JP2010266711A - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ＯＤＦ法により製造される液晶表示装置において、シール材を硬化させるための
紫外光をカラーフィルター基板側から照射できる液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】対向する一対の基板１１、２３の表示領域３１周辺の額縁領域３２に閉ルー
プ状に塗布されたシール材２９により貼り合わされ、液晶３０が液晶滴下法により一対の
基板１１、２３間に封入され、一対の基板１１、２３の一方の基板２３の額縁領域３２に
は遮光層が形成されている液晶表示装置１０において、遮光層は、少なくとも平面視で前
記シール材と重畳する位置では、２色以上の積層された積層形成された層２６ａからなる
。
【選択図】図５

Description

本発明は、液晶滴下（One Drop Fill：以下、「ＯＤＦ」という）法を用いて製造され
る液晶表示装置及びその製造方法に関し、特に、カラーフィルター基板側から紫外光を照
射しシール材を硬化させることができる液晶表示装置及びその製造方法に関するものであ
る。

液晶表示装置を製造する際には一対の基板間に液晶を封入する必要があるが、その液晶
の封入方法としては液晶注入法とＯＤＦ法とが知られている。液晶注入法は、各種配線等
が形成された一対の基板、例えばアレイ基板とカラーフィルター基板とを互いに表面が対
向するようにその外周囲をシール材で貼り合わせた後、一対の基板とシール材とに囲まれ
た領域に液晶を封入する方法である。一方、ＯＤＦ法は、各種配線等が形成されたアレイ
基板とカラーフィルター基板とを貼り合わせる前に、下側に配置された基板の外周側に沿
ってシール材を塗布した後、液晶を滴下し、その後、上側の基板を覆い被せてシール材を
硬化させる方法である。

現在、液晶表示装置の薄型化及び大型化が進展しているが、液晶注入法を用いて液晶を
封入するとき、液晶表示装置が薄型である場合には液晶注入後の封止が難しく、大型の液
晶表示装置では液晶の注入に多大な時間を要するという問題がある。そのため、近年では
、薄型及び大型の液晶表示装置を製造する方法としてＯＤＦ法が注目されている。

しかし、ＯＤＦ法を用いた液晶表示装置の製造工程においては、液晶を注入する際に、
紫外線硬化型のシール材が未硬化状態で液晶と接することとなるため、シール材中の不純
物や構成成分が液晶層に多量に溶出してしまうことがある。これらのシール材中の不純物
や構成成分が液晶中に溶出すると、液晶が変質してしまうため、表示品位を低下させる原
因となる。

この課題を解決するために、下記特許文献１には、ＯＤＦ法を採用した液晶表示装置の
製造方法において、未硬化のシール層と液晶の接触を抑止するようにした発明が開示され
ている。すなわち、液晶表示装置の第１及び第２の透明基板のいずれか一方の非表示領域
の外縁にスペーサーを形成し、このスペーサー上にシール層を形成し、ＯＤＦ法によって
液晶を滴下した後、両基板を貼り合わせてシール層を硬化させるという方法である。下記
特許文献１に開示されている液晶表示装置の製造方法によれば、上述のような構成とする
ことで、両基板を貼り合わせる際に広がり行く液晶の流れがスペーサーによって遮られる
ため、未硬化のシール層に液晶が接触することが抑止されるという効果を奏するものであ
る。

また、液晶注入法及びＯＤＦ法の何れにおいても、従来はシール材を硬化させるための
紫外光の照射はアレイ基板側から行なわれていた。その理由は、カラーフィルター基板側
には、光漏れを抑制するための遮光層が形成されているため、紫外光をシール材に対して
照射することができないからである。また、この遮光層に孔やスリット等の紫外光を透過
させる開口を設けることは、光漏れの要因となるため、通常は採用することができない。

そのため、従来からシール材を硬化させるための紫外光の照射はアレイ基板側から行わ
れているが、アレイ基板の非表示領域には光不透過性の金属配線が引き回されている。そ
のため、シール材に対して紫外光が照射されるようにするためには、シール材をこの金属
配線を避けて塗布するか、あるいは、金属配線に紫外光が透過する開口を設ける必要があ
る。

