CN116833138A - 衬底背面清洗组件与衬底清洁装置 - Google Patents

Abstract

本公开涉及一种衬底背面清洗组件与衬底清洁装置，衬底背面清洗组件包括外壳以及多个喷嘴。外壳设有出口。由于喷嘴的数量不止一个，而是设置为多个，且在外壳的中部部位设有至少一个第一喷嘴，以及将各个第二喷嘴环绕第一喷嘴的周向依次间隔设置，每个第二喷嘴的喷出部的喷射方向与第一喷嘴的中心轴线呈锐角设置。这样各个喷嘴工作时，第一喷嘴将清洗液经出口喷射至衬底背面的中部部位，第二喷嘴将清洗液经出口同步喷射至衬底背面的外围部位，减小了重力作用对清洗液的影响，使得对衬底背面的各个部位的清洁效果较为均匀，从而能减小清洗盲区，大大提高了清洗效率与清洗质量。

Description

衬底背面清洗组件与衬底清洁装置

技术领域

本公开涉及衬底清洗技术领域，特别是涉及一种衬底背面清洗组件与衬底清洁装置。

背景技术

在衬底加工制作过程中，衬底经过炉管或薄膜沉积工艺，背面(或者背面边缘位置)通常也会生长薄膜，为了防止该薄膜影响衬底的弯曲度和在后续加工过程中脱落，通常需要经过湿法清洗去除背面薄膜层，与此同时，衬底正面也有清洗的需求。相关技术的清洗设备对衬底的背面清洗处理时，衬底放置在卡盘上，通过多个pin针支撑定位，喷嘴将清洗液从下向上喷出至衬底的背面，清洗液喷射到衬底的背面中部部位后，朝向衬底的背面四周流动，通过清洗液冲洗衬底的背面来将衬底的背面清洗干净。然而，衬底背面存在清洗效率低，清洗结束后仍然会有薄膜残留，清洗质量较低的缺陷。

发明内容

基于此，有必要克服现有技术的缺陷，提供一种衬底背面清洗组件与衬底清洁装置，它能够提高清洗效率与清洗质量。

一种衬底背面清洗组件，所述衬底背面清洗组件包括：

外壳，所述外壳设有出口；以及

多个喷嘴，多个所述喷嘴穿设于所述外壳中，多个所述喷嘴的喷出部设于所述出口处；至少一个所述喷嘴设于所述外壳的中部区域并定义为第一喷嘴，其余所述喷嘴位于所述外壳的中部区域以外部位，并定义为第二喷嘴；所有所述第二喷嘴环绕所述第一喷嘴的周向依次间隔设置，每个所述第二喷嘴的喷射方向均与所述第一喷嘴的中心轴线呈锐角设置。

在其中一个实施例中，各个所述第二喷嘴环绕所述第一喷嘴的中心轴线等间隔设置。

在其中一个实施例中，将垂直于所述第一喷嘴的中心轴线的平面设为参考面，所述第二喷嘴的喷射方向与所述参考面形成的夹角设为a，a为5°至90°。

在其中一个实施例中，所述衬底背面清洗组件包括至少一个喷气嘴，所述喷气嘴穿设于所述外壳中，所述喷气嘴的喷气部设于所述出口处。

一种衬底清洁装置，所述衬底清洁装置包括所述的衬底背面清洗组件，还包括处理腔室、支座、卡盘与支撑件；所述支座设于所述处理腔室内部，所述卡盘连接于所述支座上，所述支撑件连接于所述卡盘上，所述支撑件用于支撑衬底，以使所述衬底与所述卡盘设有间隔，所述衬底背面清洗组件依次贯穿设置于所述支座与所述卡盘中，所述出口对着所述衬底的背面。

在其中一个实施例中，所述卡盘的边缘设有朝远离于所述卡盘中心方向可伸缩调节的挡液部，当所述挡液部处于伸出状态时，所述挡液部远离于所述卡盘的一端伸入到废液收集部件中，当所述挡液部处于缩回状态时，所述挡液部远离于所述卡盘的一端移出到所述废液收集部件外部。

在其中一个实施例中，所述衬底清洁装置还包括设置于所述卡盘上的驱动机构，所述驱动机构与所述挡液部相连，所述驱动机构用于驱动所述挡液部朝向远离于所述卡盘中心方向向外伸出或朝向靠近于所述卡盘中心方向缩回。

