JP2015061725A - Process waste gas scrubber - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a process waste gas treatment scrubber capable of treating water-soluble gas using an amine-based substance.SOLUTION: A process waste gas treatment scrubber includes a reaction unit contacting process waste gas and an amine-based substance with a process waste gas treatment flow path to remove water-soluble gas containing a hydrogen halide compound contained in the process waste gas by an acid-base reaction, and includes: a heat source unit installed upstream of the reaction unit for heating the process waste gas by a set heat source; and a cooling unit decomposing and cooling the process waste gas to collect reaction by-products, the heat source unit including: a plasma torch generating plasmas; an injection chamber contacting the inlet process waste gas with the plasmas; and a reaction chamber where the plasmas contact and react with the process waste gas to decompose the process waste gas.

Description

本発明は、工程廃ガス処理用スクラバに係り、より詳しくは、半導体製造工程、液晶ディスプレイ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ：ＬＣＤ）または有機エレクトロルミネッセンス照明（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ：ＯＬＥＤ）のような平板表示装置の製造工程または太陽電池製造工程または発光ダイオード（ＬＥＤ）製造工程などで排出される工程廃ガスを処理する工程廃ガス処理用スクラバに関する。   The present invention relates to a process waste gas treatment scrubber, and more particularly, to a flat panel display device such as a semiconductor manufacturing process, a liquid crystal display (LCD), or an organic electroluminescent illumination (OLED). The present invention relates to a process waste gas processing scrubber that processes process waste gas discharged in a manufacturing process, a solar cell manufacturing process, a light emitting diode (LED) manufacturing process, or the like.

半導体製造工程、ＬＣＤまたはＯＬＥＤのような平板表示装置の製造工程、太陽電池やＬＥＤ製造工程のように特殊ガスを使用する工程では、人体と環境に有害な廃ガス（以下、「工程廃ガス」と称する）が発生する。
工程廃ガスによる環境汚染を防止するために、工程廃ガスは外部に放出される前に浄化処理されなければならない。
そのために、工程廃ガスは工程廃ガス処理用スクラバによって浄化された後、外部に排出される。 Waste gas harmful to human body and environment (hereinafter referred to as “process waste gas”) in the semiconductor manufacturing process, the manufacturing process of flat panel display devices such as LCD or OLED, and the process of using special gas such as solar cell and LED manufacturing process. Occurs).
In order to prevent environmental pollution due to process waste gas, the process waste gas must be purified before being released to the outside.
For this purpose, the process waste gas is purified by a process waste gas processing scrubber and then discharged to the outside.

一般的に、工程廃ガス処理用スクラバは、工程廃ガス内の有害物質を分解するかまたは化学反応を促進するために高温の熱源を提供する反応チャンバと、反応チャンバを通過した廃ガスから固体状のパウダーをフィルタリングするための水処理タワーで構成される。
一方、工程廃ガスは、パーフルオロケミカルズ（ＰＦＣｓ）、クロロフルオロカーボン（ＣＦＣｓ）がプラズマ処理される過程で発生するフッ化水素（ＨＦ）や塩化水素（ＨＣｌ）等のハロゲン化水素化合物を多量に含む。
ハロゲン化水素化合物等の水溶性ガスは主に水中を通過させるか、水を噴射する湿式工程を通じて捕集して処理されるので、大量の廃水が発生し、その廃水を収集して処理しなければならない煩わしさがある。
また、湿式工程を用いる場合、ハロゲン化水素化合物を含む水溶性ガスの除去効率が低いことも問題である（例えば、特許文献１〜３参照）。 Generally, a process waste gas treatment scrubber is composed of a reaction chamber that provides a high temperature heat source for decomposing harmful substances in the process waste gas or promoting chemical reactions, and a solid from the waste gas that has passed through the reaction chamber. It consists of a water treatment tower for filtering the powder.
On the other hand, process waste gas contains a large amount of hydrogen halide compounds such as hydrogen fluoride (HF) and hydrogen chloride (HCl) generated in the process of plasma treatment of perfluorochemicals (PFCs) and chlorofluorocarbons (CFCs). .
Water-soluble gases such as hydrogen halide compounds are mainly collected and processed through a wet process that allows water to pass through or jets of water, so a large amount of wastewater must be generated and collected. There is annoyance that must be done.
Moreover, when using a wet process, it is also a problem that the removal efficiency of the water-soluble gas containing a hydrogen halide compound is low (for example, refer patent documents 1-3).