しかしながら、金属配線を避けてシール材を塗布すると、非表示領域を広くとる必要が
あるため、相対的に表示領域が狭くなってしまうという問題点が存在する。また、金属配
線に開口を設けると、金属配線の電気抵抗が増大するため、この金属配線に印加されてい
る電位が変動するので、表示品質が低下するという問題点も存在する。

一方、上述のような問題点を解決するために、下記特許文献２には、カラーフィルター
基板の遮光層と平面視でシール材が重畳するように塗布されても、アレイ基板側から効率
よくシール材に紫外光を照射することができる液晶パネルの発明が開示されている。すな
わち、下記特許文献２に開示されている液晶パネルの発明によれば、紫外光をシール材の
形成領域に合わせて効率的に照射できるようにするため、照射が必要な領域には金属配線
幅を狭く形成して必要な量の紫外光を照射できるようにし、それほど照射が必要ではない
領域においては金属配線幅を広くして導電性を確保し、全体的に金属配線の電気抵抗値の
低下を所定範囲内に収めることが可能となるという効果が奏されている。その結果、下記
特許文献２に開示されている液晶パネルによれば、シール材を平面視でカラーフィルター
基板の遮光層と重畳するように形成しても、液晶パネルの周辺部分を有効に活用すること
ができるようになるため、狭額縁化の要請に応えられるとされている。

特開２００８−２３３７２１号公報 特開２００８−１３９６０４号公報

しかし、上記特許文献１に開示されている液晶表示装置では、シール材層が形成される
位置にスペーサーが形成されるため、そのスペーサーの厚さの分だけ液晶表示装置の厚み
も増加することになり、液晶表示装置の薄型化が困難となる。

一方、上記特許文献２に開示された液晶パネルでは、照射が必要な領域には金属配線幅
を狭く形成して紫外光を多く透過させシール材をすばやく硬化させることができ液晶との
接触時間を短くでき、また、他の部分は金属配線を広くし導電性を確保することができる
。しかしながら、金属配線には狭くなる部分があるために電気抵抗の増加は避けられず、
また、金属配線の配置に制限が設けられてしまうので金属配線の配置が複雑になると共に
、自由な配線設計が困難となる。

本発明者らは、上記のような従来技術の課題を解決すべく種々検討を重ねた結果、見か
け上カラーフィルター基板に形成される遮光部材が可視光に対しては不透明であるが、紫
外光を透過することができるものとすれば、カラーフィルター基板側から紫外光を照射す
ることによりシール材を硬化させることができることを見出し、発明を完成するに至った
ものである。すなわち、本発明は、ＯＤＦ法により製造された液晶表示装置において、カ
ラーフィルター基板側から紫外光を照射することによってシール材を硬化させることがで
きる液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。

上記目的を達成するため、本発明の液晶表示装置は、
互いに対向する一対の基板の周辺部が閉ループ状に塗布されたシール材により貼り合わ
され、
前記一対の基板のうち、表示領域にカラーフィルター層が形成されている基板の周辺部
には遮光層が形成されており、
液晶が液晶滴下法により前記一対の基板間に封入されている液晶表示装置において、
前記遮光層は、少なくとも平面視で前記シール材と重畳する位置では、２色以上のカラ
ーフィルター層が積層形成された層からなることを特徴とする。

本発明の液晶表示装置では、表示領域にカラーフィルター層が形成されている基板、す
なわちカラーフィルター基板の周辺部に形成されている遮光層を、少なくとも平面視でシ
ール材と重畳する位置では、２色以上のカラーフィルター層が積層形成された層からなる
ものとしている。すなわち、カラーフィルター層は、そのカラーフィルター層と同色の可
視光を透過してしまうため、本発明の液晶表示装置では少なくとも２色以上のカラーフィ
ルター層が積層されたものを使用し、可視光を遮光して紫外光を透過できるようになして
いる。

人の目は可視光は視認できるが紫外光は視認できないので、紫外光が透過できるが可視
光が透過できない層は遮光層として機能し、また、光源からの紫外光成分が漏れても表示
画質に影響を与えることはない。そのため、本発明で使用する２色以上のカラーフィルタ
ー層は、可視光を実質的に完全に遮光することができれば、紫外光に対しては必ずしも完
全に透明なカラーフィルター層を使用する必要はなく、部分的に紫外光がカラーフィルタ
ー層に吸収されてしまうものであってもよい。このような本発明で使用する２色以上のカ
ラーフィルター層としては、市販のカラーフィルター層を適宜組み合わせて用いることが
できる。