在其中一个实施例中，所述支撑件上用于与所述衬底相连的位置到所述卡盘表面的距离能够调整。

在其中一个实施例中，所述衬底清洁装置还包括清洗水供应槽与反应液供应槽；所述清洗水供应槽通过第一输送管与各个所述喷嘴连通，所述反应液供应槽通过第二输送管与各个所述喷嘴连通。

在其中一个实施例中，所述第一输送管上设有第一泵与第一开关阀，所述第一开关阀用于控制第一输送管的开启与关闭；所述第二输送管上设有第二泵与第二开关阀，所述第二开关阀用于控制第二输送管的开启与关闭；所述衬底清洁装置还包括控制器，所述控制器分别与所述第一泵、所述第二泵、所述第一开关阀与所述第二开关阀电性连接。

上述的衬底背面清洗组件与衬底清洁装置，由于喷嘴的数量不止一个，而是设置为多个，且在外壳的中部部位设有至少一个喷嘴，以及将各个第二喷嘴环绕第一喷嘴的周向依次间隔设置，每个第二喷嘴的喷出部的喷射方向与第一喷嘴的中心轴线呈锐角设置。这样各个喷嘴工作时，第一喷嘴将清洗液经出口喷射至衬底背面的中部部位，第二喷嘴将清洗液经出口同步喷射至衬底背面的外围部位，减小了重力作用对清洗液的影响，使得对衬底背面的各个部位的清洁效果较为均匀，从而能减小清洗盲区，大大提高了清洗效率与清洗质量。

附图说明

图1为相关技术中的喷嘴将清洗液喷射至衬底的背面对衬底背面清洗状态示意图。

图2为本申请一实施例的衬底背面清洗组件的结构示意图。

图3为图2在A-A处的剖视结构图。

图4为本申请一实施例的衬底背面清洗组件对衬底进行清洗的状态示意图。

图5为本申请一实施例的衬底清洁装置的结构示意图。

图6为本申请一实施例的衬底背面清洗组件与衬底的位置关系示意图。

图7为本申请一实施例的衬底背面清洗组件与衬底的位置关系示意图。

图8为本申请一实施例的第一喷嘴与衬底的位置关系示意图。

图9为本申请另一实施例的衬底清洁装置的简化示意图。

图10为本申请又一实施例的衬底清洁装置的支撑件处于一高度位置的结构示意图。

图11为本申请又一实施例的衬底清洁装置的支撑件处于另一高度位置的结构示意图。

110、衬底；120、喷嘴；

210、衬底背面清洗组件；211、外壳；2111、出口；2121、第一喷嘴；2122、第二喷嘴；2123、喷出部；21232、喷液孔；213、喷气嘴；220、处理腔室；230、支座；240、卡盘；241、挡液部；250、支撑件；260、正面清洗组件；261、第三喷嘴；262、第四喷嘴；270、清洗水供应槽；271、第一输送管；272、第一泵；273、第一开关阀；280、反应液供应槽；281、第二输送管；282、第二泵；283、第二开关阀；290、废液收集部件；300、衬底。

具体实施方式

为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本申请的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请。但是本申请能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本申请内涵的情况下做类似改进，因此本申请不受下面公开的具体实施例的限制。

需要说明的是，本实施例中的衬底可以是在基材上形成半导体元件，例如集成电路或离散元件(discrete devices)的制程中任何阶段中的半导体晶圆。在一实施例中，衬底包含极低介电常数介电层以及在半导体基材上的金属层。衬底可为光罩、半导体晶圆、或电子元件制造领域的普通技术人员已知的其他工件。在至少一些实施例中，衬底包含用于制造任何集成电路、被动式(例如，电容器、电感器)以及主动式(例如，晶体管、光侦测器、激光器、二极管)微电子元件的任何材料。衬底可以包含将这种主动式和被动式微电子元件与形成在它们顶部的一个或多个导电层分开的绝缘材料(例如，介电材料)。在一实施例中，衬底为包含一层或多层介电层的半导体基材，例如硅、氮化镓、砷化镓、二氧化硅、氮化硅、蓝宝石、及其他介电材料。在一实施例中，衬底是包括一层或多层的晶圆堆叠。一层或多层的晶圆可包含导电层、半导体层、绝缘层或前述的任意层组合。