ＫＲ１０−２００７−００８０００４ ＡKR10-2007-0080004 A 特表２００４−１０５８６４号公報JP-T-2004-105864 特開平０６−０６３３５７号公報Japanese Patent Laid-Open No. 06-063357

本発明は、上記の問題点を解決するためになされたものであって、その目的とするところは、アミン系物質を用いて水溶性ガスを処理することができる工程廃ガス処理用スクラバを提供することにある。
また、他の目的とするところは、触媒反応を用いて工程廃ガスに対する高い除去効率を有する工程廃ガス処理用スクラバの提供とすることにある。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a process waste gas treatment scrubber capable of treating a water-soluble gas using an amine-based material. There is to do.
Another object of the present invention is to provide a process waste gas treatment scrubber having a high removal efficiency for process waste gas using a catalytic reaction.

上記の目的を達成するためになされた本発明の工程廃ガス処理用スクラバは、工程廃ガスの処理流動経路に工程廃ガスとアミン系物質とを接触させて工程廃ガスに含まれるハロゲン化水素化合物を含む水溶性ガスを酸塩基反応によって除去する反応部を有することを特徴とする。   The process waste gas treatment scrubber of the present invention, which has been made to achieve the above-mentioned object, comprises contacting a process waste gas with an amine-based substance in a process flow path of the process waste gas to contain hydrogen halide contained in the process waste gas. It has the reaction part which removes the water-soluble gas containing a compound by an acid-base reaction.

本発明の工程廃ガス処理用スクラバにおいて、工程廃ガスの処理流動経路中の反応部の上流に設置され、工程廃ガスを設定された熱源によって加熱する熱源部と、工程廃ガスを分解及び冷却して反応副産物を捕集する冷却部とを含むことができる。
熱源部は、プラズマを発生させるプラズマトーチ、流入する工程廃ガスをプラズマと接触させる注入チャンバ、及びプラズマと工程廃ガスが接触し反応して工程廃ガスが分解される反応チャンバを含むことができる。
冷却部は、熱源部から流出する工程廃ガスが流入する冷却ハウジングと、流入した工程廃ガスを１次冷却して工程廃ガスの反応副産物を捕集する第１冷却板と、第１冷却板を通過した工程廃ガスを２次冷却して工程廃ガスの反応副産物を捕集する第２冷却板とを含むことができる。 In the process waste gas processing scrubber of the present invention, a heat source part installed upstream of the reaction part in the process flow path of process waste gas and heating the process waste gas by a set heat source, and the process waste gas is decomposed and cooled. And a cooling part for collecting reaction by-products.
The heat source unit may include a plasma torch for generating plasma, an injection chamber for contacting the inflowing process waste gas with the plasma, and a reaction chamber for contacting and reacting the plasma and the process waste gas to decompose the process waste gas. .
The cooling unit includes a cooling housing into which process waste gas flowing out from the heat source unit flows, a first cooling plate that primarily cools the flowed process waste gas and collects reaction byproducts of the process waste gas, and a first cooling plate And a second cooling plate that secondarily cools the process waste gas that has passed through and collects reaction byproducts of the process waste gas.

