DE102017117051B4 - Organic light-emitting component and light-emitting device - Google Patents
Organic light-emitting component and light-emitting deviceInfo
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Abstract
Organisches Licht emittierendes Bauelement (100) mit:
- einem aktiven Bereich (200) und einem den aktiven Bereich (200) in lateraler Richtung umgebenden Randbereich (201),
- einem transparenten Substrat (101) mit einer ersten Hauptoberfläche (1011) und einer zweiten Hauptoberfläche (1012),
wobei
- im aktiven Bereich (200) auf der ersten Hauptoberfläche (1011) eine transparente erste Elektrode (102), ein organischer funktioneller Schichtenstapel (103) und eine zweite Elektrode (104) aufgebracht sind,
- im Randbereich (201) auf der ersten Hauptoberfläche (1011) des Substrats (101) eine Metallisierungsschicht (105) aufgebracht ist, die den aktiven Bereich (200) in lateraler Richtung vollständig und unterbrechungsfrei umgibt und die von allen Schichten im aktiven Bereich (200) elektrisch isoliert ist,
- im Randbereich (201) auf der Metallisierungsschicht (105) in einem Anschlussbereich eine elektrisch isolierende Schicht (107) angeordnet ist, und
- auf der elektrisch isolierenden Schicht (107) im Anschlussbereich zumindest ein Anschlusskontakt (108) angeordnet ist, der zumindest eine der ersten und zweiten Elektrode (102, 104) elektrisch kontaktiert.
Organic light-emitting device (100) with:
- an active area (200) and a peripheral area (201) surrounding the active area (200) in a lateral direction,
- a transparent substrate (101) with a first main surface (1011) and a second main surface (1012),
where
- in the active area (200) on the first main surface (1011) a transparent first electrode (102), an organic functional layer stack (103) and a second electrode (104) are applied,
- in the edge region (201) on the first main surface (1011) of the substrate (101) a metallization layer (105) is applied, which completely and without interruption surrounds the active region (200) in the lateral direction and which is electrically insulated from all layers in the active region (200),
- in the edge area (201) on the metallization layer (105) in a connection area an electrically insulating layer (107) is arranged, and
- on the electrically insulating layer (107) in the connection area at least one connection contact (108) is arranged which electrically contacts at least one of the first and second electrodes (102, 104).
Description
Es werden ein organisches Licht emittierendes Bauelement und eine Licht emittierende Vorrichtung angegeben.An organic light-emitting component and a light-emitting device are specified.
Die Druckschrift
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Die Ästhetik von organischen Licht emittierenden Dioden (OLEDs) auch im ausgeschalteten Zustand hat beispielsweise bei Beleuchtungs- und Automobil-Anwendungen einen sehr hohen Stellenwert. Zur Kontaktierung einer OLED werden jedoch üblicherweise voneinander getrennte Metallkontakte verwendet, die nebeneinander unmittelbar auf dem OLED-Substrat angeordnet sind und über die die OLED-Elektroden angeschlossen und im Betrieb auf unterschiedliche elektrische Potentiale gelegt werden. Die Unterbrechungen zwischen den Metallkontakten sind von der Betrachtungsseite, also der Seite, über die im Betrieb das Licht abgestrahlt wird, aber erkennbar und stören das Design. Weiterhin sind die Formen der Metallkontakte und der Unterbrechungen sowie eine geradlinige Anordnung der Metallkontakte vorgegeben durch Parameter der Kontaktierung und der Kontaktierungstechnik, mittels derer der elektrische Anschluss erfolgt. Solche Parameter können beispielsweise die Form des FlexPCBs, das als elektrischer Anschluss dient, die Form der Bond-Thermode, mittels derer das FlexPCB mit den OLED-Kontakten verbunden wird, die erforderliche Kontaktpadgröße sowie Alignmentmarken sein.The aesthetics of organic light-emitting diodes (OLEDs), even when switched off, are highly valued in lighting and automotive applications, for example. However, OLEDs are typically connected using separate metal contacts arranged side-by-side directly on the OLED substrate. These contacts connect the OLED electrodes and, during operation, expose them to different electrical potentials. The gaps between the metal contacts are visible from the viewing side—the side from which light is emitted during operation—and detract from the design. Furthermore, the shapes of the metal contacts and the gaps, as well as the linear arrangement of the metal contacts, are dictated by parameters of the connection and the contacting technology used for the electrical connection. Such parameters can include, for example, the shape of the flexible PCB (flex PCB) serving as the electrical connection, the shape of the bonding thermomode used to connect the flex PCB to the OLED contacts, the required contact pad size, and alignment marks.
Weiterhin müssen oft auch Anpassungen der OLED-Außenkante an die Kontaktierung vorgenommen werden. So ist etwa auch bei einem runden OLED-Design mit den üblichen Kontaktierungsweisen eine gerade Außenkante im Kontaktierungsbereich notwendig. Typischerweise werden die nicht zum Design passenden Bereiche einer OLED durch eine Abdeckung oder Verblendung verdeckt. Hierdurch ist aber keine komplett freiliegende Außenkante der OLED möglich und die Designfreiheit ist eingeschränkt.Furthermore, adjustments to the OLED's outer edge often need to be made to accommodate the contacts. For example, even with a round OLED design and standard contact methods, a straight outer edge is necessary in the contact area. Typically, areas of an OLED that don't fit the design are covered or masked. However, this prevents a completely exposed outer edge of the OLED and limits design freedom.
Zumindest eine Aufgabe von bestimmten Ausführungsformen ist es, ein organisches Licht emittierendes Bauelement anzugeben. Zumindest eine weitere Aufgabe von bestimmten Ausführungsformen ist es, eine Licht emittierende Vorrichtung mit einem organischen Licht emittierenden Bauelement anzugeben.At least one objective of certain embodiments is to specify an organic light-emitting component. At least another objective of certain embodiments is to specify a light-emitting device with an organic light-emitting component.
Diese Aufgaben werden durch Gegenstände gemäß den unabhängigen Patentansprüchen gelöst. Vorteilhafte Ausführungsformen und Weiterbildungen der Gegenstände sind in den abhängigen Ansprüchen gekennzeichnet und gehen weiterhin aus der nachfolgenden Beschreibung und den Zeichnungen hervor.These problems are solved by the objects according to the independent claims. Advantageous embodiments and further developments of the objects are characterized in the dependent claims and are further described in the following description and drawings.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform weist ein organisches Licht emittierendes Bauelement ein transparentes Substrat auf. Das Substrat kann eine erste Hauptoberfläche, eine zweite Hauptoberfläche und zumindest eine oder mehrere die erste und zweite Hauptoberfläche verbindende Seitenflächen aufweisen. Die Hauptoberflächen können besonders bevorzugt parallel zueinander ausgebildet sein. Insbesondere kann das Substrat plattenförmig ausgebildet sein, wobei die beiden Hauptoberflächen Ausdehnungen aufweisen, die größer sind als ein Abstand der ersten Hauptoberfläche zur zweiten Hauptoberfläche. Der Abstand der Hauptoberflächen kann auch als Dicke des Substrats bezeichnet werden. Bei einer ausreichend geringen Dicke des Substrats kann dieses auch als Folie ausgebildet sein. Richtungen parallel zur ersten Hauptoberfläche werden hier und im Folgenden als laterale Richtung bezeichnet. Eine Richtung senkrecht zur ersten Hauptoberfläche wird hier und im Folgenden als vertikale Richtung bezeichnet.According to at least one embodiment, an organic light-emitting component comprises a transparent substrate. The substrate can have a first main surface, a second main surface, and at least one or more side surfaces connecting the first and second main surfaces. The main surfaces are particularly preferably parallel to each other. In particular, the substrate can be plate-shaped, with the two main surfaces having extensions greater than the distance between the first and second main surfaces. The distance between the main surfaces can also be referred to as the thickness of the substrate. If the substrate thickness is sufficiently small, it can also be formed as a film. Directions parallel to the first main surface are referred to here and in the following as the lateral direction. A direction perpendicular to the first main surface is referred to here and in the following as the vertical direction.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind auf dem transparenten Substrat auf der ersten Hauptoberfläche zumindest eine transparente erste Elektrode, ein organischer funktioneller Schichtenstapel und zumindest eine zweite Elektrode aufgebracht. Dass eine erste Schicht „auf“ oder „über“ einer zweiten Schicht aufgebracht ist, kann hier und im Folgenden insbesondere bedeuten, dass die erste und zweite Schicht vertikal übereinander angeordnet sind und dass die erste Schicht vom Substrat weiter beabstandet ist als die zweite Schicht, die zweite Schicht also zwischen dem Substrat und der ersten Schicht angeordnet ist. Insbesondere kann die transparente erste Elektrode zwischen dem Substrat und dem organischen funktionellen Schichtenstapel angeordnet sein, während der organische funktionelle Schichtenstapel zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode angeordnet sein kann.According to a further embodiment, at least one transparent first electrode, an organic functional layer stack, and at least one second electrode are applied to the first main surface of the transparent substrate. The fact that a first layer is applied "on" or "over" a second layer can, here and in the following, particularly mean that the first and second layers are arranged vertically one above the other and that the first layer is further away from the substrate than the second layer, i.e., that the second layer is arranged between the substrate and the first layer. In particular, the transparent first electrode can be arranged between the substrate and the organic functional layer stack, while the organic functional layer stack can be arranged between the first electrode and the second electrode.
