JP2003051427A - Capacitor sheet and method for manufacturing the same, substrate with built-in capacitor, and semiconductor device - Google Patents
Capacitor sheet and method for manufacturing the same, substrate with built-in capacitor, and semiconductor deviceInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 コンデンサを利用するための電気的接続と、
シート表裏の電気的接続が独立し、ビアのインダクタン
スによる悪影響が排除されたキャパシタシートを提供す
る。
【解決手段】 電源層電極および接地層電極の間に誘電
体層が挟持された積層体を少なくとも1組含む積層体シ
ートと、前記誘電体層、前記電源層電極および前記接地
層電極を貫通するスルーホール内に形成され、内部の前
記電源層電極および前記接地層電極との間が絶縁壁によ
り絶縁され、前記積層体シートの表裏を電気的に接続す
る表裏接続用貫通導体と、前記電源層電極、または前記
接地層電極の一方のみが配置された領域に形成され、前
記電源層電極または前記接地層電極と各々電気的に接続
されたキャパシタ用貫通導体とを備えたキャパシタシー
トとする。
(57) [Summary] [PROBLEMS] An electrical connection for utilizing a capacitor;
Provided is a capacitor sheet in which the electrical connection between the front and back of the sheet is independent, and the adverse effect of via inductance is eliminated. SOLUTION: A laminate sheet including at least one set of a laminate in which a dielectric layer is sandwiched between a power supply layer electrode and a ground layer electrode, and penetrates the dielectric layer, the power supply layer electrode and the ground layer electrode. A through conductor for front / back connection that is formed in a through hole, is insulated between the power supply layer electrode and the grounding layer electrode inside by an insulating wall, and electrically connects front and back of the laminate sheet; A capacitor sheet is formed in a region where only one of the electrode and the ground layer electrode is arranged, and includes a capacitor through conductor electrically connected to the power supply layer electrode or the ground layer electrode.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、キャパシタシート
とその製造方法、および回路基板、半導体装置に関し、
特にマザーボードやドーターボード等の配線基板への半
導体の実装に好適な、キャパシタシート構造の改良に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a capacitor sheet, a method for manufacturing the same, a circuit board, and a semiconductor device,
Particularly, the present invention relates to improvement of a capacitor sheet structure suitable for mounting a semiconductor on a wiring board such as a mother board or a daughter board.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、電子機器は回路のデジタル化が進
展し、情報処理の高速化、小型化、多機能集積化が著し
い。これに伴い回路基板には、増加する半導体部品の数
量に対応するため、高密度配線収容性や部品実装の高密
度化が要求されている。2. Description of the Related Art In recent years, digitalization of circuits has progressed in electronic equipment, and the speed of information processing, miniaturization, and multi-functional integration are remarkable. Along with this, circuit boards are required to have high-density wiring accommodation and high-density component mounting in order to cope with the increasing number of semiconductor parts.
【0003】高密度配線収容性の要求に対して、近年で
は全層IVH構造の多層配線基板やビルドアップ配線基
板などが開発され、実用化に至っている。また、部品実
装の高密度化に対しては、半導体パッケージのBGA、
CSP化が進展し、実装面積の低減や部品間隔を大幅に
狭くすることが可能となった。そして、さらに部品実装
の高密度化を図るため、半導体の動作に必須となるバイ
パスコンデンサを、基板内部に形成する技術などが開発
されている。In response to the demand for high-density wiring accommodation, a multilayer wiring board having an all-layer IVH structure, a build-up wiring board, and the like have recently been developed and put into practical use. In addition, for higher density of component mounting, BGA of semiconductor package,
With the progress of CSP, it has become possible to reduce the mounting area and significantly reduce the component spacing. Then, in order to further increase the density of component mounting, a technique for forming a bypass capacitor, which is indispensable for semiconductor operation, inside the substrate has been developed.
【0004】例えば特開平5−36857号公報には、
第1の導電体電極層と、第2の導電体電極層と、これら
2つの導電体電極層間に挟持された誘電体層とから形成
されたバイパスコンデンサが、シリコン(Si)あるい
は窒化アルミニウム(AlN)等からなる基板上に貼設
され、その上にさらに配線層および絶縁層よりなる多層
配線層が積層された例が開示されている。それによれ
ば、積層基板の表面に実装された半導体チップと内層の
バイパスコンデンサは、ビアを介して接続されているの
で、チップコンデンサを表面実装したような従来のもの
とは異なり、基板表面にチップコンデンサの占有面積や
接続のために必要な配線面積が不要である。従って、実
装部品の配置および結線の自由度が大幅に向上し、高密
度実装化が実現できる、とされている。For example, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 5-36857 discloses that
The bypass capacitor formed of the first conductor electrode layer, the second conductor electrode layer, and the dielectric layer sandwiched between these two conductor electrode layers is made of silicon (Si) or aluminum nitride (AlN). ) And the like, and a multilayer wiring layer including a wiring layer and an insulating layer is further laminated thereon. According to it, since the semiconductor chip mounted on the surface of the laminated substrate and the bypass capacitor of the inner layer are connected through the via, unlike the conventional one in which the chip capacitor is surface mounted, the chip is mounted on the surface of the substrate. The area occupied by the capacitor and the wiring area required for connection are unnecessary. Therefore, it is said that the degree of freedom of arrangement and wiring of mounted components is significantly improved, and high-density mounting can be realized.
【0005】近年、IC、LSIなどの集積回路の高速
化、大容量化に伴い、使用される信号も高周波化する一
途である。これらに起因して、集積回路が搭載されたパ
ッケージで発生するスイッチングノイズが、誤動作の要
因として問題となっている。In recent years, with the increase in the speed and capacity of integrated circuits such as ICs and LSIs, the frequencies of signals used have been increasing. Due to these, switching noise generated in the package in which the integrated circuit is mounted has become a problem as a cause of malfunction.
【0006】従来から用いられている高速、大容量LS
Iパッケージには、その電気特性を維持するために、電
源層と接地層が交互に形成された多層構造体が用いられ
ている。また、パッケージ基板のLSI周辺及び裏面
に、デカップリングコンデンサとして多数のチップコン
デンサが表面実装されている。Conventionally used high-speed, large-capacity LS
The I package uses a multi-layer structure in which power layers and ground layers are alternately formed in order to maintain its electrical characteristics. Further, a large number of chip capacitors are surface-mounted as decoupling capacitors around and around the LSI of the package substrate.
