkoxycarbonyloxy group, acyl group, and acyloxy. Group other than amide group such as oxy group.

特定のベンゾニトリル系溶媒としては、ベンゾニトリル(上記式(1)においてn=0)が好ましい。   As the specific benzonitrile-based solvent, benzonitrile (n = 0 in the above formula (1)) is preferable.

(特定のエーテル系溶媒)
特定のエーテル系溶媒は、アミド基を含まないものである。特定のエーテル系溶媒は、単独で使用しても複数を組み合わせて使用してもよく、特定のベンゾニトリル系溶媒と組み合わせて使用してもよい。特定のエーテル系溶媒としては、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテルが好ましい。これらの中でも、特定のエーテル系溶媒としては、ジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグライム)を単独で使用し、又はジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグライム)を他のエーテル系溶媒と組み合わせて使用することが好ましい。
(Specific ether solvent)
The specific ether solvent does not contain an amide group. The specific ether solvent may be used alone or in combination, or may be used in combination with a specific benzonitrile solvent. As the specific ether solvent, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, and triethylene glycol dimethyl ether are preferable. Among these, as the specific ether solvent, diethylene glycol dimethyl ether (diglyme) is preferably used alone, or diethylene glycol dimethyl ether (diglyme) is preferably used in combination with another ether solvent.

特定のベンゾニトリル系溶媒又は特定のエーテル系溶媒は、他の溶媒と組み合わせて使用してもよい。他の溶媒としては、アミド基を有しないものであればよく、例えば特定の有機溶媒以外の非プロトン性極性溶媒、共沸溶媒が挙げられる。   A specific benzonitrile-based solvent or a specific ether-based solvent may be used in combination with another solvent. Any other solvent may be used as long as it does not have an amide group, and examples thereof include aprotic polar solvents other than specific organic solvents and azeotropic solvents.

特定の有機溶媒以外の非プロトン性極性溶媒としては、例えばジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテルが挙げられる。   Examples of the aprotic polar solvent other than the specific organic solvent include dipropylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, diethylene glycol isopropyl methyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol butyl methyl ether, triethylene glycol Propylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, triethylene glycol butyl methyl ether, polyethylene glycol dimethyl ether, tetraethylene glycol dimethyl Ether, polyethylene glycol monomethyl ether.

共沸溶媒としては、例えばヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼンが挙げられる。   Examples of the azeotropic solvent include hexane, benzene, toluene, xylene, cumene, chlorobenzene, and o-dichlorobenzene.

当該樹脂組成物における特定の有機溶媒の含有量は、当該樹脂組成物の取り扱い性を確保しつつ、当該樹脂組成物から得るべき成形体の態様に応じた成形性等を好適に確保できるように適宜選択すればよい。例えば、当該樹脂組成物をキャスト法に適用する場合、上記特定の有機溶媒の含有量は、通常、当該樹脂組成物の全量における50質量%以上95質量%以下であり、60質量%以上95質量%以下が好ましく、70質量%以上90質量%以下がより好ましい。また、当該樹脂組成物を濃縮して、射出成形法や押出成形法等に用いるペレットに加工する場合、濃縮前の当該樹脂組成物における上記特定の有機溶媒の含有量は、通常、当該樹脂組成物の全量における50質量%以上90質量%以下であり、60質量%以上80質量%以下が好ましく、65質量%以上75質量%以下がより好ましい。   The content of the specific organic solvent in the resin composition ensures the moldability according to the form of the molded body to be obtained from the resin composition while ensuring the handleability of the resin composition. What is necessary is just to select suitably. For example, when the resin composition is applied to a casting method, the content of the specific organic solvent is usually 50% by mass or more and 95% by mass or less, and 60% by mass or more and 95% by mass in the total amount of the resin composition. % Or less is preferable, and 70 mass% or more and 90 mass% or less are more preferable. In addition, when the resin composition is concentrated and processed into pellets used in an injection molding method, an extrusion molding method, or the like, the content of the specific organic solvent in the resin composition before concentration is usually the resin composition. It is 50 mass% or more and 90 mass% or less in the whole quantity of a thing, 60 mass% or more and 80 mass% or less are preferable, and 65 mass% or more and 75 mass% or less are more preferable.

[芳香族ポリ(チオ)エーテル]
芳香族ポリ(チオ)エーテルは、芳香環及びエーテル結合、芳香環及びチオエーテル結合、又は芳香環、エーテル結合及びチオエーテル結合を有する構造単位(以下「必須の構造単位」ともいう)を含む重合体であって、芳香族ポリエーテル、芳香族ポリチオエーテル等の重合体をいう。この芳香族ポリ(チオ)エーテルは、必須の構造単位以外の構造単位(以下「任意の構造単位」ともいう)を含むものであってもよい。
[Aromatic poly (thio) ether]
An aromatic poly (thio) ether is a polymer containing a structural unit having an aromatic ring and an ether bond, an aromatic ring and a thioether bond, or an aromatic ring, an ether bond and a thioether bond (hereinafter also referred to as “essential structural unit”). It refers to polymers such as aromatic polyethers and aromatic polythioethers. This aromatic poly (thio) ether may contain structural units other than the essential structural units (hereinafter also referred to as “arbitrary structural units”).

{芳香族ポリエーテル}
当該樹脂組成物に使用できる芳香族ポリエーテルとしては、特に制限はないが、隣接する芳香環同士がエーテル結合を介して連結しているものが好ましい。このような芳香族ポリエーテルとしては、例えば、芳香族ポリエーテルニトリル、芳香族ポリエーテルケトン、芳香族ポリエーテルスルホンが挙げられる。当然のことながら、芳香族ポリエーテルニトリル、芳香族ポリエーテルケトン、芳香族ポリエーテルスルホンには、芳香族ポリエーテルエーテルニトリル、芳香族ポリエーテルエーテルエーテルニトリル、芳香族ポリエーテルエーテルケトン、芳香族ポリエーテルエーテルエーテルケトン、芳香族ポリエーテルエーテルスルホン、芳香族ポリエーテルエーテルエーテルスルホン等も含まれる。
{Aromatic polyether}
Although there is no restriction | limiting in particular as aromatic polyether which can be used for the said resin composition, The thing in which the adjacent aromatic rings are connected through the ether bond is preferable. Examples of such aromatic polyethers include aromatic polyether nitriles, aromatic polyether ketones, and aromatic polyether sulfones. Naturally, aromatic polyether nitrile, aromatic polyether ketone, aromatic polyether sulfone include aromatic polyether ether nitrile, aromatic polyether ether ether nitrile, aromatic polyether ether ketone, aromatic polyether sulfone. Ether ether ether ketone, aromatic polyether ether sulfone, aromatic polyether ether ether sulfone and the like are also included.

(芳香族ポリエーテルニトリル)
芳香族ポリエーテルニトリルは、必須の構造単位がニトリル基を有する芳香環とエーテル結合とを有するものである。この芳香族ポリエーテルニトリルは、例えばニトリル基を有する芳香環を与えるジハライドベンゾニトリルと、エーテル結合を与えるジオールとを共重合させることにより合成することができる。ジハライドベンゾニトリル及びジオールは、それぞれ1種を単独で使用してもよいし複数種を組み合わせて使用してもよい。もちろん、芳香族ポリエーテルニトリルの必須の構造単位におけるニトリル基、芳香環及びエーテル結合は、ジハライドベンゾニトリル及びジオール以外の化合物に由来するものであってもよい。
(Aromatic polyether nitrile)
In the aromatic polyether nitrile, the essential structural unit has an aromatic ring having an nitrile group and an ether bond. This aromatic polyether nitrile can be synthesized, for example, by copolymerizing a dihalide benzonitrile that provides an aromatic ring having a nitrile group and a diol that provides an ether bond. Each of dihalide benzonitrile and diol may be used alone or in combination of two or more. Of course, the nitrile group, the aromatic ring and the ether bond in the essential structural unit of the aromatic polyether nitrile may be derived from compounds other than dihalide benzonitrile and diol.

ジハライドベンゾニトリルとしては、例えば2,6−ジフルオロベンゾニトリル、2,4−ジフルオロベンゾニトリル、2,6−ジクロロベンゾニトリル、2,4−ジクロロベンゾニトリル、これらの前駆体及び誘導体が挙げられる。   Examples of the dihalide benzonitrile include 2,6-difluorobenzonitrile, 2,4-difluorobenzonitrile, 2,6-dichlorobenzonitrile, 2,4-dichlorobenzonitrile, and precursors and derivatives thereof.

ジオールとしては、例えばジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン、ビスフェノールが挙げられる。   Examples of the diol include dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene, and bisphenol.

ジヒドロキシベンゼンとしては、例えばカテコール、レゾルシノール、ヒドロキノンが挙げられる。   Examples of dihydroxybenzene include catechol, resorcinol, and hydroquinone.

ジヒドロキシナフタレンとしては、例えば1,2―ジヒドロキシナフタレン、1,3−ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、1,7−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレンが挙げられる。   Examples of the dihydroxynaphthalene include 1,2-dihydroxynaphthalene, 1,3-dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 1,7-dihydroxynaphthalene, 2, Examples include 3-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, and 2,7-dihydroxynaphthalene.

ビスフェノールとしては、例えば4,4’−ビフェノール、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、5,5’−(1−メチルエチリデン)−ビス[1,1’−(ビスフェニル)−2−オール]プロパン、ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)スルフィド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシ)フェニルフルオレン、9,9−ビス(6−ヒドロキシナフチル)フルオレン、3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)イソベンゾフラン−1(3H)−オン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、これらの前駆体及び誘導体が挙げられる。   Examples of the bisphenol include 4,4′-biphenol, bis (4-hydroxyphenyl) sulfide, dihydroxybenzophenone, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, and 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1. -Phenylethane, bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane, 5,5 '-(1-methylethylidene) -bis [1,1'-(bisphenyl) -2-ol] propane, bis (4-hydroxy-3) -Methylphenyl) sulfide, bis (4-hydroxyphenyl) sulfone, 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (3-Phenyl-4-hydroxy) phenylfluorene, 9,9-bis (6-hydro) Sinaftyl) fluorene, 3,3-bis (4-hydroxyphenyl) isobenzofuran-1 (3H) -one, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1- Bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, precursors and derivatives thereof are mentioned.