正如背景技术所述，相关技术中的衬底背面存在清洗效率低，清洗结束后仍然会有薄膜残留，清洗质量较低的缺陷问题，经发明人研究发现，出现这种问题的原因在于，请参阅图1，图1示出了相关技术中的喷嘴120将清洗液喷射至衬底110的背面对衬底110背面清洗状态示意图，喷嘴120向外喷出的清洗液由于自身重力会往下掉落，尤其是在流动至衬底110的外围区域时，因为向上的动能减小使得下落趋势较为明显，从而对衬底110背面的边缘区域的冲洗力减弱，导致对衬底110背面的边缘部位的清洗效果减弱，从而清洗效率与清洗质量降低。

基于以上原因，本申请提供了一种衬底背面清洗组件与衬底清洁装置，它能够提高清洗效率与清洗质量的方案。

参阅图2至图4，图2示出了本申请一实施例的衬底背面清洗组件210的结构示意图。图3示出了图2在A-A处的剖视结构图。图4示出了本申请一实施例的衬底背面清洗组件210对衬底300进行清洗的状态示意图。本申请一实施例提供的一种衬底背面清洗组件210，衬底背面清洗组件210包括：外壳211以及多个喷嘴。外壳211设有出口2111。所有喷嘴穿设于外壳211中，所有喷嘴的喷出部2123设于出口2111处。至少一个喷嘴设于外壳211的中部区域并定义为第一喷嘴2121，其余喷嘴位于外壳211的中部区域以外部位，并定义为第二喷嘴2122。所有第二喷嘴2122环绕第一喷嘴2121的周向依次间隔设置，每个第二喷嘴2122的喷出部2123的喷射方向均与第一喷嘴2121的中心轴线O呈锐角设置。

上述的衬底背面清洗组件210，由于喷嘴的数量不止一个，而是设置为多个，且在外壳211的中部部位设有至少一个喷嘴，以及将各个第二喷嘴2122环绕第一喷嘴2121的周向依次间隔设置，每个第二喷嘴2122的喷出部2123的喷射方向与第一喷嘴2121的中心轴线O呈锐角设置。这样各个喷嘴工作时，第一喷嘴2121将清洗液经出口2111喷射至衬底300背面的中部部位，第二喷嘴2122将清洗液经出口2111同步喷射至衬底300背面的外围部位，减小了重力作用对清洗液的影响，使得对衬底300背面的各个部位的清洁效果较为均匀，从而能减小清洗盲区，大大提高了清洗效率与清洗质量。

请参阅图2至图4，在一个实施例中，各个第二喷嘴2122环绕第一喷嘴2121的中心轴线O等间隔设置。如此，各个第二喷嘴2122均匀分布，能相应提高对衬底300背面各个部位的清洁效果的均匀性。

请参阅图2至图4，在一个实施例中，第一喷嘴2121包括但不限于为1个，第二喷嘴2122的数量包括但不限于为2个至20个。如此，第一喷嘴2121与第二喷嘴2122的各自数量设置较为合理，能保证对衬底300背面的清洁效果，以及不至于过多导致结构复杂化、成本增高与体积尺寸增大等缺陷。

请参阅图2至图4，在一个实施例中，第一喷嘴2121的直径设为D1，D1包括但不限于为1mm至10mm。具体而言，D1例如为1mm、4mm、5mm、6mm或10mm。

请参阅图2至图4，在一个实施例中，第二喷嘴2122的直径设为D2，D2包括但不限于为1mm至10mm。具体而言，D2例如为1mm、4mm、5mm、6mm或10mm。

请参阅图6或图7，图6与图7分别示出了本申请一实施例的衬底背面清洗组件210与衬底300的位置关系示意图。在一个实施例中，喷嘴距离衬底300背面的距离设为S，S包括但不限于为10mm至100mm。具体而言，S例如为10mm、30mm、40mm、50mm、60mm或100mm。

请参阅图3与图6，在一个实施例中，外壳211设为管件，管件的内径设为D3，D3包括但不限于为5mm至50mm。具体而言，D3例如为5mm、20mm、25mm、30mm、35mm、40mm或50mm。