Der organische funktionelle Schichtenstapel kann mindestens eine organische Licht emittierende Schicht aufweisen, die dazu vorgesehen und eingerichtet ist, im Betrieb des organischen Licht emittierenden Bauelements Licht zu erzeugen. Das Licht kann zumindest durch das Substrat hindurch abgestrahlt werden, so dass auf der dem organischen funktionellen Schichtenstapel abgewandten zweiten Hauptoberfläche des Substrats eine Lichtauskoppelfläche des organischen Licht emittierenden Bauelements ist, über die im Betrieb des organischen Licht emittierenden Bauelements im organischen funktionellen Schichtenstapel erzeugtes Licht abgestrahlt wird. Ist das organische Licht emittierende Bauelement auf der zweiten Hauptoberfläche frei von weiteren Schichten oder Materialien, kann insbesondere die zweite Hauptoberfläche die Lichtauskoppelfläche sein. Insbesondere kann das organische Licht emittierende Bauelement als organische Licht emittierende Diode (OLED) ausgebildet sein, die im Betrieb durch zumindest die transparente erste Elektrode und das transparente Substrat sichtbares Licht abstrahlen kann.The organic functional layer stack can contain at least one organic light-emitting layer. The organic light-emitting device (OLED) has a layer designed and configured to generate light during operation. The light can be emitted at least through the substrate, such that the second main surface of the substrate, facing away from the organic functional layer stack, forms a light-emitting surface for the OLED, through which light generated in the organic functional layer stack during operation is emitted. If the second main surface of the OLED is free of further layers or materials, the second main surface can, in particular, serve as the light-emitting surface. Specifically, the OLED can be configured as an organic light-emitting diode (OLED) that, during operation, can emit visible light through at least the transparent first electrode and the transparent substrate.
Mit „transparent“ wird hier und im Folgenden eine Schicht bezeichnet, die durchlässig zumindest für sichtbares Licht ist. Dabei kann die transparente Schicht klar durchscheinend oder auch zumindest teilweise Licht streuend und/oder teilweise Licht absorbierend sein, so dass eine als transparent bezeichnete Schicht beispielsweise auch diffus oder milchig durchscheinend sein kann. Besonders bevorzugt ist eine hier als transparent bezeichnete Schicht möglichst derart durchlässig für sichtbares Licht ausgebildet, dass insbesondere die Absorption von im organischen Licht emittierenden Bauelement erzeugtem Licht so gering wie möglich ist.The term "transparent" here and in the following refers to a layer that is permeable to at least visible light. The transparent layer can be clearly translucent or at least partially light-scattering and/or partially light-absorbing, so that a layer described as transparent can, for example, also be diffusely or milkily translucent. Particularly preferably, a layer described here as transparent is designed to be as permeable to visible light as possible, such that the absorption of light generated in the organically light-emitting component is minimized.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das organische Licht emittierende Bauelement einen aktiven Bereich und einen den aktiven Bereich in lateraler Richtung umgebenden Randbereich auf. Das bedeutet mit anderen Worten, dass der aktive Bereich bei einer Aufsicht in vertikaler Richtung auf das organische Licht emittierende Bauelement vom Randbereich vollständig umschlossen ist. Die erste Elektrode, die zweite Elektrode und der organische funktionelle Schichtenstapel sind im aktiven Bereich auf dem Substrat aufgebracht, so dass das organische Licht emittierende Bauelement im aktiven Bereich mittels der ersten und zweiten Elektrode und dem organischen funktionellen Schichtenstapel im Betrieb Licht erzeugen kann, das vom aktiven Bereich direkt durch die Lichtauskoppelfläche abgestrahlt werden kann. Im Randbereich hingegen kann das Bauelement im Betrieb kein Licht erzeugen. Besonders bevorzugt kann der Randbereich frei vom organischen funktionellen Schichtenstapel sein, so dass in diesem Fall kein organisches Material zur Lichterzeugung im Randbereich vorhanden ist. Alternativ kann auch zumindest in einem Teilbereich des Randbereichs zumindest ein Teil des organischen funktionellen Schichtenstapels vorhanden sein, jedoch ist dieser Teil in diesem Fall von zumindest einer der Elektroden, also von der ersten oder der zweiten Elektrode oder von beiden Elektroden, elektrisch isoliert, so dass im Betrieb des Bauelements keine elektrische Anregung von organischem Material im Randbereich möglich ist.According to a further embodiment, the organic light-emitting device has an active region and a peripheral region surrounding the active region laterally. In other words, when viewed vertically from above, the active region is completely enclosed by the peripheral region. The first electrode, the second electrode, and the organic functional layer stack are deposited on the substrate in the active region, so that the organic light-emitting device can generate light in the active region by means of the first and second electrodes and the organic functional layer stack during operation. This light can then be emitted directly from the active region through the light-emitting surface. In contrast, the device cannot generate light in the peripheral region during operation. Preferably, the peripheral region can be free of the organic functional layer stack, so that in this case no organic material is present in the peripheral region for light generation. Alternatively, at least a part of the organic functional layer stack may be present in at least a sub-area of the boundary region, but in this case, this part is electrically isolated from at least one of the electrodes, i.e., from the first or the second electrode or from both electrodes, so that no electrical excitation of organic material in the boundary region is possible during operation of the device.
Dass das organische Licht emittierende Bauelement einen aktiven Bereich aufweist, in dem die erste und zweite Elektrode und der organische funktionelle Schichtenstapel vorhanden ist, kann auch bedeuten, dass zumindest eine weitere erste Elektrode lateral benachbart zur zumindest einen ersten Elektrode und/oder zumindest eine weitere zweite Elektrode zur zumindest einen zweiten Elektrode im aktiven Bereich vorhanden ist. Durch mehrere erste und/oder zweite Elektroden können im aktiven Bereich mehrere Leuchtbereiche gebildet werden, die getrennt voneinander betreibbar sein können.The fact that the organic light-emitting device has an active region containing the first and second electrodes and the organic functional layer stack can also mean that at least one further first electrode is laterally adjacent to the at least one first electrode and/or at least one further second electrode is adjacent to the at least one second electrode in the active region. Multiple first and/or second electrodes can form several luminescent regions within the active region, which can be operated independently of one another.
Die zweite Elektrode kann wie die erste Elektrode transparent sein. Weiterhin kann es bevorzugt auch möglich sein, dass die zweite Elektrode nicht-transparent ist. Im letzteren Fall kann die zweite Elektrode bevorzugt reflektierend ausgebildet sein, so dass Licht, das im Betrieb im organischen funktionellen Schichtenstapel erzeugt und in Richtung der zweiten Elektrode abgestrahlt wird, in Richtung der transparenten ersten Elektroden reflektiert werden kann, um durch diese und das Substrat aus dem organischen Licht emittierenden Bauelement austreten zu können.The second electrode can be transparent, like the first electrode. However, it is also preferably possible for the second electrode to be non-transparent. In the latter case, the second electrode can preferably be reflective, so that light generated during operation in the organic functional layer stack and emitted towards the second electrode can be reflected towards the transparent first electrodes, allowing it to exit the organic light-emitting device through them and the substrate.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist im Randbereich auf der ersten Hauptoberfläche des Substrats eine Metallisierungsschicht aufgebracht. Die Metallisierungsschicht kann besonders bevorzugt den aktiven Bereich in lateraler Richtung umgeben. Besonders bevorzugt kann die Metallisierungsschicht den aktiven Bereich vollständig und unterbrechungsfrei umgeben. Bei einer Aufsicht auf die erste oder zweite Hauptoberfläche des Substrats in vertikaler Richtung bildet die Metallisierungsschicht in diesem Fall einen vollständig den aktiven Bereich umgebenden Rahmen. Da das Substrat transparent ist, kann die Metallisierungsschicht bei einer Aufsicht auf die Lichtauskoppelfläche durch das Substrat hindurch erkennbar sein. Insbesondere kann ein durch die Metallisierungsschicht bevorzugt gebildeter, den aktiven Bereich unterbrechungsfrei umgebender Rahmen bei einer Aufsicht auf die Lichtauskoppelfläche erkennbar sein. Der Rahmen kann besonders bevorzugt eine gleichförmige Breite aufweisen und unstrukturiert sein.According to a further embodiment, a metallization layer is applied to the edge region of the first main surface of the substrate. The metallization layer can particularly preferably surround the active area laterally. More preferably, the metallization layer can completely and uninterruptedly surround the active area. When viewed vertically from the first or second main surface of the substrate, the metallization layer in this case forms a frame completely surrounding the active area. Since the substrate is transparent, the metallization layer can be seen through the substrate when viewed from the light-emitting surface. In particular, a frame preferably formed by the metallization layer and completely surrounding the active area can be seen when viewed from the light-emitting surface. The frame can particularly preferably have a uniform width and be unstructured.
Die Metallisierungsschicht kann eines oder mehrere Metalle aufweisen oder daraus sein. Hierbei kann die Metallisierungsschicht auch als Schichtenstapel mit mehreren Schichten mit oder aus unterschiedlichen Metallen ausgebildet sein. Die Metallisierungsschicht kann insbesondere eine derartige Dicke aufweisen, dass die Metallisierungsschicht nicht transparent ist und somit einen nicht-transparenten Rahmen um den aktiven Bereich bildet. Dadurch kann die Metallisierungsschicht Schichten, die hinter der Metallisierungsschicht liegen, verdecken. Die Metallisierungsschicht kann beispielsweise eines oder mehrere Materialien ausgewählt aus Al, Ag, Cr und Mo aufweisen oder daraus sein. Die Metallisierungsschicht kann weiterhin auch einen Schichtenstapel mit mehreren Materialien aufweisen, beispielsweise Mo/Al/Mo, Cr/Al, Cr/Al/Cr oder Cr/Ag/Cr.The metallization layer can consist of one or more metals. It can also be a stack of layers with multiple layers, either composed of or consisting of, under The metallization layer can be composed of various metals. In particular, the metallization layer can be thick enough to be opaque, forming a non-transparent frame around the active area. This allows the metallization layer to obscure layers behind it. The metallization layer can, for example, consist of one or more materials selected from Al, Ag, Cr, and Mo. It can also be a stack of layers containing multiple materials, such as Mo/Al/Mo, Cr/Al, Cr/Al/Cr, or Cr/Ag/Cr.