(芳香族ポリエーテルケトン)
芳香族ポリエーテルケトンは、必須の構造単位がケトン基、芳香環及びエーテル結合を有するものである。この芳香族ポリエーテルケトンは、ケトン基及び芳香環を与えるジハライドベンゾフェノンと、エーテル結合を与えるジオールとを共重合させることにより合成することができる。ジハライドベンゾフェノン及びジオールは、それぞれ1種を単独で使用してもよいし複数種を組み合わせて使用してもよい。もちろん、芳香族ポリエーテルケトンの必須の構造単位におけるケトン基、芳香環及びエーテル結合は、ジハライドベンゾフェノン及びジオール以外の化合物に由来するものであってもよい。
(Aromatic polyether ketone)
The aromatic polyether ketone has an essential structural unit having a ketone group, an aromatic ring and an ether bond. This aromatic polyether ketone can be synthesized by copolymerizing a dihalide benzophenone that provides a ketone group and an aromatic ring and a diol that provides an ether bond. Each of dihalide benzophenone and diol may be used alone or in combination of two or more. Of course, the ketone group, aromatic ring and ether bond in the essential structural unit of the aromatic polyether ketone may be derived from compounds other than dihalide benzophenone and diol.

ジハライドベンゾフェノンとしては、例えば4,4’−ジフルオロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、2,4’−ジフルオロベンゾフェノン、2,4’−ジクロロベンゾフェノン、これらの反応性誘導体が挙げられる。   Examples of the dihalide benzophenone include 4,4'-difluorobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 2,4'-difluorobenzophenone, 2,4'-dichlorobenzophenone, and reactive derivatives thereof.

ジオールとしては、芳香族ポリエーテルニトリルにおけるエーテル結合を与えるジオールと同様なものを例示することができる。   Examples of the diol include the same diol that gives an ether bond in an aromatic polyether nitrile.

(芳香族ポリエーテルスルホン)
芳香族ポリエーテルスルホンは、必須の構造単位がスルホニル基、芳香環及びエーテル結合を有するものである。この芳香族ポリエーテルスルホンは、スルホニル基を与えるジハライドジフェニルスルホンと、エーテル結合を与えるジオールとを共重合させることにより合成することができる。ジハライドジフェニルスルホン及びジオールは、1種を単独で使用してもよいし複数種を組み合わせて使用してもよい。もちろん、芳香族ポリエーテルスルホンの必須の構造単位におけるスルホニル基、芳香環及びエーテル結合は、ジハライドジフェニルスルホン及びジオール以外の化合物に由来するものであってもよい。
(Aromatic polyethersulfone)
The aromatic polyether sulfone has an essential structural unit having a sulfonyl group, an aromatic ring and an ether bond. This aromatic polyethersulfone can be synthesized by copolymerizing a dihalide diphenylsulfone that gives a sulfonyl group and a diol that gives an ether bond. Dihalide diphenyl sulfone and diol may be used individually by 1 type, and may be used in combination of multiple types. Of course, the sulfonyl group, aromatic ring and ether bond in the essential structural unit of the aromatic polyethersulfone may be derived from compounds other than dihalide diphenylsulfone and diol.

ジハライドジフェニルスルホンとしては、例えば4,4’−ジフルオロジフェニルスルホン、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン、2,4’−ジフルオロジフェニルスルホン、2,4’−ジクロロジフェニルスルホン、これらの反応性誘導体が挙げられる。   Examples of the dihalide diphenyl sulfone include 4,4′-difluorodiphenyl sulfone, 4,4′-dichlorodiphenyl sulfone, 2,4′-difluorodiphenyl sulfone, 2,4′-dichlorodiphenyl sulfone, and reactive derivatives thereof. Can be mentioned.

ジオールとしては、芳香族ポリエーテルニトリルにおけるエーテル結合を与えるジオールと同様なものを例示することができる。   Examples of the diol include the same diol that gives an ether bond in an aromatic polyether nitrile.

(ポリフェニレンオキシド)
ポリフェニレンオキシドは、一般式(−C(CH−O−)n(nは10〜1,000)で表される重合体である。このポリフェニレンオキシドは、2,6−ジメチルフェノール(2,6−キシレノール)の縮合重合によって得られる。
(Polyphenylene oxide)
Polyphenylene oxide is a polymer represented by the general formula (—C 6 H 2 (CH 3 ) 2 —O—) n (n is 10 to 1,000). This polyphenylene oxide is obtained by condensation polymerization of 2,6-dimethylphenol (2,6-xylenol).

{芳香族ポリチオエーテル}
芳香族ポリチオエーテルは、必須の構造単位が、芳香環と別の芳香環とがチオエーテル結合を介して接続されているものである。当該樹脂組成物に使用できる芳香族ポリチオエーテルとしては、特に制限はないが、隣接する芳香環同士がチオエーテル結合を介して連結しているものが好ましい。このような芳香族ポリチオエーテルとしては、ポリフェニレンスルフィド等が挙げられる。
{Aromatic polythioether}
The aromatic polythioether is an essential structural unit in which an aromatic ring and another aromatic ring are connected via a thioether bond. Although there is no restriction | limiting in particular as aromatic polythioether which can be used for the said resin composition, The thing in which the adjacent aromatic rings are connected through the thioether bond is preferable. Examples of such aromatic polythioethers include polyphenylene sulfide.

芳香族ポリチオエーテルは、例えば、ジハライド化合物と、硫化ナトリウムとを共重合させることにより、合成することができる。ジハライド化合物としては、オルトジクロロベンゼン、メタジクロロベンゼン、パラジクロロベンゼン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン、4,4’−ジクロロビフェニル等が挙げられる。   The aromatic polythioether can be synthesized, for example, by copolymerizing a dihalide compound and sodium sulfide. Examples of the dihalide compound include orthodichlorobenzene, metadichlorobenzene, paradichlorobenzene, 4,4'-dichlorobenzophenone, 4,4'-dichlorodiphenyl sulfone, 4,4'-dichlorobiphenyl, and the like.

芳香族ポリ(チオ)エーテルのガラス転移温度(Tg)は、通常150℃〜350℃であり、好ましくは250℃〜300℃である。ガラス転移温度が150℃以上の場合、得られる成形体の熱安定性が高くなる。一方、ガラス転移温度が350℃以下の場合、成形時の熱分解を抑制できる。なお、ガラス転移温度(Tg)は後述する実施例に記載の方法により測定した値である。   The glass transition temperature (Tg) of the aromatic poly (thio) ether is usually 150 ° C to 350 ° C, preferably 250 ° C to 300 ° C. When the glass transition temperature is 150 ° C. or higher, the thermal stability of the obtained molded body is increased. On the other hand, when the glass transition temperature is 350 ° C. or lower, thermal decomposition during molding can be suppressed. In addition, glass transition temperature (Tg) is the value measured by the method as described in the Example mentioned later.

芳香族ポリ(チオ)エーテルの重量平均分子量(Mw)は、通常15,000〜250,000であり、好ましくは20,000〜200,000である。重量平均分子量(Mw)が15,000未満であると、樹脂組成物の粘度が小さくなり、射出成形性等が悪化するおそれがある。重量平均分子量(Mw)が250,000を超えると、芳香族ポリ(チオ)エーテルを溶融させたときの粘度が大きくなり、成形性等が悪化するおそれがある。なお、重量平均分子量(Mw)は、後述する実施例に記載の方法により測定した値である。   The weight average molecular weight (Mw) of the aromatic poly (thio) ether is usually 15,000 to 250,000, preferably 20,000 to 200,000. When the weight average molecular weight (Mw) is less than 15,000, the viscosity of the resin composition becomes small, and the injection moldability and the like may be deteriorated. When the weight average molecular weight (Mw) exceeds 250,000, the viscosity when the aromatic poly (thio) ether is melted increases, and the moldability and the like may be deteriorated. In addition, a weight average molecular weight (Mw) is the value measured by the method as described in the Example mentioned later.

当該樹脂組成物における芳香族ポリ(チオ)エーテルの含有量は、上述のように特定の有機溶媒の含有量の場合と同様に、当該樹脂組成物の取り扱い性を確保しつつ、当該樹脂組成物から得るべき成形体の態様に応じた成形性等を好適に確保できるように適宜選択すればよい。当該樹脂組成物における芳香族ポリ(チオ)エーテルの含有量は、例えば、当該樹脂組成物をキャスト法に適用する場合、通常、当該樹脂組成物の全量における5質量%以上50質量%以下であり、5質量%以上40質量%以下が好ましく、10質量%以上30質量%以下がより好ましい。また、当該樹脂組成物を濃縮して、射出成形法や押出成形法等に用いるペレットに加工する場合、濃縮前の当該樹脂組成物における芳香族ポリ(チオ)エーテルの含有量は、通常、当該樹脂組成物の全量における10質量%以上50質量%以下であり、20質量%以上40質量%以下が好ましく、25質量%以上35質量%以下がより好ましい。   The content of the aromatic poly (thio) ether in the resin composition is the same as in the case of the content of the specific organic solvent as described above, while ensuring the handleability of the resin composition. Therefore, it may be selected as appropriate so that the moldability and the like according to the form of the molded body to be obtained can be suitably secured. For example, when the resin composition is applied to a casting method, the content of the aromatic poly (thio) ether in the resin composition is usually 5% by mass or more and 50% by mass or less based on the total amount of the resin composition. 5 mass% or more and 40 mass% or less are preferable, and 10 mass% or more and 30 mass% or less are more preferable. In addition, when the resin composition is concentrated and processed into pellets for use in an injection molding method, an extrusion molding method, or the like, the content of the aromatic poly (thio) ether in the resin composition before concentration is usually It is 10 mass% or more and 50 mass% or less in the whole quantity of a resin composition, 20 mass% or more and 40 mass% or less are preferable, and 25 mass% or more and 35 mass% or less are more preferable.

当該樹脂組成物の粘度は、芳香族ポリ(チオ)エーテルの分子量や含有量にもよるが、シートやフィルムを形成する組成物として調製する場合、通常、2,000mPa・s〜100,000mPa・s、好ましくは3,000mPa・s〜50,000mPa・sである。このような範囲に当該樹脂組成物の粘度を設定することで、成膜中の組成物の滞留性に優れ、厚みの調整が容易であるため、シートやフィルムの成形が容易である。   The viscosity of the resin composition depends on the molecular weight and content of the aromatic poly (thio) ether, but when prepared as a composition for forming a sheet or film, it is usually from 2,000 mPa · s to 100,000 mPa · s. s, preferably 3,000 mPa · s to 50,000 mPa · s. By setting the viscosity of the resin composition within such a range, the composition can be easily retained during film formation, and the thickness can be easily adjusted. Therefore, the sheet or film can be easily molded.