【0007】一方、低消費電力を目的として、低電圧で
かつ大電流でCPUを動作させる傾向にあり、CPUの
立ち上がり時に電源供給が不十分となり、動作性が問題
となってきている。従来例では、立ち上がり時の電源安
定化を図るために、LSI周辺に大容量の電解コンデン
サが形成されている。On the other hand, for the purpose of low power consumption, there is a tendency to operate the CPU with a low voltage and a large current, and the power supply becomes insufficient at the time of starting up the CPU, resulting in a problem of operability. In the conventional example, a large-capacity electrolytic capacitor is formed around the LSI in order to stabilize the power supply at the time of rising.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】このように、コンデン
サを基板内に内蔵することは、高密度実装化に非常に有
効な手段である。しかしながら、部品実装面の直下に配
線層があり、その下にコンデンサ層を形成する構成とな
るため、数層の絶縁層を通過するビアを介してコンデン
サが接続されることになり、電源供給の安定化という目
的に対して、ビアのインダクタンスが悪影響を及ぼすこ
とが懸念される。As described above, incorporating a capacitor in a substrate is a very effective means for high-density mounting. However, since there is a wiring layer directly below the component mounting surface and the capacitor layer is formed below that, the capacitor is connected via a via that passes through several insulating layers, and the power supply For the purpose of stabilization, there is concern that the inductance of the via may have an adverse effect.
【0009】本発明は、コンデンサを利用するための電
気的接続と、シート表裏の電気的接続が独立し、ビアの
インダクタンスによる悪影響が排除されたキャパシタシ
ートの構造、およびその製造方法を提供することを目的
とする。また、そのキャパシタシートを用いたキャパシ
タ内蔵基板、ならびに半導体装置を提供することを目的
とする。The present invention provides a structure of a capacitor sheet in which the electrical connection for utilizing a capacitor and the electrical connection on the front and back of the sheet are independent, and the adverse effect of the inductance of the via is eliminated, and a manufacturing method thereof. With the goal. Another object is to provide a capacitor-embedded substrate using the capacitor sheet and a semiconductor device.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明のキャパシタシー
トは、電源層電極および接地層電極の間に誘電体層が挟
持された積層体を少なくとも1組含む積層体シートと、
前記誘電体層、前記電源層電極および前記接地層電極を
貫通するスルーホール内に形成され、内部の前記電源層
電極および前記接地層電極との間が絶縁壁により絶縁さ
れ、前記積層体シートの表裏を電気的に接続する表裏接
続用貫通導体と、前記電源層電極、または前記接地層電
極の一方のみが配置された領域に形成され、前記電源層
電極または前記接地層電極と各々電気的に接続されたキ
ャパシタ用貫通導体とを備える。A capacitor sheet of the present invention comprises a laminate sheet including at least one laminate having a dielectric layer sandwiched between a power layer electrode and a ground layer electrode,
The dielectric layer, the power supply layer electrode and the ground layer electrode is formed in a through hole that penetrates, the power supply layer electrode and the ground layer electrode inside is insulated by an insulating wall, Front and back connecting through conductors for electrically connecting the front and back, and the power supply layer electrode, or formed in a region in which only one of the ground layer electrode is arranged, electrically connected to the power supply layer electrode or the ground layer electrode, respectively. And a connected capacitor through conductor.
【0011】この構成によれば、コンデンサを利用する
ための電気的接続と、シート表裏の電気的接続を独立さ
せることができる。なお、上記積層体の数は、通常2〜
100程度であるが、必要に応じて100以上とするこ
とも可能である。According to this structure, the electrical connection for utilizing the capacitor and the electrical connection for the front and back of the seat can be made independent. The number of the above-mentioned laminated bodies is usually 2 to
Although it is about 100, it can be 100 or more as required.
【0012】本発明のキャパシタシートの製造方法は、
上記構成のキャパシタシートを製造する方法であって、
前記表裏接続用貫通導体を形成する工程が、前記積層体
シートに大口径の貫通孔を形成する工程と、前記大口径
の貫通孔に絶縁体を充填する工程と、前記絶縁体が充填
された前記貫通孔に小口径の貫通孔を形成する工程と、
前記小口径の貫通孔に貫通導体を設ける工程とを含む。The method of manufacturing a capacitor sheet according to the present invention is
A method of manufacturing a capacitor sheet having the above structure,
The step of forming the front and back connecting through conductors, the step of forming a large diameter through hole in the laminate sheet, the step of filling the large diameter through hole with an insulator, the insulator is filled A step of forming a small diameter through hole in the through hole,
Providing a through conductor in the small diameter through hole.
【0013】本発明のキャパシタ内蔵基板は、上記構成
のキャパシタシートが内部に積層されたキャパシタ内蔵
基板であって、前記キャパシタシートの両面に積層され
たプリント配線基板間が、前記表裏接続用貫通導体によ
って電気的に接続され、前記キャパシタシートの前記電
源層電極と前記接地層電極に対する接続が、前記キャパ
シタ用貫通導体によってなされている。The capacitor-embedded substrate of the present invention is a capacitor-embedded substrate in which the capacitor sheets having the above-mentioned structure are laminated, and the front and back connecting through conductors are provided between the printed wiring boards laminated on both sides of the capacitor sheet. And the power supply layer electrode and the ground layer electrode of the capacitor sheet are connected by the capacitor through conductor.
【0014】上記の構成によれば、多層積層コンデンサ
を利用することにより、電源供給の大容量化も可能であ
る。また、積層コンデンサを所定の容量に分割して配置
することにより、様々な機能にも対応することができ
る。さらに、任意の層にコンデンサを内蔵することが可
能になることから、コンデンサ層を実装部品の直下の
層、言い換えれば基板の最表層に形成することができる
ため、コンデンサに接続するためのビア接続を最短にす
ることができる。それにより、ビアのインダクタンスの
影響を最小限に抑制することが可能となり、電源供給の
安定化をより効果的に実現することができる。また、コ
ンデンサ層を通過してその下層に接続するビアを設ける
ことで、内層で自由度の高い配線接続が可能となるた
め、設計も簡易なものとなる。According to the above construction, it is possible to increase the capacity of power supply by using the multilayer laminated capacitor. Further, by arranging the multilayer capacitor by dividing it into a predetermined capacity, it is possible to cope with various functions. Furthermore, since it is possible to embed a capacitor in any layer, it is possible to form the capacitor layer in the layer immediately below the mounted component, in other words, in the outermost surface layer of the board, so via connection for connecting to the capacitor is possible. Can be the shortest. As a result, the influence of the inductance of the via can be suppressed to the minimum, and the power supply can be stabilized more effectively. Further, by providing a via that passes through the capacitor layer and is connected to the lower layer thereof, it becomes possible to perform wiring connection with a high degree of freedom in the inner layer, so that the design becomes simple.