Die Metallisierungsschicht kann von zumindest einer oder beiden der ersten und zweiten Elektrode elektrisch isoliert sein. Weiterhin kann die Metallisierungsschicht von allen Elektroden im aktiven Bereich oder weiterhin auch von allen Schichten im aktiven Bereich elektrisch isoliert sein. Im letzteren Fall kann in lateraler Richtung zwischen dem aktiven Bereich und der Metallisierungsschicht im Randbereich ein Trennbereich auf der ersten Hauptoberfläche des Substrats vorliegen, der elektrisch isolierend ist. Der Trennbereich kann einfach gesprochen die Grenze zwischen dem aktiven Bereich und dem Randbereich bilden. Der Trennbereich kann beispielsweise durch einen Bereich des Substrats gebildet werden, auf dem kein Material unmittelbar aufgebracht ist, oder der teilweise oder gänzlich mit elektrisch isolierendem Material überdeckt ist. Im Hinblick auf die bevorzugte Ausbildung der Metallisierungsschicht als ein den aktiven Bereich in lateraler Richtung vollständig umgebender Rahmen kann der Trennbereich den aktiven Bereich ebenfalls in lateraler Richtung vollständig umgeben und von der Metallisierungsschicht wiederum vollständig in lateraler Richtung umgeben sein.The metallization layer can be electrically insulated from at least one or both of the first and second electrodes. Furthermore, the metallization layer can be electrically insulated from all electrodes in the active region or from all layers in the active region. In the latter case, a separating zone, which is electrically insulating, can exist laterally between the active region and the metallization layer at the edge of the substrate on the first main surface. Simply put, this separating zone can form the boundary between the active region and the edge of the substrate. For example, the separating zone can be formed by a region of the substrate on which no material is directly applied, or which is partially or completely covered with electrically insulating material. Considering the preferred configuration of the metallization layer as a frame completely surrounding the active region laterally, the separating zone can also completely surround the active region laterally and, in turn, be completely surrounded laterally by the metallization layer.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist im Randbereich vom Substrat aus gesehen auf der Metallisierungsschicht in einem Anschlussbereich eine elektrisch isolierende Schicht angeordnet. Auf der elektrisch isolierenden Schicht ist im Anschlussbereich zumindest ein Anschlusskontakt angeordnet, der zumindest eine der ersten und zweiten Elektrode elektrisch kontaktiert. Hierzu kann der Anschlusskontakt vom Randbereich in den aktiven Bereich ragen. Alternativ hierzu kann die durch den Anschlusskontakt kontaktierte Elektrode vom aktiven Bereich in den Randbereich ragen. Im Anschlussbereich kann der zumindest eine Anschlusskontakt als Kontaktpad, beispielsweise für eine Verbindung mittels Löten, Bonden oder Kleben, vorgesehen und eingerichtet sein. Mittels des zumindest einen Anschlusskontakts kann die mit diesem elektrisch kontaktierte Elektrode an eine externe Energiequelle, beispielsweise eine Strom- und/oder Spannungsversorgung, angeschlossen werden. Insbesondere können auch mehrere Anschlusskontakte im Anschlussbereich, und damit also im Randbereich, auf der elektrisch isolierenden Schicht angeordnet sein. Mittels der mehreren Anschlusskontakte können mehrere Elektroden, beispielsweise also die zumindest eine erste Elektrode und die zumindest eine zweite Elektrode und/oder mehrere erste Elektroden und/oder mehrere zweite Elektroden, im aktiven Bereich elektrisch kontaktiert werden, so dass die mehreren Elektroden entsprechend über die Anschlusskontakte an eine externe Energiequelle angeschlossen werden können. Jeder Anschlusskontakt des organischen Licht emittierenden Bauelements kann die vorab und im Folgenden für zumindest einen oder für mehrere Anschlusskontakte beschriebenen Merkmale aufweisen.According to a further embodiment, an electrically insulating layer is arranged in a connection area on the metallization layer at the edge of the substrate. At least one connection contact is arranged on the electrically insulating layer in this connection area, electrically contacting at least one of the first and second electrodes. For this purpose, the connection contact can project from the edge into the active area. Alternatively, the electrode contacted by the connection contact can project from the active area into the edge. In the connection area, the at least one connection contact can be designed and configured as a contact pad, for example, for a connection by soldering, bonding, or gluing. The electrode electrically contacted by this connection contact can be connected to an external energy source, such as a power and/or voltage supply. In particular, several connection contacts can also be arranged in the connection area, and thus in the edge region, on the electrically insulating layer. The multiple connection contacts allow several electrodes, for example, at least one first electrode and at least one second electrode, and/or several first electrodes and/or several second electrodes, to be electrically contacted in the active area, so that the multiple electrodes can be connected to an external power source via the connection contacts. Each connection contact of the organic light-emitting device can have the features described above and below for at least one or for several connection contacts.
Beispielsweise kann der zumindest eine Anschlusskontakt die zweite Elektrode elektrisch kontaktieren. Hierbei können die zweite Elektrode und der zumindest eine Anschlusskontakt ein gleiches Material aufweisen. Das kann insbesondere bedeuten, dass die zweite Elektrode und der zumindest eine Anschlusskontakt im Hinblick auf das Material gleich ausgebildet sind. Sind im Anschlussbereich mehrere Anschlusskontakte vorhanden, so können einer, mehrere oder alle Anschlusskontakte des Bauelements entsprechend mit oder aus einem gleichen Material wie die zweite Elektrode ausgebildet sein. Weiterhin können die zweite Elektrode und der zumindest eine Anschlusskontakt einstückig ausgebildet sein. Alternativ hierzu kann der zumindest eine Anschlusskontakt ein von den Elektroden im aktiven Bereich verschiedenes Material aufweisen. Beispielsweise können die Metallisierungsschicht und der zumindest eine Anschlusskontakt ein gleiches Material aufweisen. Das kann insbesondere auch bedeuten, dass der zumindest eine Anschlusskontakt und die Metallisierungsschicht in Bezug auf das Material gleich ausgebildet sind. Sind im Anschlussbereich mehrere Anschlusskontakte auf der elektrisch isolierenden Schicht vorhanden, so können einer, mehrere oder alle dieser Anschlusskontakte des Bauelements entsprechend mit oder aus einem gleichen Material wie die Metallisierungsschicht ausgebildet sein.For example, at least one terminal contact can electrically contact the second electrode. The second electrode and the at least one terminal contact can be made of the same material. This can mean, in particular, that the second electrode and the at least one terminal contact are identical in terms of material. If there are multiple terminal contacts in the connection area, one, several, or all of the terminal contacts of the component can be made of the same material as the second electrode. Furthermore, the second electrode and the at least one terminal contact can be formed as a single unit. Alternatively, the at least one terminal contact can be made of a different material than the electrodes in the active area. For example, the metallization layer and the at least one terminal contact can be made of the same material. This can also mean, in particular, that the at least one terminal contact and the metallization layer are identical in terms of material. If there are multiple terminal contacts on the electrically insulating layer in the connection area, one, several, or all of these terminal contacts of the component can be made of the same material as the metallization layer.
Weiterhin kann zusätzlich zu dem Anschlusskontakt, der die zweite Elektrode elektrisch kontaktiert, auf der elektrisch isolierenden Schicht, wie weiter oben beschrieben, im Anschlussbereich ein weiterer Anschlusskontakt angeordnet sein, der die zumindest eine erste Elektrode elektrisch kontaktiert. Die Anschlusskontakte zur Kontaktierung der ersten und zweiten Elektrode können insbesondere gleich ausgebildet und lateral nebeneinander in derselben Ebene angeordnet sein. Ist beispielsweise im aktiven Bereich lateral benachbart zur zumindest einen transparenten ersten Elektrode zumindest eine weitere transparente erste Elektrode angeordnet, kann diese mittels noch eines weiteren Anschlusskontakts auf der elektrisch isolierenden Schicht im Anschlussbereich elektrisch kontaktiert werden.Furthermore, in addition to the connection contact that electrically connects the second electrode, another connection contact can be arranged on the electrically insulating layer in the connection area, as described above, which electrically connects the at least one first electrode. The connection contacts for connecting the first and second electrodes can, in particular, be identical and arranged laterally next to each other in the same plane. For example, if at least one further transparent first electrode is arranged laterally adjacent to the at least one transparent first electrode in the active area, These are electrically contacted by means of another connection contact on the electrically insulating layer in the connection area.
Weiterhin kann es auch möglich sein, dass die zumindest eine erste Elektrode mittels der Metallisierungsschicht elektrisch kontaktierbar ist. Das kann bedeuten, dass ein Teil der Metallisierungsschicht im Anschlussbereich frei von der elektrisch isolierenden Schicht ist und dort ein Teil der Metallisierungsschicht einen Anschlusskontakt bildet, von dem aus sich elektrisch leitendes Material bis zur zumindest einen ersten Elektrode erstreckt und diese kontaktiert. In diesem Fall ist der weiter oben beschriebene Trennbereich bevorzugt ausschließlich an der Stelle unterbrochen, an der sich das elektrisch leitende Material von der Metallisierungsschicht zur zumindest einen ersten Elektrode erstreckt. Das elektrisch leitende Material kann dasselbe Material aufweisen oder sein, aus dem die erste Elektrode und/oder die Metallisierungsschicht gebildet ist.Furthermore, it is also possible that the at least one first electrode can be electrically contacted via the metallization layer. This can mean that a portion of the metallization layer in the connection area is free of the electrically insulating layer, and that a portion of the metallization layer forms a connection contact from which electrically conductive material extends to and contacts the at least one first electrode. In this case, the separation zone described above is preferably interrupted only at the point where the electrically conductive material extends from the metallization layer to the at least one first electrode. The electrically conductive material can be the same material as that from which the first electrode and/or the metallization layer is formed.
Der Anschlussbereich des organischen Licht emittierenden Bauelements ist bevorzugt derart ausgebildet, dass den Anforderungen genügt werden kann, die eine Kontaktierung des Anschlussbereichs des organischen Licht emittierenden Bauelements mit sich bringt. Insbesondere muss gewährleistet werden, dass der Anschlussbereich den Belastungen, die durch die Kontaktierungstechnik auf das Bauelement und insbesondere den Anschlussbereich einwirken können, standhält. Wird beispielsweise Löten oder thermisches Bonden als Kontaktierungstechnik verwendet, um ein elektrisches Anschlusselement mit dem zumindest einen Anschlusskontakt zu verbinden, muss gewährleistet sein, dass der Anschlussbereich und insbesondere auch die elektrisch isolierende Schicht den dabei entstehenden Temperaturen und gegebenenfalls auch dem verwendeten Druck standhalten können. Dadurch, dass der Anschlussbereich im Randbereich und damit außerhalb des aktiven Bereichs angeordnet ist, kann erreicht werden, dass durch die bei der Kontaktierung wie etwa Bonden oder Löten verwendeten Bedingungen wie Temperatur und Druck das im aktiven Bereich angeordnete organische Material nicht geschädigt werden kann.The connection area of the organic light-emitting component is preferably designed to meet the requirements associated with contacting this area. In particular, it must be ensured that the connection area can withstand the stresses that the contacting process can exert on the component, and especially on the connection area itself. For example, if soldering or thermal bonding is used to connect an electrical connection element to the at least one terminal contact, it must be ensured that the connection area, and especially the electrically insulating layer, can withstand the resulting temperatures and, if applicable, the pressure used. By arranging the connection area at the edge and thus outside the active area, it can be ensured that the organic material located in the active area is not damaged by the conditions used during contacting processes such as bonding or soldering, such as temperature and pressure.