此外，衬底300的直径尺寸设为D4，D4具体例如为300mm或其它任意数值。

请参阅图3与图6，在一个实施例中，将垂直于第一喷嘴2121的中心轴线O的平面设为参考面，第二喷嘴2122的喷出部2123的喷射方向与参考面形成的夹角设为a，a包括但不限于为5°至90°。具体而言，a例如为30°、45°、60°、75°等。

请参阅图8，图8示出了本申请一实施例的第一喷嘴2121与衬底300的位置关系示意图，第二喷嘴2122的具体结构类似于第一喷嘴2121，图8中未进行展示。在一个实施例中，衬底背面清洗组件包括至少一个喷气嘴213。喷气嘴213穿设于外壳211中，喷气嘴213的喷气部设于出口2111处。如此，清洗组件工作时，具有喷液功能与喷气功能，不仅将清洗液通过喷液孔21232喷射至衬底300背面进行清洗作业，还能将清洁气体通过喷气部喷射至衬底300背面进行清洗作业或者干燥作业，使得对衬底300背面有较好的清洁效果。其中，清洁气体包括但不限于为干燥氮气、氦气等不会参与化学反应的气体。

请参阅图5、图7与图8，图5示出了本申请一实施例的衬底清洁装置的结构示意图。在一个实施例中，一种衬底清洁装置，衬底清洁装置包括上述任一实施例的衬底背面清洗组件210，还包括处理腔室220、支座230、卡盘240与支撑件250。支座230设于处理腔室220内部，卡盘240连接于支座230上。支撑件250连接于卡盘240上，支撑件250用于支撑衬底300，以使衬底300与卡盘240设有间隔。衬底背面清洗组件210依次贯穿设置于支座230与卡盘240中，出口2111对着衬底300的背面。

上述的衬底清洁装置，由于喷嘴的数量不止一个，而是设置为多个，且在外壳211的中部部位设有至少一个喷嘴，以及将各个第二喷嘴2122环绕第一喷嘴2121的周向依次间隔设置，每个第二喷嘴2122的喷出部2123的喷射方向与第一喷嘴2121的中心轴线O呈锐角设置。这样各个喷嘴工作时，第一喷嘴2121将清洗液经出口2111喷射至衬底300背面的中部部位，第二喷嘴2122将清洗液经出口2111同步喷射至衬底300背面的外围部位，减小了重力作用对清洗液的影响，使得对衬底300背面的各个部位的清洁效果较为均匀，从而能减小清洗盲区，大大提高了清洗效率与清洗质量。

请参阅图5，在一个实施例中，衬底清洁装置还包括清洗水供应槽270与反应液供应槽280。清洗水供应槽270通过第一输送管271与各个喷嘴连通，反应液供应槽280通过第二输送管281与各个喷嘴连通。

请参阅图5，具体而言，第一输送管271上设有第一泵272与第一开关阀273。第一开关阀273用于控制第一输送管271的开启与关闭。第一开关阀273开启时，在第一泵272的提供动力作用下，能实现将清洗水供应槽270内部的清洗水输送给各个喷嘴，由各个喷嘴将清洗水喷射到衬底300背面的各个部位，实现对衬底300背面的各个部位的清洁效果；第一开关阀273关闭时，第一泵272同步关闭，停止供应清洗水给各个喷嘴。

其中，清洗水具体例如为去离子水。

请参阅图5，此外，第二输送管281上设有第二泵282与第二开关阀283。第二开关阀283用于控制第二输送管281的开启与关闭。第二开关阀283开启时，在第二泵282的提供动力作用下，能实现将反应液供应槽280内部的反应液输送给各个喷嘴，由各个喷嘴将反应液喷射到衬底300背面的各个部位，反应液与衬底300背面的膜层和/或杂质等发生反应，清洁均匀性好，清洁效率与清洁质量较高；第二开关阀283关闭时，第二泵282同步关闭，停止供应反应液给各个喷嘴。