本発明の工程廃ガス処理用スクラバにおいて、第１冷却板の一端と第２冷却板の一端は、互いに直交するように装着されることができる。
それぞれ複数個の第１、２冷却板が、設定された間隔を有して積層して設けられ、工程廃ガスは、第１冷却板をすべて経た後に第２冷却板を経るように設けられることができる。
冷却部と反応部の間に設置され、冷却部から流出する工程廃ガスを冷却して反応副産物を捕集した後、反応部に伝達するトラップ部をさらに含むことができる。 In the process waste gas treatment scrubber of the present invention, one end of the first cooling plate and one end of the second cooling plate can be mounted so as to be orthogonal to each other.
A plurality of first and second cooling plates are provided in a stacked manner with a set interval, and the process waste gas is provided so as to pass through the second cooling plate after passing through the first cooling plate. Can do.
A trap unit that is installed between the cooling unit and the reaction unit and cools the process waste gas flowing out from the cooling unit to collect reaction by-products and then transmits the trapped reaction product to the reaction unit can be further included.

本発明の工程廃ガス処理用スクラバにおいて、反応部は、内部が中空であり、工程廃ガスが流入する反応流入口及び工程廃ガスが外部に流出する反応流出口を有する反応ハウジング、板状であり、上面から下面に貫通する多数の支持ホールを有し、反応ハウジング内部に垂直方向に離隔して形成される支持板、及び支持板の上面に具備されるアミン系物質層であって、多数の支持ホールを通じて供給される工程廃ガスが通過させる多孔質のアミン系物質層を含むことができる。
アミン系物質は、カルバミド（ウレア）、アミノ酪酸、ジフェニルアミン、（Ｎ，Ｎ−ジアミノ安息香酸）、グルタミン酸、ラウリルアミン（Ｎ−ドデシルアミン）、メチルヘキシルアミン、ニコチンプトレスシンステアリルアミン（オクタデシルアミン）及び牛脂アミンの中から選ばれる少なくとも一つの物質を含むことができる。
工程廃ガスはハロゲン族元素を含み、注入チャンバまたは反応チャンバの内部に工程廃ガスの反応性を増加させる触媒ガスとして、ＮＨ３を供給することができる。 In the process waste gas treatment scrubber of the present invention, the reaction part is hollow and has a reaction housing having a reaction inlet through which the process waste gas flows in and a reaction outlet through which the process waste gas flows out to the outside. A support plate that has a plurality of support holes penetrating from the upper surface to the lower surface and is spaced apart in the vertical direction inside the reaction housing, and an amine-based material layer provided on the upper surface of the support plate, A porous amine-based material layer through which a process waste gas supplied through the support hole passes may be included.
Amine-based materials include carbamide (urea), aminobutyric acid, diphenylamine, (N, N-diaminobenzoic acid), glutamic acid, laurylamine (N-dodecylamine), methylhexylamine, nicotine putrescine stearylamine (octadecylamine) and It may contain at least one substance selected from beef tallow amine.
The process waste gas contains a halogen group element, and NH 3 can be supplied into the injection chamber or the reaction chamber as a catalyst gas that increases the reactivity of the process waste gas.

本発明の工程廃ガス処理用スクラバにおいて、トラップ部の内部に工程廃ガスの反応性を増加させる触媒ガスとして、ＮＨ３を供給することができる。
冷却部と反応部の間に設置され、冷却部から流出する工程廃ガスのパウダー副産物をフィルタリングするフィルター部をさらに含むことができる。
トラップ部及びフィルター部のいずれか一つと冷却部は二つ以上具備することができる。 In the process waste gas processing scrubber of the present invention, NH 3 can be supplied as a catalyst gas for increasing the reactivity of the process waste gas inside the trap portion.
A filter unit installed between the cooling unit and the reaction unit and filtering a powder byproduct of the process waste gas flowing out from the cooling unit may be further included.
Any one of the trap part and the filter part and two or more cooling parts may be provided.