[任意成分]
当該樹脂組成物は、特定の有機溶媒及び芳香族ポリ(チオ)エーテルの他に、任意成分を含有していてもよい。このような任意成分としては特に制限はなく、当該樹脂組成物から得るべき成形体の種類等によって適宜選択すればよい。任意成分としては、例えば酸化防止剤、滑剤、難燃剤、抗菌剤、着色剤、離型剤、発泡剤が挙げられる。これらの任意成分は、1種を単独で使用してもよいし複数種を組み合わせて使用してもよい。
[Optional ingredients]
The resin composition may contain an optional component in addition to the specific organic solvent and the aromatic poly (thio) ether. There is no restriction | limiting in particular as such an arbitrary component, What is necessary is just to select suitably according to the kind etc. of the molded object which should be obtained from the said resin composition. Examples of optional components include antioxidants, lubricants, flame retardants, antibacterial agents, colorants, mold release agents, and foaming agents. These arbitrary components may be used individually by 1 type, and may be used in combination of multiple types.

<芳香族ポリ(チオ)エーテルの製造方法>
芳香族ポリ(チオ)エーテルは、例えば特定の有機溶媒中で芳香環を与える化合物(以下「化合物(A)」ともいう)と(チオ)エーテル結合を与える化合物(以下「化合物(B)」ともいう)とを所定の反応条件下で縮重合させることで製造することができる。芳香族ポリ(チオ)エーテルの合成に際して、必要に応じて、特定の有機溶媒中に他の構造単位を与える化合物、アルカリ金属化合物、他の溶媒等を混合してもよい。
<Method for producing aromatic poly (thio) ether>
Aromatic poly (thio) ether includes, for example, a compound that gives an aromatic ring in a specific organic solvent (hereinafter also referred to as “compound (A)”) and a compound that gives a (thio) ether bond (hereinafter referred to as “compound (B)”). Can be produced by condensation polymerization under predetermined reaction conditions. In synthesizing the aromatic poly (thio) ether, if necessary, a compound giving another structural unit, an alkali metal compound, another solvent, and the like may be mixed in a specific organic solvent.

[化合物(A)]
化合物(A)は、合成すべき芳香族ポリ(チオ)エーテルの種類に応じて選択すればよい。化合物(A)としては、例えばポリエーテルニトリルを合成する場合にはジハライドベンゾニトリル、ポリエーテルケトンを合成する場合にはジハライドベンゾフェノン、ポリエーテルスルホンを合成する場合にはジハライドジフェニルスルホンが挙げられる。
[Compound (A)]
The compound (A) may be selected according to the type of aromatic poly (thio) ether to be synthesized. Examples of the compound (A) include dihalide benzonitrile when synthesizing polyether nitrile, dihalide benzophenone when synthesizing polyether ketone, and dihalide diphenyl sulfone when synthesizing polyether sulfone. It is done.

ジハライドベンゾニトリル、ジハライドベンゾフェノン及びジハライドジフェニルスルホンとしては、当該樹脂組成物の必須の構造単位における芳香環を与える化合物として例示したものと同様なものが挙げられる。   Examples of the dihalide benzonitrile, dihalide benzophenone, and dihalide diphenyl sulfone include the same compounds as those exemplified as the compound that gives an aromatic ring in the essential structural unit of the resin composition.

[化合物(B)]
化合物(B)としては、当該樹脂組成物の必須の構造単位における(チオ)エーテル結合を与える化合物として例示したものと同様なものが挙げられる。
[Compound (B)]
Examples of the compound (B) include the same compounds as those exemplified as the compound giving a (thio) ether bond in the essential structural unit of the resin composition.

[特定の有機溶媒]
特定の有機溶媒は、上述のように上記式(1)で表される特定のベンゾニトリル系溶媒、又は特定のエーテル系溶媒であり、当該樹脂組成物に含有される特定のベンゾニトリル系溶媒及び特定のエーテル系溶媒と同様なものを例示することができる。特定の有機溶媒は、1種を単独で使用してもよいし複数種を組み合わせて使用してもよい。
[Specific organic solvent]
The specific organic solvent is a specific benzonitrile-based solvent represented by the above formula (1) or a specific ether-based solvent as described above, and the specific benzonitrile-based solvent contained in the resin composition and The thing similar to a specific ether solvent can be illustrated. A specific organic solvent may be used individually by 1 type, and may be used in combination of multiple types.

[他の溶媒]
他の溶媒としては、アミド基を有しないものであればよく、例えば当該樹脂組成物に含有される他の溶媒と同様に、特定の有機溶媒以外の非プロトン性極性溶媒、共沸溶媒を使用することができる。
[Other solvents]
Any other solvent may be used as long as it does not have an amide group. For example, an aprotic polar solvent other than a specific organic solvent or an azeotropic solvent is used in the same manner as other solvents contained in the resin composition. can do.

[アルカリ金属化合物]
アルカリ金属化合物は、芳香族ポリ(チオ)エーテルの合成の過程で、ジオール等と反応してアルカリ金属塩を形成する。このようなアルカリ金属化合物としては、例えば
リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属;
水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の水素化アルカリ金属;
水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属;
炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩;
炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩などが挙げられる。これらの中で、アルカリ金属炭酸塩が好ましく、炭酸カリウムがより好ましい。
[Alkali metal compounds]
The alkali metal compound forms an alkali metal salt by reacting with a diol or the like in the process of synthesis of the aromatic poly (thio) ether. Examples of such alkali metal compounds include alkali metals such as lithium, sodium, and potassium;
Alkali metal hydrides such as lithium hydride, sodium hydride, potassium hydride;
Alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide;
Alkali metal carbonates such as lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate;
Examples thereof include alkali metal hydrogen carbonates such as lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, and potassium hydrogen carbonate. Of these, alkali metal carbonates are preferred, and potassium carbonate is more preferred.

アルカリ金属化合物の使用量としては、芳香族ポリ(チオ)エーテルの合成に用いる全化合物の水酸基に対し、アルカリ金属化合物中の金属原子の量が、通常1倍当量〜3倍当量、好ましくは1.1倍当量〜2倍当量、より好ましくは1.2倍当量〜1.5倍当量となる量である。   With respect to the amount of the alkali metal compound used, the amount of metal atoms in the alkali metal compound is usually 1 to 3 equivalents, preferably 1 with respect to the hydroxyl groups of all compounds used for the synthesis of the aromatic poly (thio) ether. .1 times equivalent to 2 times equivalent, more preferably 1.2 times equivalent to 1.5 times equivalent.

[反応条件]
芳香族ポリ(チオ)エーテルを合成する際の反応条件は、合成時の反応溶液の組成等に応じて適宜設定すればよいが、通常、反応温度が100℃〜250℃、反応時間が0.5時間〜20時間とされる。
[Reaction conditions]
The reaction conditions for synthesizing the aromatic poly (thio) ether may be appropriately set according to the composition of the reaction solution at the time of synthesis, but the reaction temperature is usually 100 ° C. to 250 ° C., and the reaction time is 0.00. 5 to 20 hours.

当該芳香族ポリ(チオ)エーテルの製造方法によれば、特定の有機溶媒を含有することで、芳香族ポリ(チオ)エーテルの合成時の芳香族求核置換反応が促進され、高分子量体、例えば上述の重量平均分子量(Mw)を有する芳香族ポリ(チオ)エーテルを好適に得ることができる。   According to the method for producing the aromatic poly (thio) ether, the aromatic nucleophilic substitution reaction during the synthesis of the aromatic poly (thio) ether is promoted by containing a specific organic solvent, For example, an aromatic poly (thio) ether having the above-described weight average molecular weight (Mw) can be suitably obtained.

また、当該芳香族ポリ(チオ)エーテルの製造に使用される特定の有機溶媒は、当該樹脂組成物に含有される特定の有機溶媒と同様なもの、すなわちアミド基を含まないものであるため生体毒性の問題もない。さらに、特定の有機溶媒を使用することで、溶媒の分解生成物に起因する不都合、例えば芳香族ポリ(チオ)エーテルの合成阻害や合成後の重合体溶液の着色を抑制できる。   In addition, the specific organic solvent used for the production of the aromatic poly (thio) ether is the same as the specific organic solvent contained in the resin composition, that is, a substance that does not contain an amide group. There is no problem of toxicity. Furthermore, by using a specific organic solvent, inconveniences caused by the decomposition products of the solvent, for example, inhibition of synthesis of aromatic poly (thio) ether and coloring of the polymer solution after synthesis can be suppressed.

加えて、特定の有機溶媒が生体毒性の問題もなく、芳香族ポリ(チオ)エーテルの合成後の重合体溶液の着色を抑制できることから、合成後において非プロトン性極性溶媒を置換することなく、重合体溶液を当該樹脂組成物として使用できる。すなわち、芳香族ポリ(チオ)エーテルの合成後に成形体の着色を抑制する等の理由のために、芳香族ポリ(チオ)エーテルを沈殿させた後に溶媒に再溶解させて組成物を調製する必要がないため、当該樹脂組成物はプロセス的に有利に調製できる。このように、当該芳香族ポリ(チオ)エーテルの製造によれば、成形体の着色を抑制することでき、プロセス的に有利に調製できる樹脂組成物を提供することができる。   In addition, since the specific organic solvent has no problem of biotoxicity and can suppress coloring of the polymer solution after the synthesis of the aromatic poly (thio) ether, without replacing the aprotic polar solvent after the synthesis, A polymer solution can be used as the resin composition. That is, it is necessary to prepare the composition by precipitating the aromatic poly (thio) ether and then re-dissolving it in the solvent for reasons such as suppressing coloring of the molded product after the synthesis of the aromatic poly (thio) ether. Therefore, the resin composition can be advantageously prepared in a process. Thus, according to the production of the aromatic poly (thio) ether, it is possible to provide a resin composition that can suppress coloring of the molded body and can be advantageously prepared in a process.