【0015】本発明の半導体装置は、表面およびその内
部に信号配線層が形成された樹脂多層基板と、前記樹脂
多層基板内に設置され接続された上記構成のキャパシタ
シートと、前記樹脂多層基板上にフリップチップ実装さ
れた半導体チップとを備える。または、半導体チップに
代えて、前記樹脂多層基板上に実装された半導体チップ
キャリアとを備えた構成としてもよい。The semiconductor device of the present invention comprises: a resin multilayer substrate having a signal wiring layer formed on the surface and inside thereof; a capacitor sheet having the above-mentioned structure installed and connected in the resin multilayer substrate; And a semiconductor chip mounted by flip-chip mounting. Alternatively, the semiconductor chip carrier may be mounted on the resin multilayer substrate instead of the semiconductor chip.
【0016】また、本発明の半導体装置は、表面および
その内部に信号配線層が形成された樹脂多層基板と、前
記樹脂多層基板上に設置され接続された上記構成のキャ
パシタシートと、前記キャパシタシート上にフリップチ
ップ実装された半導体チップとを備える。または、半導
体チップに代えて、前記キャパシタシート上に実装され
た半導体チップキャリアを備えた構成としてもよい。Further, the semiconductor device of the present invention includes a resin multilayer substrate having a signal wiring layer formed on the surface and inside thereof, a capacitor sheet having the above-mentioned configuration installed and connected on the resin multilayer substrate, and the capacitor sheet. And a semiconductor chip flip-chip mounted thereon. Alternatively, instead of the semiconductor chip, a semiconductor chip carrier mounted on the capacitor sheet may be provided.
【0017】[0017]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき説明する。なお、本発明で利用できるキャパシ
タシートとしては、セラミックグリーンシートによる積
層コンデンサ、フィルム積層による積層コンデンサおよ
びスパッタやCVD等の真空プロセスによる積層コンデ
ンサ等が挙げられる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Examples of the capacitor sheet that can be used in the present invention include a laminated capacitor made of ceramic green sheets, a laminated capacitor made of film lamination, and a laminated capacitor made by a vacuum process such as sputtering or CVD.
【0018】(実施の形態1)図1は、本発明の実施の
形態1におけるキャパシタシートの構造を示す断面図で
ある。このキャパシタシートは、誘電体層1と、対向電
極2aおよび2bの積層体が、多層に積層されて形成さ
れている。対向電極2aおよび2bは、一方が電源層電
極、他方が接地層電極として用いられる。(Embodiment 1) FIG. 1 is a sectional view showing a structure of a capacitor sheet according to Embodiment 1 of the present invention. This capacitor sheet is formed by laminating a dielectric layer 1 and a laminate of counter electrodes 2a and 2b in multiple layers. One of the counter electrodes 2a and 2b is used as a power layer electrode and the other is used as a ground layer electrode.
【0019】多層の積層体の表裏を電気的に接続するた
め、誘電体層1、対向電極2aおよび2bを貫通するス
ルーホールが形成されている。そのスルーホールに、内
部の対向電極2aおよび2bとの間を絶縁壁3により絶
縁された貫通スルーホール導体4が設けられている。貫
通スルーホール導体4は、金属メッキにより形成されて
いる。また、複数の対向電極2aまたは2bを各々電気
的に接続するために、対向電極2aおよび2bが対向し
ていない領域において、誘電体層1と、対向電極2aま
たは2bを貫通する、スルーホールが形成されている。
そのスルーホールに、貫通スルーホール導体4aまたは
4bが設けられている。Through holes are formed to penetrate the dielectric layer 1 and the counter electrodes 2a and 2b in order to electrically connect the front and back of the multilayer laminate. The through hole is provided with a through-hole conductor 4 which is insulated from the opposing electrodes 2a and 2b inside by the insulating wall 3. The through-hole conductor 4 is formed by metal plating. Further, in order to electrically connect the plurality of counter electrodes 2a or 2b to each other, a through hole penetrating the dielectric layer 1 and the counter electrode 2a or 2b is formed in a region where the counter electrodes 2a and 2b are not opposed to each other. Has been formed.
The through hole is provided with a through through-hole conductor 4a or 4b.
【0020】上記の構造により、貫通スルーホール導体
4aと4bを使用してコンデンサを利用することができ
るとともに、貫通スルーホール導体4により、コンデン
サとは独立して表裏の電気的信号を通すことができる。With the above structure, a capacitor can be used by using the through through-hole conductors 4a and 4b, and the through through-hole conductor 4 can pass an electric signal on the front and back sides independently of the capacitor. it can.
【0021】(実施の形態2)図2は、本発明の実施の
形態2におけるキャパシタシートの構造を示す断面図で
ある。基本的な構造は、図1のキャパシタシートと同様
である。(Second Embodiment) FIG. 2 is a sectional view showing the structure of a capacitor sheet according to a second embodiment of the present invention. The basic structure is similar to that of the capacitor sheet of FIG.
【0022】多層の積層体の表裏を電気的に接続するた
め、誘電体層1、対向電極2aおよび2bを貫通して形
成されたスルーホールに、内部の対向電極2aおよび2
bとの間を絶縁壁3により絶縁された貫通スルーホール
導体4が設けられている。本実施の形態においては、複
数の対向電極2aまたは2bを各々電気的に接続するた
めの構造が、実施の形態1と相違する。すなわち、対向
電極2aおよび2bが対向していない領域において、誘
電体層1と、対向電極2aまたは2bを貫通して形成さ
れたスルーホールに、貫通ビア導体5aまたは5bが設
けられている。貫通ビア導体5a、5bは、導電性ペー
ストにより形成されている。In order to electrically connect the front and back of the multi-layered laminate, the internal counter electrodes 2a and 2 are provided in through holes formed through the dielectric layer 1 and the counter electrodes 2a and 2b.
A through-through-hole conductor 4 is provided, which is insulated from the surface b by an insulating wall 3. In the present embodiment, the structure for electrically connecting a plurality of counter electrodes 2a or 2b is different from that of the first embodiment. That is, in the region where the counter electrodes 2a and 2b do not face each other, the through-via conductor 5a or 5b is provided in the through hole formed through the dielectric layer 1 and the counter electrode 2a or 2b. The through via conductors 5a and 5b are formed of a conductive paste.