Die elektrisch isolierende Schicht kann eines oder mehrere organische und/oder anorganische Materialien aufweisen oder daraus sein. Beispielsweise kann die elektrisch isolierende Schicht ein Resist, also einen Lack wie insbesondere einen Fotolack, aufweisen oder daraus sein, der beispielsweise nasschemisch aufgebracht werden kann, etwa mittels Dispensen, Sprühbeschichtung oder Schablonendruck. Hierzu können als geeignetes Material beispielsweise eines oder mehrere Harze verwendet werden. Beispielsweise kann die elektrisch isolierende Schicht ein Material aufweisen, das ausgewählt ist aus Polyimid, Acrylat und Silikon. Weiterhin kann die elektrisch isolierende Schicht ein anorganisches Material aufweisen oder daraus sein, das mittels eines PVD-Verfahrens (PVD: physical vapor deposition; physikalische Gasphasenabscheidung) aufgebracht wird. Beispielsweise kann die elektrisch isolierende Schicht eines oder mehrere Oxide aufweisen oder daraus sein, etwa ausgewählt aus Aluminiumoxid (Al2O3), Titandioxid (TiO2), Siliziumdioxid (SiO2) und Tantalpentoxid (Ta2O5). Es kann vorteilhaft sein, wenn die elektrisch isolierende Schicht im Anschlussbereich auf der Metallisierungsschicht aufgebracht wird, bevor im aktiven Bereich das Material des organischen funktionellen Schichtenstapels aufgebracht wird, insbesondere für den Fall, dass beim Aufbringen der elektrisch isolierenden Schicht Temperaturen verwendet werden, die das organische Material im aktiven Bereich schädigen könnten. Weiterhin kann die elektrisch isolierende Schicht auf den Anschlussbereich beschränkt sein. Mit anderen Worten kann die Metallisierungsschicht bis auf den Anschlussbereich frei von der elektrisch isolierenden Schicht sein.The electrically insulating layer can consist of one or more organic and/or inorganic materials. For example, the electrically insulating layer can consist of a resist, such as a photoresist, which can be applied using wet chemical processes, such as dispensing, spray coating, or stencil printing. Suitable materials for this purpose include one or more resins. For example, the electrically insulating layer can consist of a material selected from polyimide, acrylate, and silicone. Furthermore, the electrically insulating layer can consist of an inorganic material applied using a PVD process (physical vapor deposition). For example, the electrically insulating layer can consist of one or more oxides, such as aluminum oxide ( Al₂O₃ ), titanium dioxide ( TiO₂ ), silicon dioxide ( SiO₂ ) , and tantalum pentoxide ( Ta₂O₅ ). It can be advantageous to apply the electrically insulating layer in the terminal area to the metallization layer before applying the material of the organic functional layer stack in the active area, particularly if temperatures are used during the application of the electrically insulating layer that could damage the organic material in the active area. Furthermore, the electrically insulating layer can be limited to the terminal area. In other words, the metallization layer can be free of the electrically insulating layer except at the terminal area.
Als Material für den zumindest einen Anschlusskontakt kann, wie weiter oben beschrieben, beispielsweise ein Material verwendet werden, das auch in der zweiten Elektrode verwendet wird oder das die zweite Elektrode bildet, beispielsweise ein Metall wie etwa Aluminium. Für den Fall, dass das Material der zweiten Elektrode weniger gut für die Kontaktierung des zumindest einen Anschlusskontakts an ein Anschlusselement beispielsweise mittels Bonden oder Löten geeignet ist, kann, wie oben beschrieben, zusätzlich oder alternativ ein weiteres Material verwendet werden, beispielsweise eines oder mehrere der im Zusammenhang mit der Metallisierungsschicht genannten Materialien oder auch ein Schichtenstapel wie etwa Cr/Al/Cr. Hierbei kann das Material des zumindest einen Anschlusskontakts beispielsweise mittels eines PVD-Verfahrens aufgebracht werden, etwa mittels Aufdampfen. Alternativ oder zusätzlich kann als Material für den zumindest einen Anschlusskontakt eine Leitpaste wie beispielsweise Silberleitpaste oder Kupferpaste aufgebracht werden. Hierzu sind zum Beispiel nasschemische Verfahren wie etwa Dispensen, Sprühbeschichtung oder Schablonendruck geeignet.As described above, the material for at least one terminal contact can be, for example, a material that is also used in the second electrode or that forms the second electrode itself, such as a metal like aluminum. If the material of the second electrode is less suitable for contacting the at least one terminal contact to a connection element, for example by bonding or soldering, another material can be used additionally or alternatively, as described above. This could be one or more of the materials mentioned in connection with the metallization layer, or a layer stack such as Cr/Al/Cr. The material of the at least one terminal contact can be applied, for example, using a PVD process, such as vapor deposition. Alternatively or additionally, a conductive paste such as silver or copper paste can be applied as the material for the at least one terminal contact. Wet chemical processes such as dispensing, spray coating, or stencil printing are suitable for this purpose.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist im Randbereich auf der ersten Hauptoberfläche des Substrats eine transparente elektrisch leitende Schicht angeordnet. Die transparente elektrisch leitende Schicht kann besonders bevorzugt unmittelbar auf dem Substrat aufgebracht sein. Die Metallisierungsschicht kann auf der transparenten elektrisch leitenden Schicht, besonders bevorzugt unmittelbar auf dieser, angeordnet sein. Weiterhin können die transparente elektrisch leitende Schicht und die Metallisierungsschicht bei einer Aufsicht auf das Bauelement in vertikaler Richtung deckungsgleich und weiterhin formgleich sein. Die transparente elektrisch leitende Schicht kann ein gleiches Material wie die zumindest eine erste Elektrode aufweisen. Besonders bevorzugt können die zumindest eine erste Elektrode und die transparente elektrisch leitende Schicht in Bezug auf das Material gleich sein.According to a further embodiment, a transparent, electrically conductive layer is arranged in the edge region on the first main surface of the substrate. The transparent, electrically conductive layer can particularly preferably be applied directly to the substrate. The metallization layer can be arranged on the transparent, electrically conductive layer, particularly preferably directly on it. Furthermore, the transparent, electrically conductive layer and the metallization layer can be viewed from above. The component must be congruent in the vertical direction and also have the same shape. The transparent, electrically conductive layer can be made of the same material as the at least one first electrode. Particularly preferably, the at least one first electrode and the transparent, electrically conductive layer can be identical with respect to material.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist im aktiven Bereich eine Isolatorschicht angeordnet, die einen Bereich der zumindest einen ersten Elektrode und einen Bereich der zumindest einen zweiten Elektrode voneinander elektrisch isoliert. Die Isolatorschicht kann insbesondere ein gleiches Material wie die elektrisch isolierende Schicht im Anschlussbereich aufweisen.According to a further embodiment, an insulating layer is arranged in the active area, which electrically isolates a region of the at least one first electrode and a region of the at least one second electrode from each other. The insulating layer can, in particular, comprise the same material as the electrically insulating layer in the connection area.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist im aktiven Bereich auf zumindest einem Teilbereich der ersten Elektrode ein metallisches Material angeordnet. Das metallische Material, das bevorzugt unmittelbar auf der ersten Elektrode angeordnet sein kann, kann beispielsweise eine Stromverteilungsstruktur, etwa in Form von Leiterbahnen, sogenannten Busbars, und/oder in Form eines Rahmens, bilden. Das metallische Material und die Metallisierungsschicht können ein gleiches Material aufweisen. Besonders bevorzugt können die Metallisierungsschicht sowie das metallische Material auf der ersten Elektrode in Bezug auf das Material gleich sein.According to a further embodiment, a metallic material is arranged in the active area on at least a portion of the first electrode. The metallic material, which may preferably be arranged directly on the first electrode, may, for example, form a current distribution structure, such as conductor tracks, so-called busbars, and/or a frame. The metallic material and the metallization layer may be of the same material. It is particularly preferred that the metallization layer and the metallic material on the first electrode be identical with respect to the material.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist über der ersten und zweiten Elektrode und dem organischen funktionellen Schichtenstapel eine Verkapselung aufgebracht. Die Verkapselung kann den aktiven Bereich überdecken. Weiterhin kann die Verkapselung auch zumindest einen Teil des Randbereichs überdecken. In diesem Fall kann die Verkapselung lateral über den aktiven Bereich hinausragen, so dass die Verkapselung den organischen funktionellen Schichtenstapel von der Seite her, also aus lateraler Richtung, verkapseln kann. Die Verkapselung kann besonders bevorzugt eine so genannte Dünnfilmverkapselung aufweisen oder durch eine solche gebildet sein, die zumindest eine oder mehrere dünne Schichten aufweist, die mittels eines Abscheideverfahrens, bevorzugt mittels eines chemischen Gasphasenabscheideverfahrens und/oder eines Atomlagenabscheideverfahrens, auf den Elektroden und dem organischen funktionellen Schichtenstapel aufgebracht ist. Weiterhin kann die Verkapselung zusätzlich oder alternativ einen Deckel, beispielsweise in Form eines Metall- oder Glasdeckels, aufweisen, der die Schichten im aktiven Bereich überdeckt.According to a further embodiment, an encapsulation is applied over the first and second electrodes and the organic functional layer stack. The encapsulation can cover the active region. Furthermore, the encapsulation can also cover at least part of the edge region. In this case, the encapsulation can extend laterally beyond the active region, so that it can encapsulate the organic functional layer stack from the side, i.e., from a lateral direction. The encapsulation can particularly preferably be a so-called thin-film encapsulation or be formed by one comprising at least one or more thin layers applied to the electrodes and the organic functional layer stack by a deposition process, preferably by a chemical vapor deposition process and/or an atomic layer deposition process. Furthermore, the encapsulation can additionally or alternatively have a lid, for example in the form of a metal or glass lid, which covers the layers in the active region.