しかも、本発明の液晶表示装置では、カラーフィルター基板側から紫外光を照射するこ
とによって一対の基板の周辺部に閉ループ状に塗布されたシール材を硬化させることがで
きるから、従来例のように、シール材を硬化させるための紫外光を透過させるために、ア
レイ基板の周辺部に形成される金属配線に穴や切れ込みを設ける必要がなくなるので、ア
レイ基板の金属配線の電気抵抗の上昇を抑制することができる。さらに、本発明の液晶表
示装置によれば、アレイ基板側の金属配線を自由に形成することができるので、基板設計
の自由度が増す。

また、本発明の液晶表示装置においては、前記２色以上のカラーフィルター層は、前記
表示領域にカラーフィルター層が形成されている基板で用いられているカラーフィルター
層と同色のカラーフィルター層からなることが好ましい。

本発明の液晶表示装置においては、遮光層として機能する前記２色以上のカラーフィル
ター層は、表示領域にカラーフィルター層が形成されている基板、すなわちカラーフィル
ター基板で用いられている複数色のカラーフィルター層と同色のものとしている。そのた
め、本発明の液晶表示装置によれば、遮光層として機能する前記２色以上のカラーフィル
ター層をカラーフィルター基板の表示領域に形成されるカラーフィルター層と同時に形成
することができるので、新たな製造工程及び材料を追加する必要がなく、製造費用を削減
することができるようになる。

また、本発明にかかる液晶表示装置においては、前記遮光層は、平面視で前記シール材
と重畳する位置以外は金属膜又は黒色樹脂膜で形成されていることが好ましい。

本発明の液晶表示装置によれば、シール材と平面視で重畳する位置に少なくとも２色以
上のカラーフィルター層が積層形成された領域からなる遮光層を形成し、他の部分を金属
膜又は黒色樹脂膜で形成されているので、紫外光をカラーフィルター基板側から照射する
ことによってシール材を硬化させることができるとともに、他の部分は光不透過性の金属
膜又は黒色樹脂膜で形成されているので、より遮光性が増し、光漏れによる画像表示に影
響を与えることの少ない液晶表示装置を提供することができる。また、光不透過性の金属
膜及び黒色樹脂膜は従来から遮光部材として普通に使用されている材料であるから、新た
な製造工程及び材料を追加する必要がなくなる。

また、上記目的を達成するため、本発明にかかる液晶表示装置の製造方法は、
液晶表示装置用の一対の基板を用意する工程と、
前記一対の基板の一方の基板の周辺に沿ってシール材を閉ループ状に塗布する工程と、
前記一対の基板のいずれか一方の前記シール材で囲まれた領域内に液晶を滴下する工程
と、
前記一対の基板を貼り合わせる工程と、
前記シール材に対して紫外光を照射することによって硬化させる工程と、
を有する液晶表示装置の製造方法であって、
前記一対の基板のうちのカラーフィルター層が形成されている基板として、周辺部の少
なくとも平面視で前記シール材と重畳する位置に２色以上のカラーフィルター層を積層形
成した層からなる遮光層を形成したものを用い、
前記紫外光を前記カラーフィルター層が形成されている基板側から照射することを特徴
とする。

本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、上記効果を奏する液晶表示装置を容易に製
造することができるようになる。

本発明の実施形態１、２にかかる液晶表示装置の平面図である。 図１の液晶表示装置のカラーフィルター基板を透過した平面図である。 １画素領域を拡大して示した拡大平面図である。 図３のIV−IV線で切断した要部断面図である。 図１のＶ−Ｖ線で切断した要部断面図である。 図６Ａは可視光の透過を示した概略断面図であり、図６Ｂは紫外光を照射したときの概略断面図である。 実施形態１の液晶表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。 実施形態２の図４に対応する要部断面図である。