【0023】上記の構造により、貫通ビア導体5aと5
bを使用してコンデンサを利用することができるととも
に、貫通スルーホール導体4により、コンデンサとは独
立して表裏の電気的信号を通すことができる。With the above structure, the through via conductors 5a and 5
The capacitor can be used by using b, and the through through-hole conductor 4 can pass the electric signals on the front and back sides independently of the capacitor.
【0024】(実施の形態3)図3は、本発明の実施の
形態3におけるキャパシタシートの構造を示す断面図で
ある。基本的な構造は、図1のキャパシタシートと同様
である。(Third Embodiment) FIG. 3 is a sectional view showing a structure of a capacitor sheet according to a third embodiment of the present invention. The basic structure is similar to that of the capacitor sheet of FIG.
【0025】本実施の形態においては、多層の積層体の
表裏を電気的に接続するための構造が、実施の形態1と
相違する。すなわち、誘電体層1、対向電極2aおよび
2bを貫通して形成されたスルーホールに、内部の対向
電極2aおよび2bとの間を絶縁壁3により絶縁された
貫通ビア導体5が設けられている。また、複数の対向電
極2aまたは2bを各々電気的に接続するために、対向
電極2aおよび2bが対向していない領域において、誘
電体層1と、対向電極2aまたは2bを貫通して形成さ
れたスルーホールに、貫通スルーホール導体4aまたは
4bが設けられている。The present embodiment differs from the first embodiment in the structure for electrically connecting the front and back surfaces of the multilayer laminate. That is, the through-via conductor 5 insulated from the internal counter electrodes 2a and 2b by the insulating wall 3 is provided in the through hole formed through the dielectric layer 1 and the counter electrodes 2a and 2b. . Further, in order to electrically connect the plurality of counter electrodes 2a or 2b to each other, it is formed by penetrating the dielectric layer 1 and the counter electrode 2a or 2b in a region where the counter electrodes 2a and 2b are not opposed to each other. A through-hole through-hole conductor 4a or 4b is provided in the through-hole.
【0026】上記の構造により、貫通スルーホール導体
4aと4bを使用してコンデンサを利用することができ
るとともに、貫通ビア導体5により、コンデンサとは独
立して表裏の電気的信号を通すことができる。With the above structure, a capacitor can be utilized by using the through-hole conductors 4a and 4b, and the through-via conductor 5 can pass an electric signal on the front and back sides independently of the capacitor. .
【0027】(実施の形態4)図4は、本発明の実施の
形態4におけるキャパシタシートの構造を示す断面図で
ある。基本的な構造は、図1のキャパシタシートと同様
である。本実施の形態においては、電気的に接続するた
めの構造が、全て貫通ビア導体により形成されている。(Fourth Embodiment) FIG. 4 is a sectional view showing a structure of a capacitor sheet according to a fourth embodiment of the present invention. The basic structure is similar to that of the capacitor sheet of FIG. In the present embodiment, all the structures for electrical connection are formed by through via conductors.
【0028】多層の積層体の表裏を電気的に接続するた
め、誘電体層1、対向電極2aおよび2bを貫通して形
成されたスルーホールに、内部の対向電極2aおよび2
bとの間を絶縁壁3により絶縁された貫通ビア導体5が
設けられている。また、複数の対向電極2aまたは2b
を各々電気的に接続するため、対向電極2aおよび2b
が対向していない領域において、誘電体層1と、対向電
極2aまたは2bを貫通して形成されたスルーホール
に、貫通ビア導体5aまたは5bが設けられている。In order to electrically connect the front and back of the multi-layer laminate, the internal counter electrodes 2a and 2 are formed in through holes formed through the dielectric layer 1 and the counter electrodes 2a and 2b.
A through via conductor 5 is provided which is insulated from the surface b by the insulating wall 3. In addition, a plurality of counter electrodes 2a or 2b
Counter electrodes 2a and 2b for electrically connecting
Through regions formed in the areas not facing each other through the dielectric layer 1 and the counter electrode 2a or 2b are provided with through via conductors 5a or 5b.
【0029】上記の構造により、貫通ビア導体5aと5
bを使用してコンデンサを利用することができるととも
に、貫通ビア導体5により、コンデンサとは独立して表
裏の電気的信号を通すことができる。With the above structure, the through via conductors 5a and 5
The capacitor can be used by using b, and the through via conductor 5 allows an electric signal on the front and back sides to pass independently of the capacitor.
【0030】図5に、貫通ビア導体5、5a、および5
bの平面的な配置の例を示す。FIG. 5 shows through via conductors 5, 5a, and 5
The example of planar arrangement of b is shown.
【0031】(実施の形態5)次に、本発明の実施の形
態5におけるキャパシタシートの製造方法について図6
を参照して説明する。(Fifth Embodiment) Next, a method of manufacturing a capacitor sheet according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
Will be described with reference to.
【0032】まず、図6Aに示すように、公知の技術を
用いて、誘電体層1、対向電極2a、および対向電極2
bが積層された、積層キャパシタシートを作製する。次
に図6Bの様に、対向電極2a、対向電極2bが対向し
ている必要部分に、貫通孔10を形成する。この場合の
穴加工法としては、ドリル加工やレーザー加工を利用す
ることができる。First, as shown in FIG. 6A, the dielectric layer 1, the counter electrode 2a, and the counter electrode 2 are formed by using a known technique.
A laminated capacitor sheet in which b is laminated is produced. Next, as shown in FIG. 6B, a through hole 10 is formed in a necessary portion where the counter electrode 2a and the counter electrode 2b face each other. Drilling or laser processing can be used as the hole processing method in this case.
【0033】次に図6Cの様に、貫通孔10に絶縁体ペ
ースト11を充填する。絶縁体ペースト11は、絶縁性
を有する無機フィラーを含んでいる場合もある。この絶
縁体ペースト11が熱硬化性樹脂を含む場合には、硬化
処理した後に次の工程に進む。Next, as shown in FIG. 6C, the through holes 10 are filled with the insulating paste 11. The insulator paste 11 may include an inorganic filler having an insulating property. When the insulating paste 11 contains a thermosetting resin, it is subjected to a curing treatment and then proceeds to the next step.