Gemäß zumindest einer weiteren Ausführungsform weist eine Licht emittierende Vorrichtung ein organisches Licht emittierendes Bauelement auf. Weiterhin kann die Licht emittierende Vorrichtung eine Halterung zur mechanischen Befestigung des organischen Licht emittierenden Bauelements aufweisen. Darüber hinaus kann die Licht emittierende Vorrichtung ein elektrisches Anschlusselement zum elektrischen Anschluss des elektrischen Anschlussbereichs des organischen Licht emittierenden Bauelements mit einer externen Energiequelle aufweisen. Das elektrische Anschlusselement kann hierbei insbesondere mit dem zumindest einen Anschlusskontakt des Bauelements oder mit mehreren oder allen Anschlusskontakten des Bauelements verbunden sein. Dies kann eine mechanische und/oder eine elektrisch leitende Verbindung bedeuten, die beispielsweise durch Löten oder thermisches Bonden hergestellt wird. Das elektrische Anschlusselement kann insbesondere flexibel sein und eine oder mehrere elektrische Zuleitungen, etwa in Form von Zuleitungsdrähten, aufweisen oder sein. Beispielsweise kann das elektrische Anschlusselement ein FlexPCB aufweisen oder sein.According to at least one further embodiment, a light-emitting device comprises an organic light-emitting component. Furthermore, the light-emitting device may have a holder for mechanically securing the organic light-emitting component. In addition, the light-emitting device may have an electrical connection element for electrically connecting the electrical connection area of the organic light-emitting component to an external energy source. The electrical connection element may, in particular, be connected to at least one terminal contact of the component, or to several or all terminal contacts of the component. This can be a mechanical and/or an electrically conductive connection, which is made, for example, by soldering or thermal bonding. The electrical connection element may, in particular, be flexible and have or have one or more electrical leads, for example, in the form of leads. For example, the electrical connection element may be a flexible PCB.
Beim hier beschriebenen Bauelement ist der zumindest eine Anschlusskontakt im Anschlussbereich auf der elektrisch isolierenden Schicht angeordnet, die wiederum auf der Metallisierungsschicht angeordnet ist. Der zumindest eine Anschlusskontakt befindet sich somit in einer Ebene, die vom Substrat aus gesehen über der Metallisierungsschicht liegt, und somit in einer Ebene, die vertikal beabstandet zur ersten Hauptoberfläche des Substrats ist. Bei einer Betrachtung des organischen Licht emittierenden Bauelements von der Seite der Lichtauskoppelfläche aus können die elektrisch isolierende Schicht und der zumindest eine Anschlusskontakt somit durch die Metallisierungsschicht verdeckt sein, so dass das äußere Erscheinungsbild des Bauelements bei der Betrachtung von der Lichtauskoppelfläche her unabhängig von der Ausgestaltung des Anschlussbereichs des Bauelements ist. Von der Lichtauskoppelfläche her und damit von der üblichen Betrachtungsseite her ist der Anschlussbereich mit der elektrisch isolierenden Schicht und dem zumindest einen Anschlusskontakt nach hinten verlegt, so dass die durch die Metallisierungsschicht gebildete Frontmetallisierung beliebig, insbesondere als durchgängiger Rahmen, ausgebildet werden kann und unabhängig von kontaktierungstechnischen Anforderungen ist. Dadurch kann es auch möglich sein, dass die Außenkante des organischen Licht emittierenden Bauelements nicht an die Kontaktierungstechnik angepasst werden muss und dass ein elektrisches Anschlusselement, das zur elektrischen Kontaktierung des Bauelements mit dem Anschlussbereich verbunden wird, nicht über die Außenkante hinausragen muss, sondern von der Betrachtungsseite her vollständig hinter dem Bauelement angeordnet werden kann. Eine in üblichen OLEDs notwendige optisch auffällige Kammstruktur der von der Seite der Lichtauskoppelfläche aus gesehen rückseitig angeordneten Elektrode kann auch wegfallen, da nicht mehr von der rückseitigen Elektrode in einer hinteren Ebene auf die Frontmetallisierung in vorderster Ebene durchkontaktiert werden muss.In the component described here, at least one connection contact is located in the connection area on the electrically insulating layer, which in turn is located on the metallization layer. The at least one connection contact is thus situated in a plane that, viewed from the substrate, lies above the metallization layer and is therefore vertically spaced from the first main surface of the substrate. When viewing the organic light-emitting component from the side of the light-extraction surface, the electrically insulating layer and the at least one connection contact can be concealed by the metallization layer, so that the external appearance of the component when viewed from the light-extraction surface is independent of the design of the component's connection area. From the light-extraction surface, and thus from the usual viewing side, the connection area with the electrically insulating layer and the at least one connection contact is positioned to the rear, so that the front metallization formed by the metallization layer can be designed arbitrarily, in particular as a continuous frame, and is independent of contact-related requirements. This also means that the outer edge of the organic light-emitting device does not need to be adapted to the contacting technology, and that an electrical connection element, which is connected to the contact area for electrical contacting the device, does not need to protrude beyond the outer edge, but can be positioned completely behind the device from the viewing side. This avoids the optically noticeable comb structure necessary in conventional OLEDs when viewed from the side of the light-emitting surface. The rear-mounted electrode can also be omitted, since it is no longer necessary to connect from the rear electrode in a rear plane to the front metallization in the front plane.
Weitere Vorteile, vorteilhafte Ausführungsformen und Weiterbildungen ergeben sich aus den im Folgenden in Verbindung mit den Figuren beschriebenen Ausführungsbeispielen und Beispielen.Further advantages, advantageous embodiments and further developments result from the exemplary embodiments and examples described below in conjunction with the figures.
Es zeigen:
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1A bis 1D schematische Darstellungen eines organischen Licht emittierenden Bauelements gemäß einem Ausführungsbeispiel, -
2A bis 2C schematische Darstellungen eines organischen Licht emittierenden Bauelements gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel, -
3A und3B schematische Darstellungen eines organischen Licht emittierenden Bauelements gemäß einem Beispiel, -
4A und4B schematische Darstellungen eines organischen Licht emittierenden Bauelements gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel, und -
5 eine schematische Darstellung einer Licht emittierenden Vorrichtung gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel.
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1A to 1D Schematic representations of an organic light-emitting component according to an exemplary embodiment, -
2A to 2C Schematic representations of an organic light-emitting component according to a further embodiment, -
3A and3B Schematic representations of an organic light-emitting component according to an example, -
4A and4B Schematic representations of an organic light-emitting component according to a further embodiment, and -
5 a schematic representation of a light-emitting device according to a further embodiment.
In den Ausführungsbeispielen, Beispielen und Figuren können gleiche, gleichartige oder gleich wirkende Elemente jeweils mit denselben Bezugszeichen versehen sein. Die dargestellten Elemente und deren Größenverhältnisse untereinander sind nicht als maßstabsgerecht anzusehen, vielmehr können einzelne Elemente, wie zum Beispiel Schichten, Bauteile, Bauelemente und Bereiche, zur besseren Darstellbarkeit und/oder zum besseren Verständnis übertrieben groß dargestellt sein.In the exemplary embodiments, examples, and figures, identical, similar, or similarly functioning elements may be designated with the same reference numerals. The depicted elements and their relative sizes are not to be considered to scale; rather, individual elements, such as layers, components, building elements, and areas, may be exaggerated for clarity and/or better understanding.
In den
Das organische Licht emittierende Bauelement 100 weist ein Substrat 101 auf, auf dem, wie insbesondere in einer Zusammenschau der
Der Bereich des organischen Licht emittierenden Bauelements 100, in dem der organische funktionelle Schichtenstapel 103 ausgebildet ist, bildet einen aktiven Bereich 200 des Bauelements 100. Der aktive Bereich 200 ist in lateraler Richtung von einem Randbereich 201 umgeben, der im gezeigten Ausführungsbeispiel frei vom organischen funktionellen Schichtenstapel 103 ist. Alternativ kann es auch möglich sein, dass organisches Material des organischen Schichtenstapels zumindest in einem Teil des Randbereichs angeordnet ist, das jedoch von zumindest einer der Elektroden 102, 104 elektrisch isoliert ist, so dass dieses organische Material ohne leuchtende Funktion ist und im Betrieb des organischen Licht emittierenden Bauelements 100 nicht zum Leuchten gebracht wird.The region of the organic light-emitting device 100 in which the organic functional layer stack 103 is formed constitutes an active region 200 of the device 100. The active region 200 is surrounded laterally by a boundary region 201, which, in the illustrated embodiment, is free of the organic functional layer stack 103. Alternatively, it is also possible that organic material of the organic layer stack is arranged at least in a part of the boundary region, but is electrically insulated from at least one of the electrodes 102, 104, so that this organic material has no luminescent function and is not made to emit light during operation of the organic light-emitting device 100.
Rein beispielhaft weist das gezeigte organische Licht emittierende Bauelement 100 im aktiven Bereich 200 zwei nebeneinander angeordnete, voneinander getrennte erste Elektroden 102 auf. Dadurch weist das organische Licht emittierende Bauelement 100 im aktiven Bereich 200 zwei unabhängig voneinander betreibbare Leuchtbereiche auf. Alternativ hierzu können beispielsweise auch nur eine einzige erste Elektrode 102 oder mehr als zwei erste Elektroden 102 vorhanden sein. Ebenso können zusätzlich zur zweiten Elektrode 104, die im gezeigten Ausführungsbeispiel als gemeinsame Elektrode für beide Leuchtbereiche ausgebildet ist, eine oder mehrere voneinander getrennte, unabhängig betreibbare zweite Elektroden auf dem organischen funktionellen Schichtenstapel 103 aufgebracht sein. Die nachfolgende Beschreibung, die sich auf die gezeigten zwei ersten Elektroden 102 und die eine zweite Elektrode 104 bezieht, gilt daher gleichermaßen auch für andere Elektrodenkonfigurationen.By way of example, the organic light-emitting device 100 shown has two adjacent, separate first electrodes 102 in the active region 200. This gives the organic light-emitting device 100 two independently operable illumination regions in the active region 200. Alternatively, for example, there may be only a single first electrode 102 or more than two first electrodes 102. Likewise, in addition to the second electrode 104, which in the illustrated embodiment is designed as a common electrode for both illumination regions, one or more separate, independently operable second electrodes may be applied to the organic functional layer stack 103. The following description, which refers to the two first electrodes 102 and the single second electrode 104 shown, therefore applies equally to other electrode configurations.