以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。但し、以下に示す各実施形態は、
本発明の技術思想を具体化するための液晶表示装置及びその製造方法を例示するものであ
って、本発明をこの液晶表示装置及びその製造方法に特定することを意図するものではな
く、特許請求の範囲に含まれるその他の実施形態のものも等しく適応し得るものである。
なお、この明細書における説明のために用いられた各図面においては、各層や各部材を図
面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて表示して
おり、必ずしも実際の寸法に比例して表示されているものではない。

ちなみに、以下に述べるアレイ基板及びカラーフィルター基板の「表面」とは各種配線
、電極ないしカラーフィルター層が形成されている面を示すものとする。なお、本発明に
おける液晶表示装置は、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＶＡ（Vertical Alignment）
モードあるいはＭＶＡ（Multi-domain Vertical Alignment）モードで駆動するいわゆる
縦電界方式の液晶表示装置や、ＩＰＳ（In-Plane Switching）モード、ＦＦＳ（Fringe F
ield Switching）モード等の横電界方式の液晶表示装置にも適用可能であるが、以下にお
いてはＴＮモードの液晶表示装置に代表させて各実施形態の液晶表示装置を説明する。ま
た、以下に説明する各基板は、本来マザー基板上に複数個のパネル領域を形成して個々の
パネル領域の基板に分断することにより作製するものであるが、以下の実施形態では、１
個のパネル領域を代表して説明する。

［実施形態１］
実施形態１にかかる液晶表示装置１０を図１〜図７を用いて説明する。実施形態１にか
かる液晶表示装置１０は、図１に示すように、アレイ基板１１及びカラーフィルター基板
２３と、アレイ基板１１及びカラーフィルター基板２３を貼り合わせるシール材２９と、
アレイ基板１１、カラーフィルター基板２３及びシール材２９により囲まれた領域に液晶
３０（図４及び図５参照）が封入された構成を備えた、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass
）型の液晶表示装置である。この液晶表示装置１０においては、シール材２９により囲ま
れた領域が表示領域３１を形成しており、この表示領域３１の外周側が額縁領域３２とな
っている。また、実施形態１にかかる液晶表示装置１０はＯＤＦ法で製造されたものであ
るため、液晶注入口は形成されていない。以下、この液晶表示装置１０の各構成を図７に
示した液晶表示装置１０の製造工程のフローチャートとも対応させて説明する。

アレイ基板１１は、対向する一対の矩形状のガラス基板からなる透明基板１２の表面に
液晶駆動用の各種配線等が形成されたものである。このアレイ基板１１はカラーフィルタ
ー基板２３よりもその長手方向の長さが長く、アレイ基板１１及びカラーフィルター基板
２３を貼り合わせた際に外部に延在する延在部１２ａが形成されるようになっている。こ
の延在部１２ａには駆動信号を出力するＩＣチップあるいはＬＳＩ等からなるドライバー
３４が設けられている。

アレイ基板１１の透明基板１２上の表示領域３１内には、マトリクス状に複数本の走査
線１３及び信号線１４（図３及び図４参照）が形成されている。これらの複数本の走査線
１３及び信号線１４は、図２に示すように、表示領域３１外まで延出され、引き回し配線
１５を経てドライバー３４に接続されている。また、このドライバー３４からは、更にコ
モン配線１６が延在している。（以下、複数本の引き回し配線１５及びコモン配線１６を
総称して金属配線３５ということがある。）

アレイ基板の表示領域３１内には、図３及び図４に示すように、複数本の走査線１３及
び信号線１４に加えて、複数本の走査線１３間にこの走査線１３と平行な複数本の補助容
量線１６ａが設けられている。また、これらの走査線１３、補助容量線１６ａ及び露出し
ている透明基板１２を覆うように酸化ケイ素又は窒化ケイ素等の無機絶縁材料からなるゲ
ート絶縁膜１７が設けられている。そして、ソース電極Ｓ、ゲート電極Ｇ、ドレイン電極
Ｄ、及び半導体層１８からなるスイッチング素子としての薄膜トランジスター（ＴＦＴ：
Thin Film Transistor）１９が走査線１３及び信号線１４の交差部近傍に形成されている
。