本発明によれば、本発明の工程廃ガス処理用スクラバは、アミン系物質と工程廃ガスの酸塩基反応によって水溶性ガスを処理するので、循環する冷却水以外に別途の水を使用する必要がないため、廃水の排出がなく、別途に水処理施設を設ける必要がないという利点を有する。
本発明による工程廃ガス処理用スクラバは、まず工程廃ガスを冷却しながら工程廃ガスの反応副産物を除去した後、アミン系物質と工程廃ガスを接触させて酸塩基反応を進行させることで、水溶性ガスの処理効率を増加させることができる。
本発明の工程廃ガス処理用スクラバは、電気のみを使用して水を使用しないので、装備の腐食を防止して管理が容易で運営費を節減することができる利点を有する。
本発明の工程廃ガス処理用スクラバは、プラズマを用いて廃ガスを完全に解離させて、解離した廃ガスを触媒ガスと化学的に反応させて粉末状の物質に変換させることで、除去すべき廃ガス成分の排出濃度をさらに低下させることができる。 According to the present invention, the process waste gas treatment scrubber of the present invention treats a water-soluble gas by an acid-base reaction between an amine-based material and the process waste gas, so that it is necessary to use separate water in addition to the circulating cooling water. Therefore, there is no waste water discharge, and there is an advantage that it is not necessary to provide a separate water treatment facility.
The process waste gas treatment scrubber according to the present invention first removes the reaction by-product of the process waste gas while cooling the process waste gas, and then causes the acid-base reaction to proceed by bringing the amine-based material into contact with the process waste gas. The processing efficiency of the water-soluble gas can be increased.
The scrubber for process waste gas treatment according to the present invention uses only electricity and does not use water, and therefore has the advantage that it can be easily managed and can reduce operating costs by preventing corrosion of equipment.
The process waste gas treatment scrubber of the present invention is removed by completely dissociating the waste gas using plasma and chemically reacting the dissociated waste gas with the catalyst gas to convert it into a powdery substance. The exhaust gas component exhaust concentration should be further reduced.

本発明の一実施形態による工程廃ガス処理用スクラバの正面図である。It is a front view of the scrubber for process waste gas processing by one embodiment of the present invention. 図１に示した工程廃ガス処理用スクラバの平面図である。It is a top view of the scrubber for process waste gas processing shown in FIG. 図１のＡ−Ａに沿った水平断面図である。FIG. 2 is a horizontal sectional view taken along line AA in FIG. 1. 図３のＢ−Ｂに沿った垂直断面図である。FIG. 4 is a vertical sectional view taken along the line BB in FIG. 3. 図１の第１冷却部の部分切開斜視図である。FIG. 2 is a partially cut perspective view of a first cooling unit of FIG. 1. 図２のＣ−Ｃに沿った垂直断面図である。FIG. 3 is a vertical sectional view taken along the line CC in FIG. 2. 本発明の他の実施形態による工程廃ガス処理用スクラバを示した図である。It is the figure which showed the scrubber for process waste gas processing by other embodiment of this invention. 本発明のまた他の実施形態による工程廃ガス処理用スクラバを示した図である。It is the figure which showed the scrubber for process waste gas processing by other embodiment of this invention. 図８の工程廃ガス処理用スクラバを他の方向から見た図である。It is the figure which looked at the scrubber for process waste gas processing of Drawing 8 from other directions.

以下、本発明を添付した図を基にして詳しく説明する。
まず、本発明の工程廃ガス処理用スクラバの構造について説明する。
図１は、本発明の一実施形態による工程廃ガス処理用スクラバの正面図、図２はその平面図、図３は図１のＡ−Ａに沿った水平断面図、図４は図３のＢ−Ｂに沿った垂直断面図、図５は第１冷却部の部分切開斜視図、図６は図２のＣ−Ｃに沿った垂直断面図である。
図１ないし図６に示したとおり、本実施形態による工程廃ガス処理用スクラバは、プラズマ処理部１００、冷却部２００、トラップ部３００及び反応部４００を含んで構成される。
工程廃ガス処理用スクラバは、塩素（Ｃｌ）、フッ素（Ｆ）等のハロゲン族元素を含む工程廃ガスを処理する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
First, the structure of the process waste gas treatment scrubber of the present invention will be described.
1 is a front view of a process waste gas treatment scrubber according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view thereof, FIG. 3 is a horizontal sectional view taken along line A-A in FIG. 1, and FIG. FIG. 5 is a partially cutaway perspective view of the first cooling unit, and FIG. 6 is a vertical sectional view along CC of FIG. 2.
As shown in FIGS. 1 to 6, the process waste gas processing scrubber according to the present embodiment includes a plasma processing unit 100, a cooling unit 200, a trap unit 300, and a reaction unit 400.
The process waste gas treatment scrubber treats process waste gas containing halogen group elements such as chlorine (Cl) and fluorine (F).