Die ersten Elektroden 102 sind wie auch das Substrat 101 transparent ausgebildet, so dass im Betrieb des organischen Licht emittierenden Bauelements 100 im organischen funktionellen Schichtenstapel 103 erzeugtes Licht durch die transparenten ersten Elektroden 102 und das Substrat 101 gestrahlt werden kann. Auf der der ersten Hauptoberfläche 1011 abgewandten Seite weist das Substrat 101 eine zweite Hauptoberfläche 1012 auf, die als Lichtauskoppelfläche des organischen Licht emittierenden Bauelements 100 ausgebildet ist. Weiterhin kann das Bauelement 100 auf der zweiten Hauptoberfläche 1012 zusätzlich zumindest eine weitere Schicht aufweisen, deren zur Umgebung hingewandte Außenseite dann die Lichtauskoppelfläche bildet. Die erste und zweite Hauptoberfläche 1011, 1012 sind je nach Form des Substrats 101 über eine oder mehrere Seitenflächen 1013 miteinander verbunden.The first electrodes 102, like the substrate 101, are transparent, so that light generated in the organic functional layer stack 103 during operation of the organic light-emitting device 100 can be emitted through the transparent first electrodes 102 and the substrate 101. On the side facing away from the first main surface 1011, the substrate 101 has a second main surface 1012, which The first main surface 1011, 1012 is designed as the light-emitting surface of the organic light-emitting component 100. Furthermore, the component 100 can have at least one additional layer on its second main surface 1012, the outer surface of which, facing the environment, then forms the light-emitting surface. Depending on the shape of the substrate 101, the first and second main surfaces 1011, 1012 are connected to each other via one or more side surfaces 1013.
Das transparente Substrat 101 kann beispielsweise in Form einer Glasplatte oder Glasschicht ausgebildet sein. Alternativ hierzu kann das Substrat 101 beispielsweise auch einen transparenten Kunststoff oder ein Glas-KunststoffLaminat aufweisen. Die auf dem Substrat 101 aufgebrachten transparenten ersten Elektroden 102 können besonders bevorzugt gleich ausgebildet sein und können beispielsweise jeweils ein transparentes leitendes Oxid aufweisen. Transparente leitende Oxide („transparent conductive oxide“, TCO) sind transparente, leitende Materialien, in der Regel Metalloxide, wie beispielsweise Zinkoxid, Zinnoxid, Aluminiumzinnoxid, Cadmiumoxid, Titanoxid, Indiumoxid und Indiumzinnoxid (ITO). Neben binären Metallsauerstoffverbindungen, wie beispielsweise ZnO, SnO2 oder In2O3 gehören auch ternäre Metallsauerstoffverbindungen, wie beispielsweise Zn2SnO4, CdSnO3, ZnSnO3, MgIn2O4, GaInO3, Zn2In2O5 oder In4Sn3O12 oder Mischungen unterschiedlicher transparenter leitender Oxide zu der Gruppe der TCOs. Weiterhin entsprechen die TCOs nicht zwingend einer stöchiometrischen Zusammensetzung und können auch p- oder n-dotiert sein. Weiterhin können die ersten Elektroden 102 beispielsweise auch ein transparentes Metall, also ein Metall mit einer ausreichend geringen Dicke im Bereich von einigen zehn Nanometern oder weniger aufweisen. Geeignete Metalle sind im Folgenden im Zusammenhang mit der zweiten Elektrode 104 beschrieben. Weiterhin sind auch metallische Netzstrukturen beziehungsweise leitende Netzwerke, beispielsweise mit oder aus Silber, und/oder Graphen beziehungsweise kohlenstoffhaltige Schichten oder eine Kombination der genannten transparenten Materialien möglich.The transparent substrate 101 can, for example, be in the form of a glass plate or glass layer. Alternatively, the substrate 101 can also be, for example, a transparent plastic or a glass-plastic laminate. The transparent first electrodes 102 applied to the substrate 101 can particularly preferably be identical and can, for example, each comprise a transparent conductive oxide. Transparent conductive oxides (TCOs) are transparent, conductive materials, generally metal oxides such as zinc oxide, tin oxide, aluminum tin oxide, cadmium oxide, titanium oxide, indium oxide, and indium tin oxide (ITO). Besides binary metal-oxygen compounds, such as ZnO, SnO₂ , or In₂O₃ , ternary metal-oxygen compounds, such as Zn₂SnO₄ , CdSnO₃ , ZnSnO₃ , MgIn₂O₄ , GaInO₃ , Zn₂In₂O₅ , or In₄Sn₃O₁₂ , or mixtures of different transparent conductive oxides, also belong to the group of TCOs. Furthermore , TCOs do not necessarily have a stoichiometric composition and can also be p- or n-doped. Additionally , the first electrodes 102 can, for example, also be a transparent metal, i.e. , a metal with a sufficiently small thickness in the range of a few tens of nanometers or less. Suitable metals are described below in connection with the second electrode 104. Furthermore, metallic network structures or conductive networks, for example with or made of silver, and/or graphene or carbon-containing layers or a combination of the aforementioned transparent materials are also possible.
Die zweite Elektrode 104 auf dem organischen funktionellen Schichtenstapel 103 kann reflektierend ausgebildet sein und ein Metall aufweisen, das ausgewählt sein kann aus Aluminium, Barium, Indium, Silber, Gold, Magnesium, Calcium, Kupfer und Lithium sowie Verbindungen, Kombinationen und Legierungen damit. Insbesondere kann die zweite Elektrode 104 Ag, Al, Cu oder Legierungen oder Schichtstapel mit diesen aufweisen, beispielsweise Ag/Mg, Ag/Ca, Mg/Al oder auch Mo/Al/Mo oder Cr/Al/Cr. Alternativ oder zusätzlich kann die zweite Elektrode 104 auch ein oben genanntes TCO-Material oder einen Schichtenstapel mit zumindest einem TCO und zumindest einem Metall aufweisen. Die zweite Elektrode 104 kann auch transparent sein.The second electrode 104 on the organic functional layer stack 103 can be reflective and comprise a metal selected from aluminum, barium, indium, silver, gold, magnesium, calcium, copper, and lithium, as well as compounds, combinations, and alloys thereof. In particular, the second electrode 104 can comprise Ag, Al, Cu, or alloys or layer stacks containing these, for example, Ag/Mg, Ag/Ca, Mg/Al, or Mo/Al/Mo or Cr/Al/Cr. Alternatively or additionally, the second electrode 104 can also comprise a TCO material mentioned above or a layer stack containing at least one TCO and at least one metal. The second electrode 104 can also be transparent.
Die ersten Elektroden 102 können beispielsweise als Anoden ausgebildet sein, während die zweite Elektrode 104 als Kathode ausgebildet sein kann. Bei entsprechender Materialwahl und Leitfähigkeitstypwahl der Schichten des organischen funktionellen Schichtenstapels 103 ist aber auch ein hinsichtlich der Polarität umgekehrter Aufbau möglich.The first electrodes 102 can, for example, be configured as anodes, while the second electrode 104 can be configured as a cathode. However, with appropriate material selection and conductivity type selection of the layers of the organic functional layer stack 103, a structure with reversed polarity is also possible.
Der organische funktionelle Schichtenstapel 103 kann zusätzlich zur zumindest einen organischen Licht emittierenden Schicht weitere organische Schichten aufweisen, beispielsweise eine oder mehrere Schichten ausgewählt aus Lochinjektionsschichten, Lochtransportschichten, Elektronenblockierschichten, Löcherblockierschichten, Elektronentransportschichten, Elektroneninjektionsschichten und ladungserzeugenden Schichten („charge generation layer“, CGL), die geeignet sind, Löcher bzw. Elektronen zur organischen Licht emittierenden Schicht zu leiten bzw. den jeweiligen Transport zu blockieren. Weiterhin können auch mehrere Licht emittierende Schichten vorhanden sein. Die Schichten des organischen funktionellen Schichtstapels 103 können organische Polymere, organische Oligomere, organische Monomere, organische kleine, nicht-polymere Moleküle („small molecules“) oder Kombinationen daraus aufweisen. Insbesondere kann es vorteilhaft sein, wenn der organische funktionelle Schichtenstapel 103 eine funktionelle Schicht aufweist, die als Lochtransportschicht ausgeführt ist, um eine effektive Löcherinjektion in die zumindest eine organische Licht emittierende Schicht zu ermöglichen. Als Materialien für eine Lochtransportschicht können sich beispielsweise tertiäre Amine, Carbazolderivate, leitendes Polyanilin oder Polyethylendioxythiophen als vorteilhaft erweisen. Als Materialien für die Licht emittierende Schicht eignen sich elektrolumineszierende Materialien, die eine Strahlungsemission aufgrund von Fluoreszenz oder Phosphoreszenz aufweisen, beispielsweise Polyfluoren, Polythiophen oder Polyphenylen oder Derivate, Verbindungen, Mischungen oder Copolymere davon.The organic functional layer stack 103 can, in addition to at least one organic light-emitting layer, comprise further organic layers, for example, one or more layers selected from hole injection layers, hole transport layers, electron blocking layers, hole-blocking layers, electron transport layers, electron injection layers, and charge generation layers (CGLs) suitable for directing holes or electrons to the organic light-emitting layer or blocking the respective transport. Furthermore, multiple light-emitting layers may be present. The layers of the organic functional layer stack 103 can comprise organic polymers, organic oligomers, organic monomers, organic small non-polymeric molecules, or combinations thereof. In particular, it may be advantageous for the organic functional layer stack 103 to include a functional layer configured as a hole transport layer to enable effective hole injection into the at least one organic light-emitting layer. Suitable materials for a hole transport layer include, for example, tertiary amines, carbazole derivatives, conductive polyaniline, or polyethylene dioxythiophene. Electroluminescent materials that exhibit radiation emission due to fluorescence or phosphorescence are suitable for the light-emitting layer; examples include polyfluorene, polythiophene, or polyphenylene, or derivatives, compounds, mixtures, or copolymers thereof.