【0034】次に図6Dの様に、図6Cのキャパシタシ
ートの両面に、離型フィルム12上に接着剤層13を形
成したフィルムを積層する。この場合、図のように、キ
ャパシタシート面に接着剤層13が当接するように積層
する。積層方法は、ラミネートやプレスなど公知の技術
で行うことができる。Next, as shown in FIG. 6D, a film having the adhesive layer 13 formed on the release film 12 is laminated on both surfaces of the capacitor sheet of FIG. 6C. In this case, as shown in the figure, the capacitor sheet is laminated such that the adhesive layer 13 contacts the surface of the capacitor sheet. The laminating method can be performed by a known technique such as laminating or pressing.
【0035】次に図6Eの様に、絶縁体ペースト11
に、その径より小さい貫通孔14を形成する。それによ
り、絶縁壁3中に貫通孔14が配置された構造が形成さ
れる。この場合の穴加工法も、ドリル加工やレーザー加
工を利用することができる。貫通孔14は、絶縁体ペー
スト11と同心円であることが望ましい。Next, as shown in FIG. 6E, the insulator paste 11
Then, a through hole 14 having a diameter smaller than that is formed. Thereby, a structure in which the through hole 14 is arranged in the insulating wall 3 is formed. As the hole processing method in this case, drilling or laser processing can be used. The through holes 14 are preferably concentric with the insulating paste 11.
【0036】次に図6Fの様に、貫通孔14に導体ペー
スト5を充填する。充填方法としては、スクリーン印刷
機を用いて、直接導体ペースト5を離型フィルム12上
から印刷することにより充填する。この際、印刷面と反
対の側から、和紙等の多孔質シートを介して真空吸着す
ることにより、貫通孔14内の導体ペースト5中の樹脂
成分を吸い取り、導体成分の割合を増加させることで、
導体成分をさらに緻密に充填することができる。この工
程において、離型フィルム12は、印刷マスクの役割
と、接着剤層13表面の汚染防止の役割を果たしてい
る。Next, as shown in FIG. 6F, the through holes 14 are filled with the conductor paste 5. As a filling method, the conductive paste 5 is directly printed on the release film 12 by using a screen printer to fill the conductive paste 5. At this time, the resin component in the conductor paste 5 in the through holes 14 is absorbed by vacuum suction from the side opposite to the printed surface through a porous sheet such as Japanese paper, thereby increasing the ratio of the conductor component. ,
The conductor component can be filled more densely. In this step, the release film 12 plays a role of a printing mask and a role of preventing contamination of the surface of the adhesive layer 13.
【0037】次に図6Gに示すように、離型フィルム1
2をキャパシタシートの両面より剥離する。次いで図6
Hに示すように、金属箔15をキャパシタシートの両面
に重ね合わせ、加熱加圧する。加熱加圧は、例えば真空
プレスにより行う。この加熱加圧により、接着剤層13
および導体ペースト5は熱硬化して、図6Iに示すよう
に、金属箔15が接着されたキャパシタシートが形成さ
れる。Next, as shown in FIG. 6G, the release film 1
2 is peeled from both sides of the capacitor sheet. Then, FIG.
As shown in H, the metal foil 15 is superposed on both sides of the capacitor sheet and heated and pressed. The heating and pressing is performed by, for example, a vacuum press. By this heating and pressing, the adhesive layer 13
Then, the conductor paste 5 is thermally cured to form a capacitor sheet to which the metal foil 15 is bonded, as shown in FIG. 6I.
【0038】次いで、図6Jの様に、対向電極2aおよ
び対向電極2bのうちの一方のみが配置されている部分
に、貫通孔16を形成する。さらに図6Kの様に、貫通
孔16に導体メッキを施して、貫通スルーホール導体4
aおよび4bを形成する。最後に図6Lの様に、両面の
金属箔15を、フォトリソエッチング法によりパターン
形成する。Next, as shown in FIG. 6J, a through hole 16 is formed in a portion where only one of the counter electrode 2a and the counter electrode 2b is arranged. Further, as shown in FIG. 6K, the through-hole 16 is plated with a conductor to form the through-hole conductor 4.
a and 4b are formed. Finally, as shown in FIG. 6L, the metal foils 15 on both sides are patterned by a photolithographic etching method.
【0039】(実施の形態6)図7は、本発明の実施の
形態6におけるキャパシタシートの製造方法を示す工程
断面図である。(Embodiment 6) FIGS. 7A to 7C are process sectional views showing a method of manufacturing a capacitor sheet according to Embodiment 6 of the present invention.
【0040】まず、図7Aに示すように、公知の技術を
用いて、誘電体層1、対向電極2a、および対向電極2
bが積層された、積層キャパシタシートを作製する。次
に、図7Bの様に、対向電極2a、対向電極2bが対向
している必要部分に、貫通孔10を形成する。この場合
の穴加工法としては、ドリル加工やレーザー加工を利用
することができる。First, as shown in FIG. 7A, the dielectric layer 1, the counter electrode 2a, and the counter electrode 2 are formed by using a known technique.
A laminated capacitor sheet in which b is laminated is produced. Next, as shown in FIG. 7B, a through hole 10 is formed in a necessary portion where the counter electrode 2a and the counter electrode 2b face each other. Drilling or laser processing can be used as the hole processing method in this case.
【0041】次に図7Cの様に、貫通孔10に絶縁体ペ
ースト11を充填する。絶縁体ペースト11は、絶縁性
を有する無機フィラーを含んでいる場合もある。絶縁体
ペースト11が熱硬化性樹脂を含む場合には、硬化処理
した後に、図7Dの様に、図7Cのキャパシタシートの
両面に、離型フィルム12上に接着剤層13を形成した
フィルムを積層する。この場合、図のように、キャパシ
タシート面に接着剤層13が当接するように積層する。
積層方法は、ラミネートやプレスなど公知の技術で行う
ことができる。Next, as shown in FIG. 7C, the through holes 10 are filled with the insulating paste 11. The insulator paste 11 may include an inorganic filler having an insulating property. When the insulating paste 11 contains a thermosetting resin, after the curing treatment, a film in which the adhesive layer 13 is formed on the release film 12 is formed on both surfaces of the capacitor sheet of FIG. 7C as shown in FIG. 7D. Stack. In this case, as shown in the figure, the capacitor sheet is laminated such that the adhesive layer 13 contacts the surface of the capacitor sheet.
The laminating method can be performed by a known technique such as laminating or pressing.