プラズマ処理部１００は、工程廃ガスを分解及び解離させる。
プラズマ処理部１００で分解された工程廃ガス及び工程で発生した副産物は、冷却部２００で冷却されてして粉末となる。
トラップ部３００は、粉末となった工程廃ガスの分解物及び反応副産物（粉末副産物）を捕集する。
反応部４００は、アミン系物質と工程廃ガスとの酸塩基反応により水溶性ガスを除去する。
そのため、工程廃ガス処理用スクラバは、水を使用しないで工程廃ガスに含まれているハロゲン化水素化合物等の水溶性ガスを捕集して除去する。
ハロゲン化水素化合物（ＨＸ）としては、フッ化水素（Ｘ＝Ｆ）や塩化水素（Ｘ＝Ｃｌ）のような水溶性ガスを例に挙げることができる。 The plasma processing unit 100 decomposes and dissociates process waste gas.
The process waste gas decomposed in the plasma processing unit 100 and the by-product generated in the process are cooled by the cooling unit 200 to become powder.
The trap unit 300 collects a decomposition product of the process waste gas and a reaction by-product (powder by-product) that have become powder.
The reaction unit 400 removes the water-soluble gas by an acid-base reaction between the amine-based material and the process waste gas.
Therefore, the process waste gas treatment scrubber collects and removes a water-soluble gas such as a hydrogen halide compound contained in the process waste gas without using water.
Examples of the hydrogen halide compound (HX) include water-soluble gases such as hydrogen fluoride (X = F) and hydrogen chloride (X = Cl).

プラズマ処理部１００は、プラズマトーチ１１０と注入チャンバ１３０及び反応チャンバ１５０を含んで構成され、さらに連結管１７０を含んで構成することができる。
プラズマ処理部１００は、プラズマトーチ１１０で発生するプラズマ火炎と工程廃ガスを注入チャンバ１３０で接触させ、工程廃ガスに活性化エネルギーを供給し、反応チャンバ１５０で反応により工程廃ガスを分解及び解離させる。
プラズマトーチ１１０は、プラズマ処理部１００の上端に位置して、プラズマを生成する。
プラズマトーチ１１０は、工程廃ガス処理のためのスクラバに使用される一般的なプラズマトーチで構成することができ、多様な構造に形成することができる。
プラズマトーチ１１０で生成されるプラズマは、中心部温度がおおよそ１０，０００℃まで上昇する。
プラズマトーチ１１０は、塩素（Ｃｌ２）を含む工程廃ガスに活性化エネルギーを提供し、工程廃ガスを高温で分解及び解離させる。
プラズマトーチ１１０は、ガストーチ、電気ヒーター及びその等価物の中から選ばれるいずれか一つに代替することができる。 The plasma processing unit 100 includes a plasma torch 110, an injection chamber 130, and a reaction chamber 150, and may further include a connecting pipe 170.
The plasma processing unit 100 brings the plasma flame generated in the plasma torch 110 into contact with the process waste gas in the injection chamber 130, supplies activation energy to the process waste gas, and decomposes and dissociates the process waste gas by reaction in the reaction chamber 150. Let
The plasma torch 110 is located at the upper end of the plasma processing unit 100 and generates plasma.
The plasma torch 110 can be formed of a general plasma torch used in a scrubber for process waste gas treatment, and can be formed in various structures.
The plasma generated by the plasma torch 110 rises to a central temperature of approximately 10,000 ° C.
The plasma torch 110 provides activation energy to the process waste gas containing chlorine (Cl 2 ), and decomposes and dissociates the process waste gas at a high temperature.
The plasma torch 110 can be replaced with any one selected from a gas torch, an electric heater, and the like.