Die Elektroden 102, 104 sind bevorzugt großflächig ausgebildet, entsprechend können auch die übrigen Elemente des organischen Licht emittierenden Bauelements 100 großflächig ausgebildet sein, so dass das organische Licht emittierende Bauelement 100 als Flächenlichtquelle ausgeformt sein kann, bevorzugt mit einer Fläche des aktiven Bereichs 200 von größer oder gleich einigen Quadratmillimetern, bevorzugt größer oder gleich einem Quadratzentimeter und besonders bevorzugt größer oder gleich einem Quadratdezimeter. Die Form des aktiven Bereichs 200, der insbesondere durch die Form des organischen funktionellen Schichtenstapels 103 und die Form der Elektroden 102, 104 gegeben sein kann, kann entsprechend dem gewünschten Leuchtmuster ausgebildet sein und von der gezeigten Form abweichen.The electrodes 102, 104 are preferably designed with a large area; accordingly, the other elements of the organic light-emitting component 100 can also be designed with a large area, so that the organic light-emitting component 100 can be configured as a planar light source, preferably with an area of the active region 200 greater than or equal to a few square millimeters, more preferably greater than or equal to one square centimeter, and particularly preferably greater than or equal to one square decimeter. The shape of the active region 200, which is defined in particular by the The shape of the organic functional layer stack 103 and the shape of the electrodes 102, 104 may be determined according to the desired luminescence pattern and may differ from the shape shown.
Wie in den
Das organische Licht emittierende Bauelement 100 ist aufgrund des transparenten Substrats 101 und der transparenten ersten Elektroden 102 als sogenannter Bottom-Emitter ausgeführt und strahlt, wie oben beschrieben, im Betrieb Licht durch die transparente Elektrode 102 und das transparente Substrat 101 über die Lichtauskoppelfläche auf der Seite der zweiten Hauptoberfläche 1012 ab. Weiterhin kann auch die dem Substrat 101 abgewandt angeordnete zweite Elektrode 104, wie weiter oben erwähnt, transparent ausgebildet sein, um das im Betrieb im organischen funktionellen Schichtenstapel 103 erzeugte Licht durch die zweite Elektrode 104 in eine dem Substrat 101 abgewandte Richtung abzustrahlen.The organic light-emitting device 100 is designed as a so-called bottom emitter due to the transparent substrate 101 and the transparent first electrodes 102 and, as described above, emits light during operation through the transparent electrode 102 and the transparent substrate 101 via the light-emitting surface on the side of the second main surface 1012. Furthermore, the second electrode 104, which is arranged facing away from the substrate 101, can also be transparent, as mentioned above, in order to emit the light generated during operation in the organic functional layer stack 103 through the second electrode 104 in a direction away from the substrate 101.
Im Randbereich 201 ist auf der ersten Hauptoberfläche 1011 des Substrats eine Metallisierungsschicht 105 aufgebracht. Die Metallisierungsschicht 105 umschließt im gezeigten Ausführungsbeispiel den aktiven Bereich 200 in lateraler Richtung vollständig und unterbrechungsfrei und bildet somit einen umlaufenden, geschlossenen Rahmen um den aktiven Bereich 200. Hierbei ist die Metallisierungsschicht 105 durch einen Trennbereich in Form eines umlaufenden Grabens von den Schichten im aktiven Bereich 200 getrennt, so dass die Metallisierungsschicht 105 im gezeigten Ausführungsbeispiel von allen Schichten im aktiven Bereich 200 elektrisch isoliert ist. Im gezeigten Ausführungsbeispiel ist die Metallisierungsschicht 105 weiterhin auf einer transparenten elektrisch leitenden Schicht 106 aufgebracht, die wiederum unmittelbar auf dem Substrat 101 aufgebracht ist. Die transparente elektrisch leitende Schicht 106, die alternativ in diesem wie auch in den folgenden Ausführungsbeispielen nicht vorhanden sein kann, weist im gezeigten Ausführungsbeispiel dasselbe Material wie die ersten Elektroden 102 auf und ist deckungsgleich mit der Metallisierungsschicht 105 ausgebildet.In the peripheral region 201, a metallization layer 105 is applied to the first main surface 1011 of the substrate. In the illustrated embodiment, the metallization layer 105 completely and continuously surrounds the active region 200 laterally, thus forming a continuous, closed frame around the active region 200. The metallization layer 105 is separated from the layers in the active region 200 by a separation zone in the form of a circumferential groove, so that in the illustrated embodiment, the metallization layer 105 is electrically isolated from all layers in the active region 200. In the illustrated embodiment, the metallization layer 105 is further applied to a transparent, electrically conductive layer 106, which in turn is applied directly to the substrate 101. The transparent electrically conductive layer 106, which alternatively cannot be present in this or the following embodiments, has the same material as the first electrodes 102 in the embodiment shown and is identical to the metallization layer 105.
Die Metallisierungsschicht 105 weist zumindest ein Metall auf. Die Dicke der Metallisierungsschicht 105 ist dabei so gewählt, dass die Metallisierungsschicht nicht transparent ist und somit einen nicht-transparenten Rahmen um den aktiven Bereich 200 bildet. Die Metallisierungsschicht 105 kann beispielsweise eines oder mehrere Materialien ausgewählt aus Al, Ag, Cr und Mo aufweisen oder daraus sein. Die Metallisierungsschicht 105 kann weiterhin auch einen Schichtenstapel mit mehreren Materialien aufweisen, beispielsweise Mo/Al/Mo, Cr/Al, Cr/Al/Cr oder Cr/Ag/Cr.The metallization layer 105 comprises at least one metal. The thickness of the metallization layer 105 is chosen such that the metallization layer is not transparent and thus forms an opaque frame around the active region 200. The metallization layer 105 can, for example, comprise one or more materials selected from Al, Ag, Cr, and Mo. The metallization layer 105 can also comprise a layer stack with multiple materials, for example, Mo/Al/Mo, Cr/Al, Cr/Al/Cr, or Cr/Ag/Cr.
Da das Substrat 101 und die transparente elektrisch leitende Schicht 106 lichtdurchlässig sind, ist die Metallisierungsschicht 105 bei einer Aufsicht auf die Lichtauskoppelfläche erkennbar, wie in
Zur elektrischen Kontaktierung der Elektroden 102 und 104 ist vom Substrat 101 aus gesehen auf der Metallisierungsschicht 105 ein Anschlussbereich ausgebildet, über den das organische Licht emittierende Bauelement 100 an eine externe Energiequelle angeschlossen werden kann. Im Anschlussbereich weist das organische Licht emittierende Bauelement 100 eine elektrisch isolierende Schicht 107 auf, auf der zumindest ein Anschlusskontakt 108 aufgebracht ist. Im gezeigten Ausführungsbeispiel weist der Anschlussbereich auf der elektrisch isolierenden Schicht 107 drei Anschlusskontakte 108 zur Kontaktierung jeder der Elektroden 102, 104 auf. Die Anschlusskontakte 108 ragen vom Randbereich 201 in den aktiven Bereich 200 und sind im Anschlussbereich als Kontaktpad, beispielsweise für eine Verbindung mittels Löten, Bonden oder Kleben, vorgesehen und eingerichtet.For electrical contacting of the electrodes 102 and 104, a connection area is formed on the metallization layer 105, viewed from the substrate 101, via which the organic light-emitting device 100 can be connected to an external energy source. In the connection area, the organic light-emitting device 100 has an electrically insulating layer 107 on which at least one connection contact 108 is applied. In the illustrated embodiment, the connection area on the electrically insulating layer 107 has three connection contacts 108 for contacting each of the electrodes 102 and 104. The connection contacts 108 project from the edge region 201 into the active region 200 and are provided and configured in the connection area as a contact pad, for example for a connection by soldering, bonding, or gluing.
Die elektrisch isolierende Schicht 107 kann ein organisches oder anorganisches elektrisch isolierendes Material aufweisen oder daraus sein. Beispielsweise kann die elektrisch isolierende Schicht 107 ein Resist aufweisen oder daraus sein, der beispielsweise nasschemisch aufgebracht werden kann, etwa mittels Dispensen, Sprühbeschichtung oder Schablonendruck. Weiterhin kann die elektrisch isolierende Schicht 107 beispielsweise ein mittels eines PVD-Verfahrens aufgebrachtes Oxid aufweisen oder daraus sein, etwa Aluminiumoxid, Titandioxid, Siliziumdioxid und/oder Tantalpentoxid. Besonders bevorzugt wird die elektrisch isolierende Schicht 107 im Anschlussbereich auf der Metallisierungsschicht 105 aufgebracht, bevor im aktiven Bereich 200 das organische funktionelle Material aufgebracht wird, insbesondere für den Fall, dass beim Aufbringen der elektrisch isolierenden Schicht 107 Temperaturen verwendet werden, die das organische Material im aktiven Bereich 200 schädigen könnten. Weiterhin können die weiter oben beschriebenen Isolatorschichten 124 und die elektrisch isolierende Schicht 107 dasselbe Material aufweisen, so dass diese in einem gemeinsamen Aufbringprozess herstellbar sein können.The electrically insulating layer 107 can comprise or consist of an organic or inorganic electrically insulating material. For example, the electrically insulating layer 107 can comprise or consist of a resist, which can be applied, for example, by wet chemical means, such as dispensing, spray coating, or stencil printing. Furthermore, the electrically insulating layer 107 can, for example, comprise or consist of an oxide applied by a PVD process, such as aluminum oxide, titanium dioxide, silicon dioxide, and/or tantalum pentoxide. The electrically insulating layer 107 is particularly preferably applied to the metallization layer 105 in the connection area before the organic functional material is applied in the active area 200, especially if the application process is carried out by a PVD process. Temperatures are used near the electrically insulating layer 107 that could damage the organic material in the active area 200. Furthermore, the insulating layers 124 described above and the electrically insulating layer 107 can consist of the same material, so that they can be produced in a common application process.