【0042】次に図7Eの様に、絶縁体ペースト11
に、その径より小さい貫通孔14を形成する。それによ
り、絶縁壁3中に貫通孔14が配置された構造が形成さ
れる。さらに、対向電極2aおよび対向電極2bのうち
の一方のみが配置されている部分にも、貫通孔16を形
成する。この場合の穴加工法も、ドリル加工やレーザー
加工を利用することができる。貫通孔14は、絶縁体ペ
ースト11と同心円であることが望ましい。Next, as shown in FIG. 7E, the insulator paste 11
Then, a through hole 14 having a diameter smaller than that is formed. Thereby, a structure in which the through hole 14 is arranged in the insulating wall 3 is formed. Further, the through hole 16 is also formed in a portion where only one of the counter electrode 2a and the counter electrode 2b is arranged. As the hole processing method in this case, drilling or laser processing can be used. The through holes 14 are preferably concentric with the insulating paste 11.
【0043】次に図7Fの様に、貫通孔14、16に導
体ペースト5を充填する。充填方法としては、スクリー
ン印刷機を用いて、直接導体ペースト5を離型フィルム
12上から印刷することにより充填する。この際、印刷
面と反対の側より和紙等の多孔質シートを介して真空吸
着することにより、貫通孔14、16内の導体ペースト
5中の樹脂成分を吸い取り、導体成分の割合を増加させ
ることで、導体成分をさらに緻密に充填することができ
る。この工程において、離型フィルム12は、印刷マス
クの役割と接着剤層13表面の汚染防止の役割を果たし
ている。Next, as shown in FIG. 7F, the through holes 14 and 16 are filled with the conductive paste 5. As a filling method, the conductive paste 5 is directly printed on the release film 12 by using a screen printer to fill the conductive paste 5. At this time, the resin component in the conductor paste 5 in the through holes 14 and 16 is absorbed by vacuum suction from the side opposite to the printed surface through a porous sheet such as Japanese paper to increase the ratio of the conductor component. Thus, the conductor component can be more densely filled. In this step, the release film 12 plays a role of a printing mask and a role of preventing contamination of the surface of the adhesive layer 13.
【0044】次に図7Gに示すように、離型フィルム1
2をキャパシタシートの両面より剥離する。次いで図7
Hに示すように、金属箔15をキャパシタシートの両面
に重ね合わせ、加熱加圧する。加熱加圧は、例えば真空
プレスにより行う。この加熱加圧により、接着剤層13
および導体ペースト5は熱硬化して、図7Iに示すよう
に、金属箔15が接着されたキャパシタシートが形成さ
れる。Next, as shown in FIG. 7G, the release film 1
2 is peeled from both sides of the capacitor sheet. Then FIG.
As shown in H, the metal foil 15 is superposed on both sides of the capacitor sheet and heated and pressed. The heating and pressing is performed by, for example, a vacuum press. By this heating and pressing, the adhesive layer 13
And the conductor paste 5 is heat-cured to form a capacitor sheet to which the metal foil 15 is adhered, as shown in FIG. 7I.
【0045】最後に図7Jの様に、両面の金属箔15を
フォトリソエッチング法によりパターン形成する。Finally, as shown in FIG. 7J, the metal foils 15 on both sides are patterned by photolithography.
【0046】(実施の形態7)図8は、実施の形態7に
おける多層基板の断面図である。この多層基板は、本発
明のキャパシタシートを内蔵している。図8において、
101はキャパシタシートを示す。基板の上下の導通は
貫通スルー電極102により確保される。一方内蔵され
たコンデンサは、電極103aおよび103bを使用し
て利用することができる。(Seventh Embodiment) FIG. 8 is a sectional view of a multilayer substrate according to a seventh embodiment. This multilayer substrate incorporates the capacitor sheet of the present invention. In FIG.
101 indicates a capacitor sheet. Conduction between the upper and lower sides of the substrate is ensured by the through through electrodes 102. On the other hand, the built-in capacitor can be used by using the electrodes 103a and 103b.
【0047】(実施の形態8)図9は、実施の形態8に
おける多層基板の断面図である。この多層基板は、多数
のキャパシタシート101および104を内蔵してい
る。基板の内部には、任意の層に、任意の大きさのキャ
パシタシート101を内蔵できる。また、キャパシタシ
ート104の様に、シート内を予め分割したものを利用
することも可能である。(Embodiment 8) FIG. 9 is a cross-sectional view of a multilayer substrate according to Embodiment 8. This multilayer substrate incorporates a large number of capacitor sheets 101 and 104. Inside the substrate, the capacitor sheet 101 of any size can be built in any layer. Further, it is also possible to use a sheet obtained by dividing the inside of the sheet in advance like the capacitor sheet 104.
【0048】(実施の形態9)図10は、実施の形態9
における半導体装置を示す断面図である。この半導体装
置は、本発明のキャパシタ内蔵基板に半導体を実装した
ものである。(Ninth Embodiment) FIG. 10 shows a ninth embodiment.
3 is a cross-sectional view showing the semiconductor device in FIG. This semiconductor device is obtained by mounting a semiconductor on the capacitor-embedded substrate of the present invention.
【0049】図10において、200は、キャパシタシ
ートを内蔵した多層基板である。多層基板200の表面
に、半導体チップ201が、フリップチップ接続202
により接続されている。この場合の実装方法としては、
ハンダ接続等、公知の実装技術を使用することができ
る。また、必要に応じてアンダーフィル203を設ける
ことが可能である。In FIG. 10, reference numeral 200 denotes a multi-layer substrate containing a capacitor sheet. On the surface of the multi-layer substrate 200, the semiconductor chip 201 is connected to the flip chip connection 202.
Connected by. In this case, the implementation method is
Known mounting techniques such as solder connection can be used. In addition, an underfill 203 can be provided if necessary.
【0050】(実施の形態10)図11は、実施の形態
10における半導体装置を示す断面図である。この半導
体装置においては、キャパシタシートを内蔵した多層基
板200の表面に、予め半導体チップ201を1次実装
したキャリア基板204が2次実装されている。半導体
チップ201は、キャリア基板204の表面に、フリッ
プチップ接続202により接続されている。この場合の
実装方法としては、ハンダ接続等、公知の実装技術を使
用することができる。(Tenth Embodiment) FIG. 11 is a sectional view showing a semiconductor device according to a tenth embodiment. In this semiconductor device, a carrier substrate 204, on which a semiconductor chip 201 is primarily mounted in advance, is secondarily mounted on the surface of a multilayer substrate 200 having a built-in capacitor sheet. The semiconductor chip 201 is connected to the surface of the carrier substrate 204 by flip chip connection 202. As a mounting method in this case, a known mounting technique such as solder connection can be used.