<樹脂組成物の調製方法>
本発明の樹脂組成物は、芳香族ポリ(チオ)エーテル及び特定の有機溶媒の混合液に、必要に応じて、他の溶媒や任意成分を混合することで調製することができる。芳香族ポリ(チオ)エーテルと特定の有機溶媒との混合液は、芳香族ポリ(チオ)エーテルの合成後の重合体溶液から得られる芳香族ポリ(チオ)エーテル粉末を溶媒に再溶解させたものを使用することができるが、上述のように芳香族ポリ(チオ)エーテル合成後の重合体溶液を使用することが好ましい。この重合体溶液は、そのまま当該樹脂組成物の調製に使用してもよく、また溶媒の一部(例えば他の溶媒としての極性溶媒)を除去し、あるいは溶媒(例えば芳香族ポリ(チオ)エーテルの合成時に使用する特定のベンゾニトリル系溶媒や特定のエーテル系溶媒)を加えて芳香族ポリ(チオ)エーテルの含有量を調整して当該樹脂組成物としてもよい。
<Method for preparing resin composition>
The resin composition of this invention can be prepared by mixing another solvent and arbitrary components with the liquid mixture of aromatic poly (thio) ether and a specific organic solvent as needed. The mixed liquid of the aromatic poly (thio) ether and the specific organic solvent was obtained by re-dissolving the aromatic poly (thio) ether powder obtained from the polymer solution after the synthesis of the aromatic poly (thio) ether in the solvent. Although a thing can be used, it is preferable to use the polymer solution after aromatic poly (thio) ether synthesis | combination as mentioned above. This polymer solution may be used for the preparation of the resin composition as it is, or a part of the solvent (for example, a polar solvent as another solvent) is removed or the solvent (for example, aromatic poly (thio) ether). The resin composition may be prepared by adjusting the content of the aromatic poly (thio) ether by adding a specific benzonitrile solvent or a specific ether solvent used in the synthesis.

当該樹脂組成物によれば、特定の有機溶媒がアミド基を含まないため、生体毒性の問題もなく、芳香族ポリ(チオ)エーテルの合成時における溶媒の分解生成物に起因する重合阻害、重合溶液や成形体の着色を抑制することが可能となる。   According to the resin composition, since the specific organic solvent does not contain an amide group, there is no problem of biotoxicity, polymerization inhibition and polymerization caused by the decomposition product of the solvent during the synthesis of aromatic poly (thio) ether. It becomes possible to suppress coloring of a solution or a molded object.

また、当該樹脂組成物に必須成分として含有される特定のベンゾニトリル系溶媒及び特定のエーテル系溶媒は、芳香族ポリ(チオ)エーテルの合成に使用できるものであり、無色透明又はそれに近い色相を有する。そのため、上述のように芳香族ポリ(チオ)エーテルの合成後に溶媒の置換を行うまでもなく、芳香族ポリ(チオ)エーテルの合成後の重合体溶液をそのまま、あるいは溶媒濃度を調製することで樹脂組成物として利用することができるため、プロセス的に有利である。従って、当該樹脂組成物は、高い透明性が求められる用途、例えば耐熱透明フィルム、透明回路基板、レンズ、太陽電池基板等の形成に好適に使用することができる。   In addition, the specific benzonitrile solvent and the specific ether solvent contained as essential components in the resin composition can be used for the synthesis of aromatic poly (thio) ether, and have a colorless, transparent or close hue. Have. Therefore, as described above, it is not necessary to replace the solvent after the synthesis of the aromatic poly (thio) ether, and the polymer solution after the synthesis of the aromatic poly (thio) ether is used as it is or by adjusting the solvent concentration. Since it can be used as a resin composition, it is advantageous in terms of process. Therefore, the said resin composition can be used conveniently for the use as which high transparency is calculated | required, for example, formation of a heat-resistant transparent film, a transparent circuit board, a lens, a solar cell board | substrate, etc.

<成形体>
本発明の成形体は、特定の有機溶媒及び芳香族ポリ(チオ)エーテルを含有する成形体である。ここで、本発明において「成形体」とは、樹脂組成物から形成される流動性のない固体状のものをいう。また、本発明における「成形体」は、少なくともペレット、フィルム、シート及び射出成形体を含む。
<Molded body>
The molded product of the present invention is a molded product containing a specific organic solvent and an aromatic poly (thio) ether. Here, in the present invention, the “molded body” refers to a solid material having no fluidity formed from a resin composition. The “molded product” in the present invention includes at least a pellet, a film, a sheet, and an injection molded product.

当該成形体における特定の有機溶媒は、上述した特定のベンゾニトリル系溶媒又は特定のエーテル系溶媒である。当該成形体における特定の有機溶媒の含有量(残存溶媒濃度)としては、5ppm以上5,000ppm以下が好ましい。特定の有機溶媒の含有量(残存溶媒濃度)の上限としては、3,000ppmがより好ましく、2,000ppmがさらに好ましい。なお、当該成形体における特定の有機溶媒の含有量(残存溶媒濃度)は、後述する実施例に記載の方法により測定した値である。   The specific organic solvent in the molded body is the specific benzonitrile solvent or the specific ether solvent described above. The specific organic solvent content (residual solvent concentration) in the molded article is preferably 5 ppm or more and 5,000 ppm or less. As an upper limit of content (residual solvent concentration) of a specific organic solvent, 3,000 ppm is more preferable, and 2,000 ppm is more preferable. In addition, content (residual solvent density | concentration) of the specific organic solvent in the said molded object is the value measured by the method as described in the Example mentioned later.

当該成形体における芳香族ポリ(チオ)エーテルとしては、特に制限はないが、例えば芳香族ポリエーテルニトリル、芳香族ポリエーテルケトン、芳香族ポリエーテルエーテルケトン、芳香族ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレンスルフィドが挙げられる。これらの中でも、芳香族ポリエーテルニトリル、芳香族ポリエーテルケトン、芳香族ポリエーテルスルホンが好ましい。   The aromatic poly (thio) ether in the molded article is not particularly limited, and examples thereof include aromatic polyether nitrile, aromatic polyether ketone, aromatic polyether ether ketone, aromatic polyether sulfone, polyphenylene oxide, and polyphenylene. And sulfide. Among these, aromatic polyether nitrile, aromatic polyether ketone, and aromatic polyether sulfone are preferable.

当該成形体の色相変化(Δb)としては、1.25以下が好ましく、1.15以下がより好ましく、1.10以下がさらに好ましく、1.05以下が特に好ましく、1.00以下が最も好ましい。色相変化(Δb)は、後述する実施例に記載の方法により測定した値である。 The hue change (Δb * ) of the molded article is preferably 1.25 or less, more preferably 1.15 or less, further preferably 1.10 or less, particularly preferably 1.05 or less, and most preferably 1.00 or less. preferable. The hue change (Δb * ) is a value measured by the method described in Examples described later.

[ペレット]
ペレットは、射出成形や押出成形等により成形体を形成するための材料であり、例えば粒状、柱状の形態を有している。ペレットのサイズは、特に制限はなく、得るべき成形体の形態、使用する成形装置のサイズ等により適宜設定すればよく、通常、粒状のペレットの場合は平均粒径が1mm〜10mm、柱状のペレットの場合は長さが1mm〜10mm、幅(直径)が0.5mm〜5mmとされる。なお、ペレットの平均粒径は、レーザ回折法に測定した体積粒度分布から算出されるメディアン径(d50)である。
[pellet]
The pellet is a material for forming a molded body by injection molding, extrusion molding, or the like, and has, for example, a granular or columnar form. The size of the pellet is not particularly limited, and may be set as appropriate depending on the form of the molded body to be obtained, the size of the molding apparatus to be used, and the like. In this case, the length is 1 mm to 10 mm, and the width (diameter) is 0.5 mm to 5 mm. The average particle diameter of pellets is the median diameter calculated from the volume particle size distribution measured in a laser diffraction method (d 50).

(ペレットの製造方法)
ペレットの製造方法としては、特に制限はないが、例えば当該樹脂組成物を溶融押出した後に所定寸法に切断する方法が挙げられる。具体的には、ペレットは、二軸押出機を用いて当該樹脂組成物を脱溶し、溶融混練して押出したストランドをペレタイザーにて所定寸法に切断、粉砕することにより得ることができる。
(Pellet production method)
Although there is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of a pellet, For example, the method of cut | disconnecting to the predetermined dimension after melt-extruding the said resin composition is mentioned. Specifically, pellets can be obtained by demelting the resin composition using a twin screw extruder, cutting and pulverizing the extruded strand after melt-kneading into a predetermined size with a pelletizer.

ペレットは、当該樹脂組成物を貧溶媒中に押出して析出及び/又は凝固させ、それを洗浄及び/又は乾燥した後、所望寸法に切断、粉砕することにより製造することもできる。   The pellets can also be produced by extruding the resin composition in a poor solvent, precipitating and / or solidifying it, washing and / or drying it, and cutting and pulverizing it to a desired size.

[フィルム及びシート]
フィルム及びシートは、例えば光学シート、耐熱透明フィルム、透明回路基板、太陽電池基板フィルム等に適用されるものである。フィルムは、特定の有機溶媒及び芳香族ポリ(チオ)エーテルを含有する樹脂組成物、例えば当該樹脂組成物を用いて平均厚みを200μm未満に成形したものである。一方、シートは、平均厚みが200μm以上となるように成形したものをいう。ここで、「平均厚み」とは、JIS K 7130:1999に準拠して測定した値をいう。
[Film and sheet]
The film and sheet are applied to, for example, an optical sheet, a heat-resistant transparent film, a transparent circuit board, a solar cell substrate film, and the like. The film is formed by using a resin composition containing a specific organic solvent and an aromatic poly (thio) ether, for example, an average thickness of less than 200 μm using the resin composition. On the other hand, a sheet means what was shape | molded so that average thickness might be 200 micrometers or more. Here, “average thickness” refers to a value measured according to JIS K 7130: 1999.

(フィルム及びシートの製造方法)
フィルム及びシートの製造方法としては、特に制限はないが、例えば溶剤キャスト法、溶融押出成形法が挙げられる。
(Film and sheet manufacturing method)
Although there is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of a film and a sheet | seat, For example, the solvent cast method and the melt extrusion molding method are mentioned.