Wie in
Über dem organischen funktionellen Schichtenstapel 103 und den Elektroden 102, 104 kann eine der Übersichtlichkeit halber nicht gezeigte Verkapselung zum Schutz des organischen funktionelle Schichtenstapels 103 und der Elektroden 102, 104 angeordnet sein. Die Verkapselung kann besonders bevorzugt als Dünnfilmverkapselung ausgeführt sein. Unter einer als Dünnfilmverkapselung ausgebildeten Verkapselung wird vorliegend eine Vorrichtung verstanden, die dazu geeignet ist, eine Barriere gegenüber atmosphärischen Stoffen, insbesondere gegenüber Feuchtigkeit und Sauerstoff und/oder gegenüber weiteren schädigenden Substanzen wie etwa korrosiven Gasen, beispielsweise Schwefelwasserstoff, zu bilden. Mit anderen Worten ist die Dünnfilmverkapselung derart ausgebildet, dass sie von atmosphärischen Stoffen höchstens zu sehr geringen Anteilen durchdrungen werden kann. Diese Barrierewirkung wird bei der Dünnfilmverkapselung im Wesentlichen durch eine oder mehrere als dünne Schichten ausgeführte Barriereschichten und/oder Passivierungsschichten erzeugt, die Teil der Verkapselung sind. Die Schichten der Verkapselung weisen in der Regel eine Dicke von kleiner oder gleich 5 µm auf und sind auf dem Substrat 101 und den vorab beschriebenen weiteren Schichten aufgebracht. Die Verkapselung 107 wird somit nicht durch ein selbsttragendes Element gebildet, sondern wird erst durch das Aufbringen hergestellt.An encapsulation, not shown for clarity, can be arranged over the organic functional layer stack 103 and the electrodes 102, 104 to protect the organic functional layer stack 103 and the electrodes 102, 104. The encapsulation can particularly preferably be designed as a thin-film encapsulation. In the present context, a thin-film encapsulation is understood to be a device suitable for forming a barrier against atmospheric substances, in particular against moisture and oxygen, and/or against other damaging substances such as corrosive gases, for example, hydrogen sulfide. In other words, the thin-film encapsulation is designed such that it can be penetrated by atmospheric substances only to a very small extent. This barrier effect in the thin-film encapsulation is essentially generated by one or more barrier layers and/or passivation layers designed as thin films, which are part of the encapsulation. The encapsulation layers typically have a thickness of less than or equal to 5 µm and are applied to the substrate 101 and the previously described additional layers. The encapsulation 107 is therefore not formed by a self-supporting element, but is created through the application process.
Insbesondere kann die Dünnfilmverkapselung eine oder mehrere dünne Schichten aufweisen oder aus diesen bestehen, die für die Barrierewirkung der Verkapselung verantwortlich sind. Die dünnen Schichten können beispielsweise mittels eines Atomlagenabscheideverfahrens („atomic layer deposition“, ALD) oder Moleküllagenabscheideverfahrens („molecular layer deposition“, MLD) aufgebracht werden. Geeignete Materialien für die Schichten der Verkapselungsanordnung können beispielsweise Aluminiumoxid, Zinkoxid, Zirkoniumoxid, Titanoxid, Hafniumoxid, Lanthanoxid, Tantaloxid sowie die oben genannten TCOs sein, so etwa Aluminiumzinnoxid. Bevorzugt weist die Verkapselung eine Schichtenfolge mit einer Mehrzahl der dünnen Schichten auf, die jeweils eine Dicke zwischen einer Atomlage und einigen 100 nm aufweisen.In particular, the thin-film encapsulation can have or consist of one or more thin layers responsible for the barrier effect of the encapsulation. These thin layers can be deposited, for example, by atomic layer deposition (ALD) or molecular layer deposition (MLD). Suitable materials for the layers of the encapsulation arrangement include, for example, aluminum oxide, zinc oxide, zirconium oxide, titanium oxide, hafnium oxide, lanthanum oxide, tantalum oxide, and the aforementioned TCOs, such as aluminum tin oxide. Preferably, the encapsulation comprises a sequence of layers with a plurality of thin layers, each with a thickness between one atomic layer and several hundred nm.
Alternativ oder zusätzlich zu mittels ALD oder MLD hergestellten dünnen Schichten kann die Verkapselung zumindest eine oder eine Mehrzahl weiterer Schichten, also insbesondere Barriereschichten und/oder Passivierungsschichten, aufweisen, die durch thermisches Aufdampfen oder mittels eines plasmagestützten Prozesses, etwa Sputtern, chemischer Gasphasenabscheidung („chemical vapor deposition“, CVD) oder plasmaunterstützter chemischer Gasphasenabscheidung („plasma-enhanced chemical vapor deposition“, PECVD), abgeschieden werden. Geeignete Materialien dafür können die vorab genannten Materialien sowie Siliziumnitrid, Siliziumoxid, Siliziumoxinitrid, Siliziumcarbid, Indiumzinnoxid, Indiumzinkoxid, Aluminiumzinkoxid, Aluminiumoxid sowie Mischungen und Legierungen der genannten Materialien sein. Die eine oder die mehreren weiteren Schichten können beispielsweise jeweils eine Dicke zwischen 1 nm und 5 µm und bevorzugt zwischen 100 nm und 1000 nm aufweisen, wobei die Grenzen eingeschlossen sind.Alternatively or additionally to thin films produced by ALD or MLD, the encapsulation can comprise at least one or more further layers, in particular barrier layers and/or passivation layers, which are deposited by thermal evaporation or by means of a plasma-enhanced process, such as sputtering, chemical vapor deposition (CVD), or plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD). Suitable materials for this purpose can be the aforementioned materials as well as silicon nitride, silicon oxide, silicon oxynitride, silicon carbide, indium tin oxide, indium zinc oxide, aluminum zinc oxide, aluminum oxide, and mixtures and alloys of the aforementioned materials. The one or more further layers can, for example, each have a thickness between 1 nm and 5 µm, and preferably between 100 nm and 1000 nm, including the limits of this range.
Die Verkapselung kann insbesondere den aktiven Bereich 200 und den Randbereich 201 derart bedecken, dass zusammen mit dem Substrat 101 ein möglichst allseitiger Schutz insbesondere des organischen funktionellen Schichtenstapels 103 erreicht werden kann. Insbesondere kann die Verkapselung die erste Hauptoberfläche 1011 des Substrats 101 bis auf den elektrischen Anschlussbereich mit den Anschlusskontakten 108 bedecken.The encapsulation can, in particular, cover the active region 200 and the edge region 201 in such a way that, together with the substrate 101, the most comprehensive possible protection, especially of the organic functional layer stack 103, can be achieved. In particular, the encapsulation can cover the first main surface 1011 of the substrate 101. cover except for the electrical connection area with the connection contacts 108.
Im Hinblick auf weitere Merkmale des organischen Licht emittierenden Bauelements 100, beispielsweise im Hinblick auf den Aufbau, die Schichtzusammensetzung und die Materialien des organischen funktionellen Schichtenstapels, der Elektroden und der Verkapselung, wird auf die Druckschrift
Da von der Seite der Lichtauskoppelfläche her der durch die Metallisierungsschicht 105 gebildete Rahmen wahrnehmbar ist, verdeckt dieser für einen Betrachter den Anschlussbereich und damit die vorab beschriebenen Schichten dieses, so dass, wie im allgemeinen Teil beschrieben ist, der Anschlussbereich entsprechend den Anforderungen der Kontaktierungstechnologie ausgebildet sein kann, ohne dass das Erscheinungsbild des organischen Licht emittierenden Bauelements 100 auf der Lichtauskoppelfläche dadurch gestört wird, wie in
In den nachfolgenden Figuren sind weitere Ausführungsbeispiele gezeigt, die Modifikationen und Variationen des vorab beschriebenen Ausführungsbeispiels bilden. Die nachfolgende Beschreibung bezieht sich daher hauptsächlich auf die Merkmalsunterschiede. In den
Im Ausführungsbeispiel der
Im Beispiel der
In den
In
Die in Verbindung mit den Figuren gezeigten Ausführungsbeispiele können gemäß weiterer Ausführungsbeispiele auch miteinander kombiniert werden, auch wenn nicht alle derartigen Kombinationen explizit in Verbindung mit den Figuren beschrieben sind. Weiterhin können die in den Figuren gezeigten Ausführungsbeispiele zusätzlich oder alternativ Merkmale gemäß der allgemeinen Beschreibung aufweisen.The embodiments shown in conjunction with the figures can also be combined with one another according to further embodiments, even if not all such combinations are explicitly described in conjunction with the figures. Furthermore, the embodiments shown in the figures may additionally or alternatively have features according to the general description.
BezugszeichenlisteReference symbol list
- 100100
- organisches Licht emittierendes Bauelementorganic light-emitting component
- 101101
- Substratsubstrate
- 102102
- Elektrodeelectrode
- 103103
- organischer funktioneller Schichtenstapelorganic functional layer stack
- 104104
- Elektrodeelectrode
- 105105
- MetallisierungsschichtMetallization layer
- 106106
- transparente elektrisch leitende Schichttransparent electrically conductive layer
- 107107
- elektrisch isolierende Schichtelectrically insulating layer
- 108108
- AnschlusskontaktConnection contact
- 109109
- metallisches Materialmetallic material
- 124124
- Isolatorschichtinsulating layer
- 200200
- aktiver Bereichactive area
- 201201
- RandbereichEdge area
- 10001000
- Licht emittierende Vorrichtunglight-emitting device
- 10011001
- Halterungbracket
- 10021002
- elektrisches Anschlusselementelectrical connection element
- 10111011
- erste Hauptoberflächefirst main surface
- 10121012
- zweite Hauptoberflächesecond main surface
- 10131013
- Seitenflächeside surface
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-
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