【0051】(実施の形態11)図12は、実施の形態
11における半導体装置を示す断面図である。この半導
体装置は、キャパシタシート上にフリップチップ実装さ
れた半導体チップを備えていること以外は、実施の形態
9とほぼ同様である。(Eleventh Embodiment) FIG. 12 is a sectional view showing a semiconductor device according to the eleventh embodiment. This semiconductor device is substantially the same as that of the ninth embodiment, except that the semiconductor chip is flip-chip mounted on the capacitor sheet.
【0052】(実施の形態12)図13は、実施の形態
12における半導体装置を示す断面図である。この半導
体装置は、キャパシタシート上に実装された半導体チッ
プキャリアを備えていること以外は、実施の形態10と
ほぼ同様である。(Twelfth Embodiment) FIG. 13 is a sectional view showing a semiconductor device according to a twelfth embodiment. This semiconductor device is almost the same as that of the tenth embodiment except that it is equipped with a semiconductor chip carrier mounted on a capacitor sheet.
【0053】[0053]
【発明の効果】本発明によれば、多層積層キャパシタシ
ートにおいて、表裏の電気的な貫通接続構造とコンデン
サ電極を独立して利用することができる。従って、コン
デンサ層を実装部品の直下の層、言い換えれば基板の最
表層に形成することができる。そのため、コンデンサに
接続するためのビア接続を最短にすることができ、ビア
のインダクタンスの影響を最小限に抑制することが可能
となる。その結果、電源供給の安定化をより効果的に実
現することができる。According to the present invention, in the multilayer laminated capacitor sheet, the front and back electrical through-connection structures and the capacitor electrodes can be independently utilized. Therefore, the capacitor layer can be formed immediately below the mounted component, in other words, the outermost layer of the substrate. Therefore, the via connection for connecting to the capacitor can be minimized, and the influence of the inductance of the via can be suppressed to the minimum. As a result, the power supply can be stabilized more effectively.
【0054】また、コンデンサ層を通過しその下層に接
続するビアを設けることで、自由度の高い配線接続が可
能となるため、設計も簡易なものとなる。Further, by providing a via that passes through the capacitor layer and is connected to the layer below the capacitor layer, wiring connection with a high degree of freedom becomes possible, and therefore the design becomes simple.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】本発明の実施の形態1におけるキャパシタシー
トの構造を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing a structure of a capacitor sheet according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の実施の形態2におけるキャパシタシー
トの構造を示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view showing a structure of a capacitor sheet according to a second embodiment of the present invention.
【図3】本発明の実施の形態3におけるキャパシタシー
トの構造を示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing a structure of a capacitor sheet according to a third embodiment of the present invention.
【図4】本発明の実施の形態4におけるキャパシタシー
トの構造を示す断面図である。FIG. 4 is a sectional view showing a structure of a capacitor sheet according to a fourth embodiment of the present invention.
【図5】本発明のキャパシタシートの構造を示す斜視図
である。FIG. 5 is a perspective view showing a structure of a capacitor sheet of the present invention.
【図6】本発明の実施の形態5における、キャパシタシ
ートの製造方法を示す工程断面図である。FIG. 6 is a process sectional view showing the method of manufacturing the capacitor sheet in the fifth embodiment of the present invention.
【図7】本発明の実施の形態6における、キャパシタシ
ートの製造方法を示す工程断面図である。FIG. 7 is a process cross-sectional view showing the method of manufacturing a capacitor sheet in the sixth embodiment of the present invention.
【図8】本発明の実施の形態7におけるキャパシタシー
ト内蔵基板を示す断面図である。FIG. 8 is a sectional view showing a substrate with a built-in capacitor sheet according to a seventh embodiment of the present invention.
【図9】本発明の実施の形態8におけるキャパシタシー
ト内蔵基板を示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing a capacitor sheet built-in substrate according to an eighth embodiment of the present invention.
【図10】本発明の実施の形態9における半導体装置を
示す断面図である。FIG. 10 is a sectional view showing a semiconductor device according to a ninth embodiment of the present invention.
【図11】本発明の実施の形態10における半導体装置
を示す断面図である。FIG. 11 is a sectional view showing a semiconductor device according to a tenth embodiment of the present invention.
【図12】本発明の実施の形態11における半導体装置
を示す断面図である。FIG. 12 is a sectional view showing a semiconductor device according to an eleventh embodiment of the present invention.
【図13】本発明の実施の形態12における半導体装置
を示す断面図である。FIG. 13 is a sectional view showing a semiconductor device according to a twelfth embodiment of the present invention.
1 誘電体層 2 対向電極 3 絶縁壁 4 貫通スルーホール導体 5 貫通ビア導体 10 貫通孔 11 絶縁体ペースト 12 離型フィルム 13 接着剤層 14 貫通孔 15 金属箔 16 貫通孔 101 キャパシタシート 102 貫通スルー電極 103 電極 104 キャパシタシート 200 多層基板 201 半導体チップ 202 フリップチップ接続 203 アンダーフィル 204 キャリア基板 1 Dielectric layer 2 Counter electrode 3 insulating walls 4 Through-hole conductor 5 Through via conductor 10 through holes 11 Insulator paste 12 Release film 13 Adhesive layer 14 through holes 15 Metal foil 16 through holes 101 Capacitor sheet 102 Through electrode 103 electrodes 104 Capacitor sheet 200 multi-layer board 201 semiconductor chip 202 flip chip connection 203 Underfill 204 carrier substrate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安藤 大蔵 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5E082 BC14 CC03 JJ03 JJ15 JJ21 5E346 AA42 BB03 BB04 CC08 DD02 DD22 EE24 FF04 FF45 HH04 HH05 HH06 HH25 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Daizo Ando 1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric Sangyo Co., Ltd. F-term (reference) 5E082 BC14 CC03 JJ03 JJ15 JJ21 5E346 AA42 BB03 BB04 CC08 DD02 DD22 EE24 FF04 FF45 HH04 HH05 HH06 HH25
Claims (14)
体層が挟持された積層体を少なくとも1組含む積層体シ
ートと、 前記誘電体層、前記電源層電極および前記接地層電極を
貫通するスルーホール内に形成され、内部の前記電源層
電極および前記接地層電極との間が絶縁壁により絶縁さ
れ、前記積層体シートの表裏を電気的に接続する表裏接
続用貫通導体と、 前記電源層電極、または前記接地層電極の一方のみが配
置された領域に形成され、前記電源層電極または前記接
地層電極と各々電気的に接続されたキャパシタ用貫通導
体とを備えたことを特徴とするキャパシタシート。1. A laminate sheet including at least one laminate in which a dielectric layer is sandwiched between a power layer electrode and a ground layer electrode; and a dielectric layer, the power layer electrode, and the ground layer electrode. A through-hole conductor for front and back connection, which is formed in a through hole, is electrically insulated from the power supply layer electrode and the ground layer electrode inside by an insulating wall, and electrically connects the front and back of the laminate sheet; A layer electrode, or a grounding layer electrode, and a through conductor for a capacitor, which is formed in a region where only one of the grounding layer electrode is arranged and is electrically connected to the power supply layer electrode or the grounding layer electrode, respectively. Capacitor sheet.