フィルム及びシートは、溶剤キャスト法の場合、基板に対して樹脂組成物を塗工して形成した塗膜を乾燥し、必要に応じて塗膜を焼成することで製造することができる。この場合のフィルム及びシートは、基板に形成した状態であってもよいし、基板から剥離したものであってもよい。   In the case of the solvent casting method, the film and the sheet can be produced by drying a coating film formed by applying a resin composition to a substrate and firing the coating film as necessary. In this case, the film and sheet may be formed on the substrate or may be peeled off from the substrate.

樹脂組成物の塗工法としては、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法(スピンコート法)、スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット法が挙げられる。   Examples of the coating method of the resin composition include a spray method, a roll coating method, a spin coating method (spin coating method), a slit die coating method, a bar coating method, and an ink jet method.

塗膜の乾燥は、例えば加熱装置による加熱、真空乾燥機による減圧乾燥、温風(熱風)発生機による温風(熱風)乾燥、自然乾燥、これらの2以上の組み合わせにより行うことができる。加熱、減圧乾燥及び温風(熱風)による塗膜の乾燥条件は、芳香族ポリ(チオ)エーテルの融点、特定の有機溶媒等の溶媒類の沸点、溶媒類の容量等に応じて適宜設定すればよく、例えば50℃〜250℃、5分〜1時間とされる。   The coating film can be dried by, for example, heating with a heating device, vacuum drying with a vacuum dryer, warm air (hot air) drying with a warm air (hot air) generator, natural drying, or a combination of two or more of these. The conditions for drying the coating film by heating, vacuum drying and warm air (hot air) should be set appropriately according to the melting point of the aromatic poly (thio) ether, the boiling point of the solvent such as a specific organic solvent, the capacity of the solvent, etc. For example, it is set to 50 ° C. to 250 ° C., 5 minutes to 1 hour.

塗膜の焼成は、例えば加熱装置による加熱、真空乾燥機による減圧乾燥、温風発生機による温風乾燥、これらの2以上の組み合わせにより行うことができる。加熱、減圧乾燥及び温風による塗膜の焼成条件は、芳香族ポリ(チオ)エーテルの融点等に応じて適宜設定すればよく、例えば250℃〜400℃、5分〜1時間とされる。なお、塗膜の焼成は省略することができ、また塗膜の乾燥と同時に行ってもよい。   The coating film can be baked by, for example, heating with a heating device, vacuum drying with a vacuum dryer, hot air drying with a hot air generator, or a combination of two or more of these. What is necessary is just to set suitably the baking conditions of the coating film by a heating, decompression drying, and warm air according to melting | fusing point etc. of aromatic poly (thio) ether, for example, it is 250 to 400 degreeC, and it is 5 minutes to 1 hour. In addition, baking of a coating film can be abbreviate | omitted and you may carry out simultaneously with drying of a coating film.

一方、押出成形法としては、例えば溶融押出法、半溶融押出法が挙げられるが、溶融押出法が好ましい。溶融押出法としては、各種形状のダイを用いた方法が挙げられるが、中でも、Tダイ、コートハンガーダイを用いる方法が好ましい。押出成形法により得られるフィルム又はシートは、延伸処理を施してもよい。これにより、フィルム又はシートを光学フィルムに適用することが可能となる。   On the other hand, examples of the extrusion molding method include a melt extrusion method and a semi-melt extrusion method, and the melt extrusion method is preferable. Examples of the melt extrusion method include methods using dies having various shapes, and among these, methods using a T die and a coat hanger die are preferable. The film or sheet obtained by the extrusion method may be subjected to stretching treatment. Thereby, it becomes possible to apply a film or a sheet to an optical film.

このような溶融押出では、熱溶融された樹脂組成物をダイから押出した後、金属ベルト、冷却ロール等に密着させてシート化し、この高分子シートを冷却した後に巻き取ることでロール状の光学シートが得られる。   In such melt-extrusion, a heat-melted resin composition is extruded from a die, and is then brought into close contact with a metal belt, a cooling roll or the like to form a sheet. A sheet is obtained.

[射出成形体]
射出成形体とは、樹脂組成物(芳香族ポリ(チオ)エーテル)を加熱溶融させた材料を金型内に射出注入し、冷却・固化させることによって成形したものをいう。このような射出成形体としては、例えば光学部品が挙げられる。光学部品としては、例えば波長板、位相差板等の光学フィルム、円錐レンズ、球面レンズ、円筒レンズ等の各種特殊レンズ、レンズアレイなどが挙げられる。
[Injection molded body]
The injection-molded product refers to a material molded by injecting a material obtained by heating and melting a resin composition (aromatic poly (thio) ether) into a mold, and cooling and solidifying the material. Examples of such injection-molded bodies include optical components. Examples of the optical component include optical films such as a wave plate and a retardation plate, various special lenses such as a conical lens, a spherical lens, and a cylindrical lens, and a lens array.

以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明する。但し、本発明は、以下の実施例により限定されるものではない。   Hereinafter, based on an Example, this invention is demonstrated more concretely. However, the present invention is not limited to the following examples.

<芳香族ポリエーテルニトリルの合成及び樹脂組成物の調製>
[実施例1]
4つ口フラスコに、温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、Dean−Stark管及び冷却管を取り付け、2,6−ジフルオロベンゾニトリル34.91g(0.251mol)、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン(以下、「BPFL」ともいう。)87.53g(0.250mol)、炭酸カリウム44.92g(0.325mol)、ベンゾニトリル(以下、「BN」ともいう。)490g及びトルエン122gを添加した。
<Synthesis of aromatic polyether nitrile and preparation of resin composition>
[Example 1]
A four-necked flask was equipped with a thermometer, a stirrer, a three-way cock with a nitrogen inlet tube, a Dean-Stark tube and a condenser tube, and 34.91 g (0.251 mol) of 2,6-difluorobenzonitrile, 9,9-bis 87.53 g (0.250 mol) of (4-hydroxyphenyl) fluorene (hereinafter also referred to as “BPFL”), 44.92 g (0.325 mol) of potassium carbonate, and 490 g of benzonitrile (hereinafter also referred to as “BN”). And 122 g of toluene were added.

次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を130℃で3時間反応させ、生成する水をDean−Stark管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、トルエンを除去しながら、徐々に温度を150℃まで上昇させ、そのままの温度で6時間反応させた。   Next, after the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen, the obtained solution was reacted at 130 ° C. for 3 hours, and water produced was removed from the Dean-Stark tube as needed. When no more water was observed, the temperature was gradually raised to 150 ° C. while removing toluene, and the reaction was allowed to proceed at that temperature for 6 hours.

室温(25℃)まで冷却後、生成した塩を濾紙で除去し、濾液をメタノールに投じて再沈殿させ、沈殿物を濾別により単離した。単離された沈殿物を100℃で一晩真空乾燥し、白色粉末(重合体)が得られた(収量107g、収率95%)。   After cooling to room temperature (25 ° C.), the produced salt was removed with filter paper, the filtrate was poured into methanol to reprecipitate, and the precipitate was isolated by filtration. The isolated precipitate was vacuum-dried at 100 ° C. overnight to obtain a white powder (polymer) (yield 107 g, yield 95%).

この白色粉末を重合溶媒と同じBNに溶解させ、芳香族ポリエーテルニトリルの濃度が10質量%である樹脂組成物を調製した。   This white powder was dissolved in the same BN as the polymerization solvent to prepare a resin composition having an aromatic polyether nitrile concentration of 10% by mass.

[実施例2]
重合溶媒としてのBNに代えて、ジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグライム)490gを使用した以外は実施例1と同様にして芳香族ポリエーテルニトリルの合成及び精製を行った。その結果、白色粉末(重合体)が得られた(収量105g、収率93%)。
[Example 2]
The aromatic polyether nitrile was synthesized and purified in the same manner as in Example 1 except that 490 g of diethylene glycol dimethyl ether (diglyme) was used instead of BN as the polymerization solvent. As a result, a white powder (polymer) was obtained (yield 105 g, yield 93%).

この白色粉末を重合溶媒と同じジグライムに溶解させ、芳香族ポリエーテルニトリルの濃度が10質量%である樹脂組成物を調製した。   This white powder was dissolved in the same diglyme as the polymerization solvent to prepare a resin composition having an aromatic polyether nitrile concentration of 10% by mass.

[比較例1]
重合溶媒としてのBNに代えて、ジメチルアセトアミド(DMAc)490gを使用した以外は実施例1と同様にして芳香族ポリエーテルニトリルの合成及び精製を行った。その結果、白色粉末(重合体)が得られた(収量106g、収率94%)。
[Comparative Example 1]
The aromatic polyether nitrile was synthesized and purified in the same manner as in Example 1 except that 490 g of dimethylacetamide (DMAc) was used instead of BN as the polymerization solvent. As a result, white powder (polymer) was obtained (yield 106 g, yield 94%).

この白色粉末を重合溶媒と同じDMAcに溶解させ、芳香族ポリエーテルニトリルの濃度が10質量%である樹脂組成物を調製した。   This white powder was dissolved in the same DMAc as the polymerization solvent to prepare a resin composition having an aromatic polyether nitrile concentration of 10% by mass.

[比較例2]
重合溶媒としてのBNに代えて、N−メチルピロリドン(NMP)490gを使用した以外は実施例1と同様にして芳香族ポリエーテルニトリルの合成及び精製を行った。その結果、白色粉末(重合体)が得られた(収量108g、収率95%)。
[Comparative Example 2]
The aromatic polyether nitrile was synthesized and purified in the same manner as in Example 1 except that 490 g of N-methylpyrrolidone (NMP) was used instead of BN as the polymerization solvent. As a result, a white powder (polymer) was obtained (yield: 108 g, yield: 95%).

得られた白色粉末をNMPに溶解させ、芳香族ポリエーテルニトリルの濃度が10質量%である樹脂組成物を調製した。   The obtained white powder was dissolved in NMP to prepare a resin composition having an aromatic polyether nitrile concentration of 10% by mass.

[比較例3]
重合溶媒としてのBNに代えて、アニソール490gを使用した以外は実施例1と同様にして芳香族ポリエーテルニトリルの合成を試みた。重合反応の進行をゲルろ過クロマトグラフィー(GPC)により確認したが、分子量の増加は確認されなかった。
[Comparative Example 3]
Synthesis of an aromatic polyether nitrile was attempted in the same manner as in Example 1 except that 490 g of anisole was used instead of BN as a polymerization solvent. The progress of the polymerization reaction was confirmed by gel filtration chromatography (GPC), but no increase in molecular weight was confirmed.