さらに、これらを覆うように表面の安定化のための酸化ケイ素又は窒化ケイ素等の無機
絶縁材料からなるパッシベーション膜２０が成膜され、さらに、アレイ基板１１の表面を
平坦化するための有機絶縁材料からなる層間膜２１が成膜されている。なお、この層間膜
２１及びパッシベーション膜２０の補助容量線１６ａ上に位置する部分には、走査線１３
及び信号線１４によって囲まれた１画素領域ＰＡごとに例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide
）またはＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）からなる画素電極２２が設けられている。この画
素電極２２は、コンタクトホールＣＨを介して、ドレイン電極Ｄと電気的に接続されてい
る。そして、これらの表面には図示省略した配向膜が設けられ、この配向膜に対してラビ
ング処理することにより実施形態１のアレイ基板１１が形成される（ステップＳ１）。な
お、複数本の走査線１３及び信号線１４により囲まれた領域が１サブ画素領域ＰＡとなる
。

また、カラーフィルター基板２３は、図４に示したように、ガラス基板等からなる第２
の透明基板２４の表面に、アレイ基板１１の走査線１３、信号線１４、コンタクトホール
ＣＨ及びＴＦＴ１９に対応する位置を被覆するように金属膜又は黒色樹脂膜からなる遮光
層２５が形成されている。さらに、遮光層２５で囲まれた第２の透明基板２４の表面には
、所定の色、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）等のカラーフィルター層２６が形成さ
れている。また、遮光層２５及びカラーフィルター層２６の表面を被覆するようにオーバ
ーコート層２７が形成されている。このオーバーコート層２７は絶縁性の透明な樹脂膜か
らなるものであり、カラーフィルター基板２３の表面をできるだけ平坦にするとともに、
カラーフィルター層２６から不純物が液晶３０内に拡散しないようにするために設けられ
ているものである。そして、オーバーコート層２７の表面にはＩＴＯまたはＩＺＯからな
る共通電極２８が設けられているとともに、この共通電極２８の表面には図示省略した配
向膜が形成され、この配向膜に対してラビング処理することにより実施形態１のカラーフ
ィルター基板２３が完成される（ステップＳ３）。

なお、従来では、カラーフィルター基板２３の額縁領域３２には、光源としてのバック
ライトからの光漏れを抑制するために金属膜あるいは黒色樹脂膜で形成された遮光層が設
けられるが、本実施形態１では、図５に示すように、遮光層としてＲ、Ｇ、Ｂの三色のカ
ラーフィルター層２６Ｒ、２６Ｇ、２６Ｂが積層形成されている。以下、これらの積層さ
れた３色のカラーフィルター層を纏めて「２６ａ」と表す。この積層されたカラーフィル
ター層２６ａは、カラーフィルター基板２３の表示領域３１に各色のカラーフィルター層
２６を形成するのと同時にフォトリソグラフィー等により一色毎に積層形成されるもので
ある。なお、遮光層として積層されたカラーフィルター層２６ａの積層順序は任意でよく
、表示領域３１のカラーフィルター層２６を形成する順序に合わせて形成することができ
る。なお、この積層されたカラーフィルター層２６ａが、本発明の「２色以上のカラーフ
ィルター層が積層形成」された領域に対応する。

次に、上記のように形成されたアレイ基板１１とカラーフィルター基板２３の貼り合わ
せを行う。このとき、例えばアレイ基板１１の表示領域３１に液晶３０が滴下され（ステ
ップＳ２）、カラーフィルター基板２３の額縁領域３２には紫外光により硬化できる樹脂
等で形成されたシール材が塗布され（ステップＳ４）、両基板が張り合わされる（ステッ
プＳ５）。なお、両基板間には、基板間のセルギャップを一定に維持するために柱状スペ
ーサーが形成されているが、この柱状スペーサーは図示省略した。