パシタ用貫通導体が、各々、金属メッキまたは導電性ペ
ーストで形成されている請求項1に記載のキャパシタシ
ート。2. The capacitor sheet according to claim 1, wherein the front and back connecting through conductor and the capacitor through conductor are each formed of metal plating or conductive paste.
造する方法であって、 前記表裏接続用貫通導体を形成する工程が、前記積層体
シートに大口径の貫通孔を形成する工程と、前記大口径
の貫通孔に絶縁体を充填する工程と、前記絶縁体が充填
された前記貫通孔に小口径の貫通孔を形成する工程と、
前記小口径の貫通孔に貫通導体を設ける工程とを含むこ
とを特徴とするキャパシタシートの製造方法。3. The method for manufacturing a capacitor sheet according to claim 1, wherein the step of forming the through conductor for connecting the front and back sides includes the step of forming a through hole having a large diameter in the laminate sheet, A step of filling a large diameter through hole with an insulator, and a step of forming a small diameter through hole in the through hole filled with the insulator,
And a step of providing a through conductor in the small-diameter through hole.
径の貫通孔の内壁に金属メッキを施すことにより行われ
る請求項3に記載のキャパシタシートの製造方法。4. The method of manufacturing a capacitor sheet according to claim 3, wherein the step of providing the through conductor is performed by applying metal plating to an inner wall of the small diameter through hole.
径の貫通孔を導電性ペースト接続することにより行われ
る請求項3に記載のキャパシタシートの製造方法。5. The method of manufacturing a capacitor sheet according to claim 3, wherein the step of providing the through conductor is performed by connecting the through hole having the small diameter with a conductive paste.
貫通孔に充填する絶縁体が、熱硬化型樹脂である請求項
3に記載のキャパシタシートの製造方法。6. The method of manufacturing a capacitor sheet according to claim 3, wherein the insulator filling the large-diameter through hole formed in the laminate sheet is a thermosetting resin.
貫通孔に充填する絶縁体に無機フィラーが含まれている
請求項6に記載のキャパシタシートの製造方法。7. The method of manufacturing a capacitor sheet according to claim 6, wherein the insulator filled in the large-diameter through hole formed in the laminated sheet contains an inorganic filler.
部に積層されたキャパシタ内蔵基板であって、 前記キャパシタシートの両面に積層されたプリント配線
基板間が、前記表裏接続用貫通導体によって電気的に接
続され、前記キャパシタシートの前記電源層電極と前記
接地層電極に対する接続が、前記キャパシタ用貫通導体
によってなされていることを特徴とするキャパシタ内蔵
基板。8. A capacitor-embedded substrate in which the capacitor sheet according to claim 1 is laminated, wherein printed wiring boards laminated on both surfaces of the capacitor sheet are electrically connected by the through conductor for connecting the front and back sides. And a capacitor-embedded substrate, wherein the capacitor sheet is connected to the power source layer electrode and the ground layer electrode of the capacitor sheet.
数、もしくは2個所以上の層に内蔵されている請求項8
に記載のキャパシタ内蔵基板。9. The capacitor sheet is incorporated in a plurality of layers in the same layer or in two or more layers.
The substrate with a built-in capacitor described in.
ャパシタ用貫通導体が、各々、金属メッキまたは導電性
ペーストで形成されている請求項8に記載のキャパシタ
内蔵基板。10. The substrate with a built-in capacitor according to claim 8, wherein the front-back connection through conductor and the capacitor through conductor are each formed of metal plating or conductive paste.
成された樹脂多層基板と、前記樹脂多層基板内に設置さ
れ接続された請求項1に記載のキャパシタシートと、前
記樹脂多層基板上にフリップチップ実装された半導体チ
ップとを備えたことを特徴とする半導体装置。11. A resin multilayer substrate having a signal wiring layer formed on the surface and inside thereof, a capacitor sheet according to claim 1 installed and connected in the resin multilayer substrate, and a flip on the resin multilayer substrate. A semiconductor device comprising a chip-mounted semiconductor chip.
成された樹脂多層基板と、前記樹脂多層基板内に設置さ
れ接続された請求項1に記載のキャパシタシートと、前
記樹脂多層基板上に実装された半導体チップキャリアと
を備えたことを特徴とする半導体装置。12. A resin multi-layer substrate having a signal wiring layer formed on the surface and inside thereof, the capacitor sheet according to claim 1 installed and connected in the resin multi-layer substrate, and mounted on the resin multi-layer substrate. And a semiconductor chip carrier that has been manufactured.
成された樹脂多層基板と、前記樹脂多層基板上に設置さ
れ接続された請求項1に記載のキャパシタシートと、前
記キャパシタシート上にフリップチップ実装された半導
体チップとを備えたことを特徴とする半導体装置。13. A resin multilayer substrate having a signal wiring layer formed on the surface and inside thereof, the capacitor sheet according to claim 1 installed and connected on the resin multilayer substrate, and a flip chip on the capacitor sheet. A semiconductor device comprising: a mounted semiconductor chip.
成された樹脂多層基板と、前記樹脂多層基板上に設置さ
れ接続された請求項1に記載のキャパシタシートと、前
記キャパシタシート上に実装された半導体チップキャリ
アとを備えたことを特徴とする半導体装置。14. A resin multilayer board having a signal wiring layer formed on the surface and inside thereof, the capacitor sheet according to claim 1 installed and connected on the resin multilayer board, and mounted on the capacitor sheet. And a semiconductor chip carrier.
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| JP2001-161928 | 2001-05-30 | ||
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