[比較例4]
重合溶媒としてのBNに代えて、オルトジクロロベンゼン490gを使用した以外は実施例1と同様にして芳香族ポリエーテルニトリルの合成を試みた。重合反応の進行をGPCにより確認したが、分子量の増加は確認されなかった。
[Comparative Example 4]
Synthesis of an aromatic polyether nitrile was attempted in the same manner as in Example 1 except that 490 g of orthodichlorobenzene was used instead of BN as the polymerization solvent. The progress of the polymerization reaction was confirmed by GPC, but no increase in molecular weight was confirmed.

[比較例5]
重合溶媒としてのBNに代えて、ガンマブチロラクトン490gを使用したこと以外は実施例1と同様にして芳香族ポリエーテルニトリルの合成及び精製を行った。その結果、反応液の粘度が著しく増粘し芳香族ポリエーテルニトリルの精製が非常に困難になった。
[Comparative Example 5]
The aromatic polyether nitrile was synthesized and purified in the same manner as in Example 1 except that 490 g of gamma butyrolactone was used instead of BN as the polymerization solvent. As a result, the viscosity of the reaction solution was remarkably increased, making it very difficult to purify the aromatic polyether nitrile.

反応液を分析するために、反応液を少量サンプリングして10倍量のメタノールで凝固し、液相部をガスクロマトグラフィー(GC)で測定した。その結果、重合溶媒のガンマブチロラクトンが分解していることが確認された。重合溶媒のガンマブチロラクトンの一部がガンマブチロラクトン開環物と推定される化合物に分解したため、反応液の粘度が著しく増粘したと考えられる。   In order to analyze the reaction solution, a small amount of the reaction solution was sampled and coagulated with 10 times the amount of methanol, and the liquid phase part was measured by gas chromatography (GC). As a result, it was confirmed that the polymerization solvent gamma-butyrolactone was decomposed. It is considered that the viscosity of the reaction solution was remarkably increased because a part of gamma-butyrolactone as a polymerization solvent was decomposed into a compound presumed to be a gamma-butyrolactone ring-opened product.

[比較例6]
DMAcを重合溶媒に用いて合成及び精製した比較例1の芳香族ポリエーテルニトリルの重合体粉末を、DMAcとアニソールとを質量比50:50で含む混合溶媒に溶解させ、芳香族ポリエーテルニトリルの濃度が10質量%である樹脂組成物を調製した。
[Comparative Example 6]
A polymer powder of aromatic polyether nitrile of Comparative Example 1 synthesized and purified using DMAc as a polymerization solvent was dissolved in a mixed solvent containing DMAc and anisole in a mass ratio of 50:50, and A resin composition having a concentration of 10% by mass was prepared.

[比較例7]
NMPを重合溶媒に用いて合成及び精製した比較例2の芳香族ポリエーテルニトリルの重合体粉末を、NMPとアニソールとを質量比50:50で含む混合溶媒に溶解させ、芳香族ポリエーテルニトリルの濃度が10質量%である樹脂組成物を調製した。
[Comparative Example 7]
The aromatic polyether nitrile polymer powder of Comparative Example 2 synthesized and purified using NMP as a polymerization solvent was dissolved in a mixed solvent containing NMP and anisole at a mass ratio of 50:50, and the aromatic polyether nitrile polymer powder was dissolved. A resin composition having a concentration of 10% by mass was prepared.

[実施例3]
まず、実施例1と同様にして芳香族ポリエーテルニトリルを重合し反応液を得た。この反応液にBNを加えて希釈し、塩をろ紙を用いてろ別した。ろ過した反応液に、イオン交換樹脂(三菱化学社の「ダイヤイオンRCP160M」及び「ダイヤイオンWA21J」)を適量投入し、ミックスローターで2時間攪拌した。撹拌終了後、イオン交換樹脂をろ別し、ポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をエバポレーターを用いて濃縮し、10質量%の樹脂組成物を調製した。また、この樹脂組成物を少量サンプリングしメタノールにより凝固させ、ろ過、乾燥させてGPC測定用のサンプルを調製した。
[Example 3]
First, an aromatic polyether nitrile was polymerized in the same manner as in Example 1 to obtain a reaction solution. BN was added to the reaction solution for dilution, and the salt was filtered off using filter paper. An appropriate amount of ion exchange resins (“Diaion RCP160M” and “Diaion WA21J” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was added to the filtered reaction solution, and the mixture was stirred for 2 hours with a mix rotor. After completion of the stirring, the ion exchange resin was filtered off to obtain a polymer solution. The polymer solution was concentrated using an evaporator to prepare a 10% by mass resin composition. A small amount of this resin composition was sampled, coagulated with methanol, filtered and dried to prepare a sample for GPC measurement.

[実施例4]
まず、実施例2と同様にして芳香族ポリエーテルニトリルを重合し反応液を得た。この反応液にジグライムを加えて希釈し、塩をろ紙を用いてろ別した。ろ過した反応液に、イオン交換樹脂(三菱化学社の「ダイヤイオンRCP160M」及び「ダイヤイオンWA21J」)を適量投入し、ミックスローターで2時間攪拌した。撹拌終了後、イオン交換樹脂をろ別し、ポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をエバポレーターを用いて濃縮し、10質量%の樹脂組成物を調製した。また、この樹脂組成物を少量サンプリングしメタノールにより凝固させ、ろ過、乾燥させてGPC測定用のサンプルを調製した。
[Example 4]
First, an aromatic polyether nitrile was polymerized in the same manner as in Example 2 to obtain a reaction solution. Diglime was added to the reaction solution for dilution, and the salt was filtered off using filter paper. An appropriate amount of ion exchange resins (“Diaion RCP160M” and “Diaion WA21J” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was added to the filtered reaction solution, and the mixture was stirred for 2 hours with a mix rotor. After completion of the stirring, the ion exchange resin was filtered off to obtain a polymer solution. The polymer solution was concentrated using an evaporator to prepare a 10% by mass resin composition. A small amount of this resin composition was sampled, coagulated with methanol, filtered and dried to prepare a sample for GPC measurement.

[比較例8]
まず、比較例1と同様にして芳香族ポリエーテルニトリルを重合し反応液を得た。この反応液にDMAcを加えて希釈し、塩をろ紙を用いてろ別した。ろ過した反応液に、イオン交換樹脂(三菱化学社の「ダイヤイオンRCP160M」及び「ダイヤイオンWA21J」)を適量投入し、ミックスローターで2時間攪拌した。撹拌終了後、イオン交換樹脂をろ別し、ポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をエバポレーターを用いて濃縮し、10質量%の樹脂組成物を調製した。また、この樹脂組成物を少量サンプリングしメタノールにより凝固させ、ろ過、乾燥させてGPC測定用のサンプルを調製した。
[Comparative Example 8]
First, an aromatic polyether nitrile was polymerized in the same manner as in Comparative Example 1 to obtain a reaction solution. DMAc was added to the reaction solution for dilution, and the salt was filtered off using filter paper. An appropriate amount of ion exchange resins (“Diaion RCP160M” and “Diaion WA21J” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was added to the filtered reaction solution, and the mixture was stirred for 2 hours with a mix rotor. After completion of the stirring, the ion exchange resin was filtered off to obtain a polymer solution. The polymer solution was concentrated using an evaporator to prepare a 10% by mass resin composition. A small amount of this resin composition was sampled, coagulated with methanol, filtered and dried to prepare a sample for GPC measurement.

[比較例9]
まず、比較例2と同様にして芳香族ポリエーテルニトリルを重合し反応液を得た。この反応液にNMPを加えて希釈し、塩をろ紙を用いてろ別した。ろ過した反応液に、イオン交換樹脂(三菱化学社の「ダイヤイオンRCP160M」及び「ダイヤイオンWA21J」)を適量投入し、ミックスローターで2時間攪拌した。撹拌終了後、イオン交換樹脂をろ別し、ポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をエバポレーターを用いて濃縮し、10質量%の樹脂組成物を調製した。また、この樹脂組成物を少量サンプリングしメタノールにより凝固させ、ろ過、乾燥させてGPC測定用のサンプルを調製した。
[Comparative Example 9]
First, an aromatic polyether nitrile was polymerized in the same manner as in Comparative Example 2 to obtain a reaction solution. NMP was added to the reaction solution for dilution, and the salt was filtered off using filter paper. An appropriate amount of ion exchange resins (“Diaion RCP160M” and “Diaion WA21J” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was added to the filtered reaction solution, and the mixture was stirred for 2 hours with a mix rotor. After completion of the stirring, the ion exchange resin was filtered off to obtain a polymer solution. The polymer solution was concentrated using an evaporator to prepare a 10% by mass resin composition. A small amount of this resin composition was sampled, coagulated with methanol, filtered and dried to prepare a sample for GPC measurement.

<芳香族ポリエーテルスルホンの合成及び樹脂組成物の調製>
[実施例5]
2Lの4つ口フラスコに、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン(以下「DCDPS」ともいう。)72.51g(0.2525mol)、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン(BPFL)70.03g(0.2000mol)、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン16.81g(0.0500mol)、炭酸カリウム41.46g(0.3000mol)、BN640g及びトルエン160gを添加した。続いて、4つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、Dean−Stark管及び冷却管を取り付けた。
<Synthesis of aromatic polyethersulfone and preparation of resin composition>
[Example 5]
In a 2 L four-necked flask, 72.51 g (0.2525 mol) of 4,4′-dichlorodiphenylsulfone (hereinafter also referred to as “DCDPS”), 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene (BPFL) 70 0.03 g (0.2000 mol), 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane 16.81 g (0.0500 mol), potassium carbonate 41.46 g ( 0.3000 mol), 640 g of BN and 160 g of toluene were added. Subsequently, a thermometer, a stirrer, a three-way cock with a nitrogen introduction tube, a Dean-Stark tube and a cooling tube were attached to the four-necked flask.

次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を130℃で3時間反応させ、生成する水をDean−Stark管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、徐々に温度を150℃まで上昇させ、そのままの温度で5時間反応させた。   Next, after the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen, the obtained solution was reacted at 130 ° C. for 3 hours, and water produced was removed from the Dean-Stark tube as needed. When no more water was observed, the temperature was gradually raised to 150 ° C. and reacted at that temperature for 5 hours.