注入チャンバ１３０は、上部と下部が開放された円筒形状であり、プラズマトーチ１１０の下端に連結される。
注入チャンバ１３０は、円周方向に沿って離隔し内部に貫通する複数個の工程廃ガス注入管１３１を含む。
注入チャンバ１３０は、工程廃ガス注入管１３１から工程廃ガスが内部に注入される。
また、注入チャンバ１３０には、上部のプラズマトーチ１１０からプラズマ火炎が放出される。
したがって、注入チャンバ１３０はプラズマ火炎と工程廃ガスが一次接触する空間として提供される。
注入チャンバ１３０は、プラズマ火炎と接触する工程廃ガスがプラズマ火炎の下部に流入するようにする。
工程廃ガス注入管１３１は、工程装備（図示せず）に連結する工程廃ガス配管（図示せず）に連結され、工程廃ガスを注入チャンバ１３０の内部空間に流入するように案内する。 The injection chamber 130 has a cylindrical shape with an upper portion and a lower portion opened, and is connected to the lower end of the plasma torch 110.
The injection chamber 130 includes a plurality of process waste gas injection pipes 131 that are spaced apart from each other along the circumferential direction and penetrate the interior.
Process waste gas is injected into the injection chamber 130 from a process waste gas injection pipe 131.
A plasma flame is emitted from the upper plasma torch 110 into the injection chamber 130.
Therefore, the injection chamber 130 is provided as a space where the plasma flame and the process waste gas are in primary contact.
The injection chamber 130 allows process waste gas that contacts the plasma flame to flow into the lower portion of the plasma flame.
The process waste gas injection pipe 131 is connected to a process waste gas pipe (not shown) connected to a process equipment (not shown), and guides the process waste gas to flow into the internal space of the injection chamber 130.

注入チャンバ１３０には触媒ガスが注入する多数の触媒ガス注入管１３３をさらに連結することもできる。
触媒ガスは、アンモニア（ＮＨ３）を含むことができる。
一般的に触媒は、化学反応を誘導するよう活性エネルギーを増加させる機能を有するが、本実施形態において、触媒ガスはハロゲン化水素化合物（ＨＸ：Ｘ＝Ｆ、Ｃｌ）等の水溶性ガスを含む工程廃ガスに作用し、化学的な活性エネルギーを増加させる。したがって、注入チャンバ１３０内でプラズマ火炎による工程廃ガスの分解及び解離の反応を促進させる。
反応チャンバ１５０は、上部と下部が開放された略円筒の形態であり、注入チャンバ１３０の下流に連結される。
反応チャンバ１５０は、工程廃ガスがプラズマ火炎と接触しながら流入して分解する空間を提供する。
工程廃ガスは、プラズマ火炎の熱エネルギーによって分解及び解離される。
反応チャンバ１５０は、工程廃ガスに活性化エネルギーを供給して、冷却部２００で粉体化する反応副産物の生成効率を増加させる。
一方、反応チャンバ１５０には注入チャンバ１３０と同様に、触媒ガスが注入する多数の第３触媒ガス注入管１５３をさらに連結することもできる。
触媒ガスは、アンモニア（ＮＨ３）を含むことができる。
それによって、反応チャンバ１５０内でプラズマ火炎による工程廃ガスの分解及び解離の程度を増加させることができる。 A number of catalyst gas injection pipes 133 into which the catalyst gas is injected can be further connected to the injection chamber 130.
The catalyst gas can include ammonia (NH 3 ).
In general, the catalyst has a function of increasing the active energy so as to induce a chemical reaction. In this embodiment, the catalyst gas includes a water-soluble gas such as a hydrogen halide compound (HX: X = F, Cl). Acts on process waste gas to increase chemical activation energy. Therefore, the decomposition and dissociation reaction of the process waste gas by the plasma flame is promoted in the injection chamber 130.
The reaction chamber 150 has a substantially cylindrical shape with an upper portion and a lower portion opened, and is connected downstream of the injection chamber 130.
The reaction chamber 150 provides a space for the process waste gas to flow in and decompose while in contact with the plasma flame.
Process waste gas is decomposed and dissociated by the thermal energy of the plasma flame.
The reaction chamber 150 supplies activation energy to the process waste gas to increase the production efficiency of reaction by-products that are pulverized by the cooling unit 200.
On the other hand, similarly to the injection chamber 130, a number of third catalyst gas injection pipes 153 into which the catalyst gas is injected can be further connected to the reaction chamber 150.
The catalyst gas can include ammonia (NH 3 ).
Thereby, the degree of decomposition and dissociation of the process waste gas by the plasma flame in the reaction chamber 150 can be increased.