其中，反应液具体根据实际需求灵活调整与设置，在此不进行限定。

请参阅图5，在一个实施例中，衬底清洁装置还包括正面清洗组件260。正面清洗组件260位于衬底300的上方，用于对衬底300的正面进行清洁处理。

请参阅图5，具体而言，正面清洗组件260包括第三喷嘴261与第四喷嘴262。第三喷嘴261用于将反应液喷射到衬底300的正面，反应液与衬底300正面的杂质发生反应，能对衬底300正面进行清洁处理。第四喷嘴262用于将清洗水和/或清洁气体喷射到衬底300正面，通过清洗水和/或清洁气体对衬底300正面进行清洁处理。

请参阅图5与图9，图9示出了本申请另一实施例的衬底清洁装置的简化示意图。在一个实施例中，衬底清洁装置还包括废液收集部件290。废液收集部件290设置于处理腔室220内部，并环绕卡盘240的周向设置，废液收集部件290用于收集衬底300表面向外甩出的废液。如此，在对衬底300进行清洁处理过程中，卡盘240带动衬底300旋转，衬底300表面上的废液在离心力的作用下向外甩出，并通过废液收集部件290收集处理。

具体而言，动力机构设置于支座230上，用于驱动卡盘240高速转动。此外，衬底背面清洗组件210与支座230转动相连，这样衬底背面清洗组件210位置相对固定，不随支座230转动。当然，也可以是动力机构与支座230相连，衬底背面清洗组件210固定地连接于支座230上，工作时，通过驱动支座230转动，支座230同步带动卡盘240与衬底背面清洗组件210同步转动。

相关技术中，衬底300表面上的废液有可能无法全部甩出到废液收集部件290中，也即有可能会有一部分废液掉落到废液收集部件290与卡盘240之间的区域，并进入到处理腔室220的底部，从而导致污染缺陷。

请参阅图9，在一个实施例中，卡盘240的边缘设有朝远离于卡盘240中心方向可伸缩调节的挡液部241。如此，当衬底300在清洁过程中有废液掉落到废液收集部件290与卡盘240之间的区域时，使挡液部241从卡盘240的边缘向外伸出，并调整挡液部241的伸缩程度到合适大小，便能起到挡液作用，使卡盘240的废液甩出到挡液部241，由挡液部241甩出进入到废液收集部件290内。具体而言，当挡液部241处于伸出状态时，挡液部241远离于卡盘240的一端伸入到废液收集部件290中，从而便起到较好的挡液作用，使得废液完全甩出进入到废液收集部件290内；当挡液部241处于缩回状态时，挡液部241远离于卡盘240的一端移出到废液收集部件290外部，这样当挡液部241在卡盘240上升调节高度位置时，由于挡液部241处于收回状态，使得卡盘240能顺利地升降到不同的高度位置，且不会与不同高度位置处的废液收集部件290发生干涉。其中，当卡盘240处于不同的高度位置时，正面清洗组件260与衬底背面清洗组件210在衬底300表面上喷射的清洗液的量与压力各不相同，呈现出不同的清洁效果。

请参阅图9，在一个实施例中，衬底清洁装置还包括设置于卡盘240上的驱动机构(图中未示出)。驱动机构与挡液部241相连，驱动机构用于驱动挡液部241朝向远离于卡盘240中心方向向外伸出或朝向靠近于卡盘240中心方向缩回。

需要说明的是，驱动机构包括但不限于为气囊扩张机构、电机丝杆驱动、气缸驱动、磁力推动机构、凸轮机构、齿轮驱动机构等。

在一个具体实施中，驱动机构具体例如选用气囊扩张机构，气囊扩张机构包括可充气气囊以及与可充气气囊相连的气泵。此外，挡液部241例如设置为弹性圈。弹性圈套设于可充气气囊的外部并与可充气气囊相连。当需要使得挡液部241朝向远离于卡盘240中心方向向外伸出时，通过气泵给可充气气囊充气，使可充气气囊膨胀，可充气气囊相应驱动弹性圈向外伸缩。反之，当需要使得挡液部241朝向靠近于卡盘240中心方向缩回时，使可充气腔内放气，弹性圈在自身弹性力作用下复位。