室温(25℃)まで冷却後、生成した塩を濾紙で除去し、濾液をメタノールに投じて再沈殿させ、沈殿物を濾別によりを単離した。単離された沈殿物を60℃で一晩真空乾燥し、白色粉末(重合体)を得た(収量133g、収率94%)。   After cooling to room temperature (25 ° C.), the produced salt was removed with a filter paper, the filtrate was poured into methanol for reprecipitation, and the precipitate was isolated by filtration. The isolated precipitate was vacuum-dried overnight at 60 ° C. to obtain a white powder (polymer) (yield 133 g, yield 94%).

得られた白色粉末をBNに溶解させ、芳香族ポリエーテルスルホンの濃度が10質量%である樹脂組成物を調製した。   The obtained white powder was dissolved in BN to prepare a resin composition having an aromatic polyethersulfone concentration of 10% by mass.

[実施例6]
重合溶媒としてのBNに代えて、ジグライム640gを使用した以外は実施例5と同様にして芳香族ポリエーテルスルホンの合成を行った。その結果、白色粉末(重合体)が得られた(収量105g、収率93%)。
[Example 6]
An aromatic polyether sulfone was synthesized in the same manner as in Example 5 except that 640 g of diglyme was used instead of BN as a polymerization solvent. As a result, a white powder (polymer) was obtained (yield 105 g, yield 93%).

得られた白色粉末をジグライムに溶解させ、芳香族ポリエーテルスルホンの濃度が10質量%である樹脂組成物を調製した。   The obtained white powder was dissolved in diglyme to prepare a resin composition having an aromatic polyethersulfone concentration of 10% by mass.

[比較例10]
重合溶媒としてのBNに代えて、DMAc640gを使用した以外は実施例5と同様にして芳香族ポリエーテルスルホンの合成を行った。その結果、白色粉末(重合体)が得られた(収量105g、収率93%)。
[Comparative Example 10]
An aromatic polyether sulfone was synthesized in the same manner as in Example 5 except that 640 g of DMAc was used instead of BN as a polymerization solvent. As a result, a white powder (polymer) was obtained (yield 105 g, yield 93%).

得られた白色粉末をDMAcに溶解させ、芳香族ポリエーテルスルホンの濃度が10質量%である樹脂組成物を調製した。   The obtained white powder was dissolved in DMAc to prepare a resin composition having an aromatic polyethersulfone concentration of 10% by mass.

[比較例11]
重合溶媒としてのBNに代えて、NMP640gを使用した以外は実施例5と同様にして芳香族ポリエーテルスルホンの合成を行った。その結果、白色粉末(重合体)が得られた(収量105g、収率93%)。
[Comparative Example 11]
An aromatic polyether sulfone was synthesized in the same manner as in Example 5 except that 640 g of NMP was used instead of BN as a polymerization solvent. As a result, a white powder (polymer) was obtained (yield 105 g, yield 93%).

得られた白色粉末をNMPに溶解させ、芳香族ポリエーテルスルホンの濃度が10質量%である樹脂組成物を調製した。   The obtained white powder was dissolved in NMP to prepare a resin composition having an aromatic polyethersulfone concentration of 10% by mass.

<評価>
実施例1から6、比較例1、2及び6から11の芳香族ポリエーテル(芳香族ポリエーテルニトリル又は芳香族ポリエーテルスルホン)及び樹脂組成物について、下記方法に従い重量平均分子量(Mw)、残留溶媒濃度及び色相の変化を評価した。これらの評価結果は、表1に示した。なお、比較例3及び4では芳香族ポリエーテルニトリルの合成が行えず、比較例5では芳香族ポリエーテルニトリルの精製が困難であったため、比較例3から5については以下の評価を行っていない。
<Evaluation>
For the aromatic polyethers (aromatic polyether nitriles or aromatic polyether sulfones) and resin compositions of Examples 1 to 6, Comparative Examples 1, 2 and 6 to 11, the weight average molecular weight (Mw), residual Changes in solvent concentration and hue were evaluated. These evaluation results are shown in Table 1. In Comparative Examples 3 and 4, aromatic polyether nitrile could not be synthesized, and in Comparative Example 5, it was difficult to purify aromatic polyether nitrile. Therefore, Comparative Examples 3 to 5 were not evaluated as follows. .

[重量平均分子量(Mw)[−]]
芳香族ポリエーテルの重量平均分子量(Mw)は、東ソー社の「HLC−8220型GPC装置(カラム:TSKgelα−M)」を用いて以下の条件で測定した。
[Weight average molecular weight (Mw) [-]]
The weight average molecular weight (Mw) of the aromatic polyether was measured using the “HLC-8220 GPC apparatus (column: TSKgel α-M)” manufactured by Tosoh Corporation under the following conditions.

(分析条件)
溶出溶媒 :テトラヒドロフラン
流量 :0.6mL/分
試料濃度 :0.2質量%
試料注入量 :100μL
カラム温度 :40℃
検出器 :示差屈折計
標準物質 :単分散ポリスチレン
(Analysis conditions)
Elution solvent: Tetrahydrofuran Flow rate: 0.6 mL / min Sample concentration: 0.2% by mass
Sample injection volume: 100 μL
Column temperature: 40 ° C
Detector: Differential refractometer Standard material: Monodisperse polystyrene

[残留溶媒濃度[ppm]]
残留溶媒濃度の測定に当たっては、まずフィルムサンプルを作製した。フィルムサンプルは、樹脂組成物をスピンコーターにてガラス基板上に塗布した後、この塗布液をホットプレートにて70℃で15分及び120℃で15分加熱し、さらに真空乾燥機にて200℃で2時間減圧乾燥させてフィルム付ガラス基板を作製した。このフィルム付ガラス基板からフィルムを剥離し、膜厚が50μmのフィルムサンプルとした。
[Residual solvent concentration [ppm]]
In measuring the residual solvent concentration, a film sample was first prepared. The film sample was prepared by coating the resin composition on a glass substrate with a spin coater, then heating the coating solution on a hot plate at 70 ° C. for 15 minutes and 120 ° C. for 15 minutes, and further using a vacuum dryer at 200 ° C. And dried under reduced pressure for 2 hours to produce a glass substrate with a film. The film was peeled from this glass substrate with a film to obtain a film sample having a film thickness of 50 μm.

残存溶媒濃度は、セイコーインスツルメンツ社の「EXSTAR TG/DTA6200」を用い、示差熱熱重量同時測定装置(TG−DTA)を用いて測定した。具体的には、残存溶媒濃度は、フィルムサンプルをアルミパンに乗せ、窒素雰囲気下で昇温速度を10℃/minとして室温から350℃まで昇温し、100℃でのフィルムサンプルの質量から350℃でのフィルムサンプルの質量を差分した値(質量減少分)として算出した。   The residual solvent concentration was measured using “EXSTAR TG / DTA6200” manufactured by Seiko Instruments Inc. and using a differential thermothermal gravimetric simultaneous measurement apparatus (TG-DTA). Specifically, the residual solvent concentration was determined by placing the film sample on an aluminum pan, raising the temperature rising rate from room temperature to 350 ° C. under a nitrogen atmosphere at a rate of temperature increase of 10 ° C./min, and determining from the mass of the film sample at 100 ° C. to 350 It calculated as a value (mass reduction | decrease part) which made the difference the mass of the film sample in ° C.

[色相変化]
色相変化の測定に当たっては、まず残留溶媒濃度を測定する場合と同様にしてフィルム付ガラス基板を作製した。このフィルム付ガラス基板のフィルムについて、村上色彩技術研究所社の「SPECTROPHOTOMETER DOT−3C」を用いて色相を測定した。
[Hue change]
In measuring the hue change, first, a glass substrate with a film was prepared in the same manner as in the case of measuring the residual solvent concentration. About the film of this glass substrate with a film, the hue was measured using "SPECTROTOPOMETER DOT-3C" of Murakami Color Research Laboratory.

次いで、フィルム付ガラス基板をESPEC社の「高温恒温器スーパーハイテンプオーブン SSPH−101」を用いて焼成した。フィルムの焼成は、窒素雰囲気下で、昇温速度を15℃/minとして室温から340℃まで昇温した後、340℃で5分間保持し、その後放冷することで行った。焼成後のフィルム付ガラス基板におけるフィルムの色相を先と同様にして測定した。   Subsequently, the glass substrate with a film was baked using "High-temperature thermostatic oven super high temp oven SSPH-101" of ESPEC. The film was baked under a nitrogen atmosphere by raising the temperature from room temperature to 340 ° C. at a rate of temperature rise of 15 ° C./min, holding at 340 ° C. for 5 minutes, and then allowing to cool. The film hue in the glass substrate with film after firing was measured in the same manner as described above.

焼成前のフィルムの色相の測定値を「初期のb値」、焼成後のフィルムの色相の測定値を「焼成後のb値」とし、下記式により色相の変化「Δb」を算出した。
Δb=(焼成後のb値)−(初期のb値)
Calculate the hue change “Δb * ” using the following equation, where the measured value of the hue of the film before baking is the “initial b * value” and the measured value of the hue of the film after baking is the “b * value after baking”. did.
Δb * = (b * value after firing) − (initial b * value)

Figure 2016040344
Figure 2016040344

表1から明らかなように、重合溶媒としてBN又はジグライム(ジエチレングリコールジメチルエーテル)を使用して合成した実施例1から4の芳香族ポリエーテルニトリルから形成されるフィルムは、焼成前後での色相変化が小さかった。   As is apparent from Table 1, the film formed from the aromatic polyether nitriles of Examples 1 to 4 synthesized using BN or diglyme (diethylene glycol dimethyl ether) as a polymerization solvent has a small hue change before and after firing. It was.

これに対して、重合溶媒としてDMAc又はNMPを使用した比較例1、2及び8、9の芳香族ポリエーテルニトリルから形成されるフィルムは、焼成前後での色相変化が実施例1及び2のフィルムよりも大きかった。   On the other hand, the films formed from the aromatic polyether nitriles of Comparative Examples 1, 2, 8 and 9 using DMAc or NMP as the polymerization solvent are different from those of Examples 1 and 2 in hue change before and after firing. It was bigger than.

また、重合溶媒としてアニソール又はオルトクロロベンゼンを使用した場合には(比較例3又は4)、芳香族ポリエーテルニトリルを合成できず、ガンマブチロラクトンを使用した場合には(比較例5)、溶媒の分解により芳香族ポリエーテルニトリルの精製が困難であった。   When anisole or orthochlorobenzene is used as a polymerization solvent (Comparative Example 3 or 4), aromatic polyether nitrile cannot be synthesized, and when gamma-butyrolactone is used (Comparative Example 5), decomposition of the solvent Therefore, it was difficult to purify the aromatic polyether nitrile.