その後、シール材２９に紫外光３７を照射しシール材２９を硬化させる（ステップＳ６
）。このとき、本実施形態１の液晶表示装置１０では、紫外光３７をカラーフィルター基
板２３側から照射してシール材２９を硬化させる。すなわち、本実施形態１では、カラー
フィルター基板２３の額縁領域３２には、遮光層として機能するＲ、Ｇ、Ｂの三色の積層
されたカラーフィルター層２６ａが形成されている。これらの積層されたカラーフィルタ
ー層２６ａにより、図６Ａに示すように、この部分を可視光３６に対して遮光部材として
機能させることができるので、図示省略したバックライトからの光漏れを抑制することが
できる。一方、一般的にカラーフィルター層２６は、可視光３６の領域における特定の波
長を通過させるだけでなく、紫外光３７を透過させてしまう。図６Ｂに示すように、積層
されたカラーフィルター層２６ａは、各カラーフィルター層２６で、他のカラーフィルタ
ー層２６を通過してしまった光を吸収してしまうが、紫外光３７だけは何れのカラーフィ
ルター層２６を通過してしまう。したがって、カラーフィルター層２６ａは紫外光３７を
透過させることができるため、紫外光３７をカラーフィルター基板２３側から照射しても
、シール材２９を硬化させることができる。なお、積層されたカラーフィルター層２６ａ
は、完全に紫外光に対して透明である必要はなく、紫外光の一部が吸収されるものであっ
てもよい。

その後、マザー基板を個別のパネル領域に分断（ステップＳ７、Ｓ８）し、アレイ基板
１１の延在部１２ａにドライバー３４等を設置し、本実施形態１にかかる液晶表示装置１
０が完成する（ステップＳ９）。

以上述べたように、実施形態１にかかる液晶表示装置によれば、ＯＤＦ法により製造さ
れる液晶表示装置において、カラーフィルター基板側から紫外光を照射してシール材を硬
化させることができ、しかも、シール材を硬化させた後は、何等の処理を行わなくても、
遮光層部分からの光漏れが生じないようにすることができる。そのため、実施形態１にか
かる液晶表示装置によれば、従来例のように、シール材を硬化させるための紫外光を透過
させるために、アレイ基板の額縁領域に形成される金属配線に穴や切れ込みを設ける必要
がなくなるので、アレイ基板の金属配線の電気抵抗の上昇を抑制することができる。さら
に、本発明の液晶表示装置１０によれば、アレイ基板の金属配線を自由に形成することが
できるので、基板の設計の自由度が増す。また、遮光層として額縁領域に形成されるカラ
ーフィルター層は、Ｒ、Ｇ、Ｂの３層から形成されているので、表示領域に形成されるカ
ラーフィルター層と同時に形成することができ、新たな製造工程及び材料を追加する必要
がなく、製造費用の削減にもなる。

［実施形態２］
次に、図８を参照して、実施形態２にかかる液晶表示装置１０Ａについて説明する。な
お、実施形態２にかかる液晶表示装置１０Ａは、カラーフィルター基板２３に形成される
遮光層の構成が異なること以外は、実施形態１にかかる液晶表示装置１０と共通するので
、実施形態１にかかる液晶表示装置１０と同一の構成については同一の符号を付与し、そ
の詳細な説明は省略する。

実施形態２にかかる液晶表示装置１０Ａは、額縁領域３２に遮光層としての３色の積層
されたカラーフィルター層２６ａがシール材２９と平面視で重畳する位置に積層形成され
ているが、それ以外の部分は、表示領域３１の遮光層２５の部分も含めて、金属膜又は黒
色樹脂膜で形成された遮光層２５ａが形成されている。

このような構成とすることによって、実施形態２の液晶表示装置１０Ａでは、シール材
２９は、上記実施形態１の場合と同様に、カラーフィルター基板２３側から照射される紫
外光３７により硬化させることができるとともに、積層されたカラーフィルター層２６ａ
が可視光を遮光することができるので、バックライトからの光漏れを抑制することができ
る。その結果、実施形態２の液晶表示装置１０Ａでも、アレイ基板に形成される金属配線
は自由に設計、配置させることができるようになる。

さらに、実施形態２の液晶表示装置１０Ａでは、額縁領域３２のカラーフィルター層２
６ａが積層形成されていない部分は光不透過性の金属膜又は黒色樹脂膜で形成された遮光
層２５ａとなっている。そのため、実施形態２の液晶表示装置１０Ａでは、実施形態１の
液晶表示装置１０よりも額縁領域３２の遮光性が向上するので、より光漏れによる画像表
示に悪影響が少ない液晶表示装置１０Ａを提供することができる。なお、遮光層２５ａは
、カラーフィルター基板に形成される遮光層２５と同時に形成することができるので、新
たな製造工程及び材料を追加する必要が無くなる。