具体而言，卡盘240的侧边上形成有环形凹槽，可充气气囊呈环状，与弹性圈均设置于凹槽内部。

在另一个具体实施例中，驱动机构例如设置成多个推拉机构。此外，挡液部241环绕卡盘240的周向设置，并包括多个挡液分体以及对应连接于相邻两个挡液分体间的可变形连接部，可变形连接部具体例如为弹性材质。多个推拉机构与多个挡液分体对应相连。当需要使得挡液部241朝向远离于卡盘240中心方向向外伸出时，各个推拉机构同步动作，使各个挡液分体向外推出；反之，当需要使得挡液部241朝向靠近于卡盘240中心方向缩回时，各个推拉机构同步动作，使各个挡液分体缩回。

当然，作为一些可选的方案，挡液部241无需环绕卡盘240的周向设置，而是例如设置为卡盘240边缘的任意一侧的挡液板件，推拉机构相应设为一个，用于驱动该挡液部241向外伸出或向内缩回，便相应在卡盘240边缘的其中一侧发挥遮挡作用。

请参阅图10与图11，图10与图11分别示出了本申请又一实施例的衬底清洁装置的支撑件250处于两个不同高度位置的结构示意图。在一个实施例中，支撑件250上用于与衬底300相连的位置到卡盘240表面的距离h能够调整。如此，通过将支撑件250上用于与衬底300相连的位置到卡盘240表面的距离h进行调整到合适大小，能增加衬底背面清洗组件210对衬底300背面的清洗范围，同时能调整清洗液喷射于衬底300表面上的压力大小，使得衬底300在清洁过程中更加稳定可靠，以及提高对衬底300背面的清洁效果。

在一些实施例中，支撑件250包括但不限于安装位置可调地设置于卡盘240上的pin针、螺钉、卡件等。如此，通过调整支撑件250在卡盘240上的安装位置，从而调整支撑件250上用于与衬底300相连的位置到卡盘240表面的距离大小。

在一些实施例中，支撑件250还可以是自身长度可调的pin针或卡件等。如此，通过调整支撑件250的自身长度，便能相应调整支撑件250上用于与衬底300相连的位置到卡盘240表面的距离大小。

请参阅图10与图11，在一些实施例中，支撑件250的数量为多个，多个支撑件250间隔地连接于卡盘240的边缘。多个支撑件250同步支撑固定衬底300，使得衬底300在卡盘240上的固定效果稳固。

请再参阅图8，各个支撑件250等间隔地布置于卡盘240的表面上。

请参阅图5，在一个实施例中，衬底清洁装置还包括控制器。控制器分别与第一泵272、第二泵282、第一开关阀273与第二开关阀283电性连接。如此，控制器能实时控制第一泵272与第二泵282的工作功率，以及实时控制第一开关阀273与第二开关阀283各自的开关。如此，能实现将清洗水供应槽270供应的清洗水以预设压力与预设流量喷射到衬底300的背面，以及将反应液供应槽280供应的反应液以预设压力与流量喷射到衬底300的背面。

请参阅图5，控制器还与正面清洗组件260电性连接。正面清洗组件260还分别通过管件与清洗水供应槽270、反应液供应槽280相连通，并在控制器的控制下，能实现将清洗水供应槽270供应的清洗水以预设压力与预设流量喷射到衬底300的正面，以及将反应液供应槽280供应的反应液以预设压力与流量喷射到衬底300的正面。

请参阅图5，衬底清洁装置还包括废液回收槽。废液回收槽通过回收管与废液收集部件290相连通。废液收集部件290通过回收管将收集的废液及时地输送到废液回收槽中。废液回收槽能对回收的废液进行相应处理，并实现循环利用，节省成本，降低资源浪费。具体而言，回收管上设置有第三泵，在第三泵的动力作用下，实现废液收集部件290内部的废液排放到废液回收槽中，避免废液收集部件290内部的废液过多时导致颗粒污染缺陷。可选地，第三泵与控制器电性连接，在控制器的控制下工作，自动化程度较高，人力成本降低。

可选地，控制器还与驱动机构电性连接，在控制器的控制下，控制驱动机构工作，从而实现驱动挡液部241朝向远离于卡盘240中心方向向外伸出或朝向靠近于卡盘240中心方向缩回。