さらに、DMAc又はNMPを使用して芳香族ポリエーテルニトリルを合成・精製した後に、DMAcとアニソールとの混合溶媒又はNMPとアニソールとの混合溶媒に溶解させた比較例6及び7のフィルムについても、色相変化が実施例1及び2の芳香族ポリエーテルニトリルのフィルムよりも大きかった。   Furthermore, after synthesizing and purifying an aromatic polyether nitrile using DMAc or NMP, the films of Comparative Examples 6 and 7 dissolved in a mixed solvent of DMAc and anisole or a mixed solvent of NMP and anisole also, The hue change was greater than the aromatic polyether nitrile films of Examples 1 and 2.

このように、芳香族ポリエーテルニトリルの合成に使用する重合溶媒は、芳香族ポリエーテルニトリルから得られるフィルムの焼成前後での色相変化に影響を与え、また芳香族ポリエーテルニトリルの重合性に影響を与えることが確認された。そして、重合溶媒として、ベンゾニトリル系溶媒であるBNやエーテル系溶媒であるジグライムといった非プロトン性極性溶媒を使用することで、アミド系溶媒であるDMAcやNMPを使用する場合に比べて、芳香族ポリエーテルニトリルから得られるフィルムの焼成前後の色相変化が抑制できることも確認された。   Thus, the polymerization solvent used for the synthesis of the aromatic polyether nitrile affects the hue change before and after baking of the film obtained from the aromatic polyether nitrile, and also affects the polymerizability of the aromatic polyether nitrile. Confirmed to give. By using an aprotic polar solvent such as BN as a benzonitrile solvent or diglyme as an ether solvent as a polymerization solvent, an aromatic solvent can be used as compared with the case where DMAc or NMP as an amide solvent is used. It was also confirmed that the hue change before and after baking of the film obtained from polyether nitrile can be suppressed.

ここで、実施例1、2及び比較例1,2と、実施例3、4及び比較例8、9とは、芳香族ポリエーテルニトリルの合成後の精製方法が異なるものである。すなわち、重合溶媒としてBN又はジグライム(ジエチレングリコールジメチルエーテル)を使用して合成した実施例1から4の芳香族ポリエーテルニトリルは、一般的な精製方法であれば、その方法に影響を受けることなく、焼成前後での色相変化が小さくなるものと推察される。   Here, Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 are different from Examples 3 and 4 and Comparative Examples 8 and 9 in the purification method after synthesis of the aromatic polyether nitrile. That is, the aromatic polyether nitriles of Examples 1 to 4 synthesized using BN or diglyme (diethylene glycol dimethyl ether) as a polymerization solvent are calcined without being affected by the general purification method. It is presumed that the hue change before and after becomes small.

一方、実施例5及び6と比較例10及び11とを比較すれば分かるように、芳香族ポリエーテルスルホンを合成する場合においても、芳香族ポリエーテルニトリルを合成する場合と同様の結果が得られた。すなわち、重合溶媒としてベンゾニトリル系溶媒であるBNやエーテル系溶媒であるジグライムといった特定の有機溶媒を使用することで、アミド系溶媒であるDMAcやNMPを使用する場合に比べて、芳香族ポリエーテルスルホンから得られるフィルムの焼成前後の色相変化が抑制できることが確認された。   On the other hand, as can be seen from a comparison between Examples 5 and 6 and Comparative Examples 10 and 11, the same results as in the case of synthesizing the aromatic polyether nitrile can be obtained when synthesizing the aromatic polyether sulfone. It was. That is, by using a specific organic solvent such as BN as a benzonitrile-based solvent or diglyme as an ether solvent as a polymerization solvent, an aromatic polyether is used as compared with the case where DMAc or NMP as an amide-based solvent is used. It was confirmed that the hue change before and after baking of the film obtained from sulfone can be suppressed.

なお、本実施例では、芳香族ポリエーテルを粉末状に精製した後、重合溶媒と同じ溶媒に溶解させて得られた樹脂組成物、又は芳香族ポリエーテルの合成後の重合体溶液から塩を除いた後、濃縮して得られた樹脂組成物を用いている。従って、このような樹脂組成物から形成した成形体は、焼成前後の色相の変化、すなわち着色が抑制された成形体となるものであると考えられる。   In this example, the aromatic polyether was purified into a powder form and then dissolved in the same solvent as the polymerization solvent, or a salt was obtained from the polymer solution after the synthesis of the aromatic polyether. The resin composition obtained by concentration after removal is used. Therefore, a molded body formed from such a resin composition is considered to be a molded body in which the hue change before and after firing, that is, coloring is suppressed.

本発明によれば、成形体の着色を抑制でき、プロセス上有利に製造できる樹脂組成物、芳香族ポリ(チオ)エーテルの製造方法及び成形体を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the coloring of a molded object can be suppressed and the manufacturing method and molded object of an aromatic poly (thio) ether which can be manufactured advantageously on a process can be provided.

Claims (11)

有機溶媒及び芳香族ポリ(チオ)エーテルを含有する樹脂組成物であって、
上記有機溶媒が下記式(1)で表される化合物、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、又はこれらの2以上の組み合わせであることを特徴とする樹脂組成物。
Figure 2016040344
(式(1)中、Rは、アミド基以外の炭素数1〜5の1価の有機基である。nは、0〜5の整数である。nが2以上の場合、複数のRは同一であっても異なっていてもよい。)
A resin composition containing an organic solvent and an aromatic poly (thio) ether,
A resin composition, wherein the organic solvent is a compound represented by the following formula (1), diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, or a combination of two or more thereof.
Figure 2016040344
(In Formula (1), R is a C1-C5 monovalent organic group other than an amide group. N is an integer of 0 to 5. When n is 2 or more, a plurality of R are They may be the same or different.)
上記有機溶媒がベンゾニトリル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、又はトリエチレングリコールジメチルエーテルである請求項1に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 1, wherein the organic solvent is benzonitrile, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, or triethylene glycol dimethyl ether. 上記芳香族ポリ(チオ)エーテルが、芳香族ポリエーテルニトリル、芳香族ポリエーテルケトン、芳香族ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンオキシド、又はポリフェニレンスルフィドである請求項1又は請求項2に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 1 or 2, wherein the aromatic poly (thio) ether is an aromatic polyether nitrile, an aromatic polyether ketone, an aromatic polyether sulfone, a polyphenylene oxide, or a polyphenylene sulfide. 有機溶媒を用い、重縮合反応により芳香族ポリ(チオ)エーテルを製造する方法であって、
上記有機溶媒が下記式(1)で表される化合物、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、又はこれらの2以上の組み合わせであることを特徴とする芳香族ポリ(チオ)エーテルの製造方法。
Figure 2016040344
(式(1)中、Rは、アミド基以外の炭素数1〜5の1価の有機基である。nは、0〜5の整数である。nが2以上の場合、複数のRは同一であっても異なっていてもよい。)
A method for producing an aromatic poly (thio) ether by polycondensation reaction using an organic solvent,
The organic solvent is a compound represented by the following formula (1), diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, or a combination of two or more thereof. Production method.
Figure 2016040344
(In Formula (1), R is a C1-C5 monovalent organic group other than an amide group. N is an integer of 0 to 5. When n is 2 or more, a plurality of R are They may be the same or different.)
上記有機溶媒がベンゾニトリル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、又はトリエチレングリコールジメチルエーテルである請求項4に記載の芳香族ポリ(チオ)エーテルの製造方法。   The method for producing an aromatic poly (thio) ether according to claim 4, wherein the organic solvent is benzonitrile, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, or triethylene glycol dimethyl ether. 上記芳香族ポリ(チオ)エーテルが、芳香族ポリエーテルニトリル、芳香族ポリエーテルケトン、芳香族ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンオキシド、又はポリフェニレンスルフィドである請求項4又は請求項5に記載の芳香族ポリ(チオ)エーテルの製造方法。   The aromatic poly (thio) ether according to claim 4 or 5, wherein the aromatic poly (thio) ether is an aromatic polyether nitrile, an aromatic polyether ketone, an aromatic polyether sulfone, a polyphenylene oxide, or a polyphenylene sulfide. Method for producing thio) ether. 有機溶媒及び芳香族ポリ(チオ)エーテルを含有する成形体であって、
上記有機溶媒が下記式(1)で表される化合物、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、又はこれらの2以上の組み合わせであることを特徴とする成形体。
Figure 2016040344
(式(1)中、Rは、アミド基以外の炭素数1〜5の1価の有機基である。nは、0〜5の整数である。nが2以上の場合、複数のRは同一であっても異なっていてもよい。)
A molded article containing an organic solvent and an aromatic poly (thio) ether,
A molded article, wherein the organic solvent is a compound represented by the following formula (1), diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, or a combination of two or more thereof.
Figure 2016040344
(In Formula (1), R is a C1-C5 monovalent organic group other than an amide group. N is an integer of 0 to 5. When n is 2 or more, a plurality of R are They may be the same or different.)
上記有機溶媒の含有量が5ppm以上2,000ppm以下である請求項7に記載の成形体。   The molded product according to claim 7, wherein the content of the organic solvent is 5 ppm or more and 2,000 ppm or less. ペレット、フィルム、シート又は射出成形体である請求項7又は請求項8に記載の成形体。   The molded article according to claim 7 or 8, which is a pellet, a film, a sheet, or an injection molded article. 上記有機溶媒がベンゾニトリル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、又はトリエチレングリコールジメチルエーテルである請求項7、請求項8又は請求項9に記載の成形体。   The molded article according to claim 7, 8 or 9, wherein the organic solvent is benzonitrile, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, or triethylene glycol dimethyl ether. 上記芳香族ポリ(チオ)エーテルが、芳香族ポリエーテルニトリル、芳香族ポリエーテルケトン、芳香族ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンオキシド、又はポリフェニレンスルフィドである請求項7から請求項10のいずれか1項に記載の成形体。   The aromatic poly (thio) ether is an aromatic polyether nitrile, an aromatic polyether ketone, an aromatic polyether sulfone, a polyphenylene oxide, or a polyphenylene sulfide. Molded body.
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