またカラーフィルター層２６ａは、上述のように可視光は遮光できるが、紫外光は透過
させてしまう。この時、液晶３０を構成する液晶分子の劣化を低減するためには、液晶分
子への紫外光の照射をできるだけ低減させた方がよい。したがって、実施形態２の構成に
よれば、液晶分子への紫外光の照射を最小限にできるので、液晶分子の劣化を低減させる
ことができる。また液晶３０以外の液晶表示装置１０を構成する他の部材においても、紫
外光の照射を低減できるので、紫外光による部材の劣化を防ぐ上でも実施形態２の構成は
より好ましい。

なお、上記実施形態１、２では、遮光層として機能する積層されたカラーフィルター層
２６ａとして３色のカラーフィルターが積層形成された例を示した。しかしながら、本発
明の液晶表示装置は、これに限らず、個々のカラーフィルター層の光透過特性を考慮の上
でバックライトからの可視光を遮光できるように組み合わせれば、例えば２色のカラーフ
ィルター層を積層形成してもよく、更には、４色以上のカラーフィルター層を積層形成す
ることもできる。

また、上記実施形態１では、額縁領域に形成される遮光層をすべて積層されたカラーフ
ィルター層で形成し、上記実施形態２では、シール材と平面視で重畳する部分のみを積層
されたカラーフィルター層とし、他の部分を金属膜又は黒色樹脂膜からなる遮光層とした
が、金属膜又は黒色樹脂膜からなる遮光層は表示領域と額縁領域との境界部分にのみ形成
されるものとしてもよい。

１０、１０Ａ…液晶表示装置 １１…アレイ基板 １２…透明基板 １２ａ…延在部
１３…走査線 １４…信号線 １５…引き回し配線 １６…コモン配線 １６ａ…補助容
量線 １７…ゲート絶縁膜 １８…半導体層 ２０…パッシベーション膜 ２１…層間膜
２２…画素電極 ２３…カラーフィルター基板 ２４…透明基板 ２５、２５ａ…遮光
層 ２６、２６Ｒ、２６Ｇ、２６Ｂ…カラーフィルター層 ２６ａ…積層されたカラーフ
ィルター層 ２７…オーバーコート層 ２８…共通電極 ２９…シール材 ３０…液晶
３１…表示領域 ３２…額縁領域 ３４…ドライバー ３５…金属配線 ３６…可視光
３７…紫外光 ＣＨ…コンタクトホール ＰＡ…サブ画素領域

Claims (4)

1. 互いに対向する一対の基板の周辺部が閉ループ状に塗布されたシール材により貼り合わ
   され、
   前記一対の基板のうち、表示領域にカラーフィルター層が形成されている基板の周辺部
   には遮光層が形成されており、
   液晶が液晶滴下法により前記一対の基板間に封入されている液晶表示装置において、
   前記遮光層は、少なくとも平面視で前記シール材と重畳する位置では、２色以上のカラ
   ーフィルター層が積層形成された層からなることを特徴とする液晶表示装置。
2. 前記２色以上のカラーフィルター層は、前記表示領域にカラーフィルター層が形成され
   ている基板で用いられているカラーフィルター層と同色のカラーフィルター層からなるこ
   とを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
3. 前記遮光層は、平面視で前記シール材と重畳する位置以外は金属膜又は黒色樹脂膜で形
   成されていることを特徴とする請求項1又は２に記載の液晶表示装置。
4. 液晶表示装置用の一対の基板を用意する工程と、
   前記一対の基板の一方の基板の周辺に沿ってシール材を閉ループ状に塗布する工程と、
   前記一対の基板のいずれか一方の前記シール材で囲まれた領域内に液晶を滴下する工程
   と、
   前記一対の基板を貼り合わせる工程と、
   前記シール材に対して紫外光を照射することによって硬化させる工程と、
   を有する液晶表示装置の製造方法であって、
   前記一対の基板のうちのカラーフィルター層が形成されている基板として、周辺部の少
   なくとも平面視で前記シール材と重畳する位置に２色以上のカラーフィルター層を積層形
   成した層からなる遮光層を形成したものを用い、
   前記紫外光を前記カラーフィルター層が形成されている基板側から照射することを特徴
   とする液晶表示装置の製造方法。

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