可选地，控制器还与动力机构电性连接，在控制器的控制下，控制动力机构工作，从而实现控制卡盘240按照预设转动速度转动。

在一个具体的实施例中，在工作时，控制器分别控制动力机构、第一泵272、第二泵282、第一开关阀273、第二开关阀283、正面清洗组件260进行同步工作，如此，动力机构驱动卡盘240高速转动，衬底背面清洗组件210对衬底300背面进行清洗，正面清洗组件260同步对衬底300的正面进行清洗，从而能实现对衬底300高效率清洁动作，清洁效果较好。

在本申请的描述中，需要理解的是，若有出现这些术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等，这些术语指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

此外，若有出现这些术语“第一”、“第二”，这些术语仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中，若有出现术语“多个”，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，若有出现术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等，这些术语应做广义理解。例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，若有出现第一特征在第二特征“上”或“下”等类似的描述，其含义可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，若元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。若一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。如若存在，本申请所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对申请专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种衬底背面清洗组件，其特征在于，所述衬底背面清洗组件包括：

外壳，所述外壳设有出口；以及

多个喷嘴，多个所述喷嘴穿设于所述外壳中，多个所述喷嘴的喷出部设于所述出口处；至少一个所述喷嘴设于所述外壳的中部区域并定义为第一喷嘴，其余所述喷嘴位于所述外壳的中部区域以外部位，并定义为第二喷嘴；所有所述第二喷嘴环绕所述第一喷嘴的周向依次间隔设置，每个所述第二喷嘴的喷射方向均与所述第一喷嘴的中心轴线呈锐角设置。

2.根据权利要求1所述的衬底背面清洗组件，其特征在于，各个所述第二喷嘴环绕所述第一喷嘴的中心轴线等间隔设置。

3.根据权利要求1所述的衬底背面清洗组件，其特征在于，将垂直于所述第一喷嘴的中心轴线的平面设为参考面，所述第二喷嘴的喷射方向与所述参考面形成的夹角设为a，a为5°至90°。

4.根据权利要求1所述的衬底背面清洗组件，其特征在于，所述衬底背面清洗组件包括至少一个喷气嘴，所述喷气嘴穿设于所述外壳中，所述喷气嘴的喷气部设于所述出口处。

5.一种衬底清洁装置，其特征在于，所述衬底清洁装置包括如权利要求1至4任一项所述的衬底背面清洗组件，还包括处理腔室、支座、卡盘与支撑件；所述支座设于所述处理腔室内部，所述卡盘连接于所述支座上，所述支撑件连接于所述卡盘上，所述支撑件用于支撑衬底，以使所述衬底与所述卡盘设有间隔，所述衬底背面清洗组件依次贯穿设置于所述支座与所述卡盘中，所述出口对着所述衬底的背面。

6.根据权利要求5所述的衬底清洁装置，其特征在于，所述卡盘的边缘设有朝远离于所述卡盘中心方向可伸缩调节的挡液部，当所述挡液部处于伸出状态时，所述挡液部远离于所述卡盘的一端伸入到废液收集部件中，当所述挡液部处于缩回状态时，所述挡液部远离于所述卡盘的一端移出到所述废液收集部件外部。

7.根据权利要求6所述的衬底清洁装置，其特征在于，所述衬底清洁装置还包括设置于所述卡盘上的驱动机构，所述驱动机构与所述挡液部相连，所述驱动机构用于驱动所述挡液部朝向远离于所述卡盘中心方向向外伸出或朝向靠近于所述卡盘中心方向缩回。

8.根据权利要求5所述的衬底清洁装置，其特征在于，所述支撑件上用于与所述衬底相连的位置到所述卡盘表面的距离能够调整。

9.根据权利要求5所述的衬底清洁装置，其特征在于，所述衬底清洁装置还包括清洗水供应槽与反应液供应槽；所述清洗水供应槽通过第一输送管与各个所述喷嘴连通，所述反应液供应槽通过第二输送管与各个所述喷嘴连通。

10.根据权利要求9所述的衬底清洁装置，其特征在于，所述第一输送管上设有第一泵与第一开关阀，所述第一开关阀用于控制第一输送管的开启与关闭；所述第二输送管上设有第二泵与第二开关阀，所述第二开关阀用于控制第二输送管的开启与关闭；所述衬底清洁装置还包括控制器，所述控制器分别与所述第一泵、所述第二泵、所述第一开关阀与所述第二开关阀电性连接。