連結管１７０は、上部と下部が開放された略円筒の形態であり、反応チャンバ１５０の下流に連結される。
連結管１７０は、必要に応じて複数個を適切な距離を置いて接続することができる。
連結管１７０は、反応チャンバ１５０を冷却部２００とを連結して、反応チャンバ１５０で処理された工程廃ガスが冷却部２００に流入する通路として提供される。
連結管１７０は、反応チャンバ１５０が冷却部２００と直結する構成では、省略することができる。
連結管１７０は、外周面に沿って冷却水通路（図示せず）を形成することができ、冷却水によって処理された工程廃ガスを冷却しながら冷却部２００に送出することができる。
この場合、連結管１７０は工程廃ガスの温度を急激に冷却して反応副産物の捕集効率を高める効果を有する。 The connection pipe 170 has a substantially cylindrical shape with an upper part and a lower part opened, and is connected downstream of the reaction chamber 150.
A plurality of connecting pipes 170 can be connected at an appropriate distance as required.
The connection pipe 170 connects the reaction chamber 150 to the cooling unit 200 and is provided as a passage through which process waste gas processed in the reaction chamber 150 flows into the cooling unit 200.
The connection pipe 170 can be omitted in a configuration in which the reaction chamber 150 is directly connected to the cooling unit 200.
The connection pipe 170 can form a cooling water passage (not shown) along the outer peripheral surface, and can send the process waste gas treated with the cooling water to the cooling unit 200 while cooling it.
In this case, the connecting pipe 170 has the effect of rapidly cooling the temperature of the process waste gas and increasing the collection efficiency of reaction byproducts.

冷却部２００は、冷却ハウジング２１０と第１冷却板２３０及び第２冷却板２５０を含んで構成される。
冷却部２００は、プラズマ処理部１００で分解及び解離されて冷却ハウジング２１０の内部に流入する工程廃ガスを、第１冷却板２３０で一次冷却して副産物の一部を捕集し、第２冷却板２５０で二次冷却して反応副産物を粉末形態で捕集する。
冷却ハウジング２１０は、ハウジング本体２１１と廃ガス流入口２１３と廃ガス流出口２１５と第１隔壁２１７及び第２隔壁２１９を含んで構成される。 The cooling unit 200 includes a cooling housing 210, a first cooling plate 230, and a second cooling plate 250.
The cooling unit 200 primarily cools the process waste gas, which is decomposed and dissociated by the plasma processing unit 100 and flows into the cooling housing 210, by the first cooling plate 230, and collects a part of the by-products, and then performs the second cooling. Secondary cooling is performed on the plate 250 to collect the reaction by-products in powder form.
The cooling housing 210 includes a housing body 211, a waste gas inlet 213, a waste gas outlet 215, a first partition 217, and a second partition 219.

ハウジング本体２１１は、内部が中空の略ボックス形状に形成され、四角ボックス形状に形成することができる。
例えば、ハウジング本体２１１は、一側壁２１１ａと他の側壁２１１ｂと前側壁２１１ｃと後側壁２１１ｄと本体上板２１１ｅ及び本体下板２１１ｆを含んで形成することができる。
ハウジング本体２１１は、第１冷却板２３０と第２冷却板２５０を内部に収容して工程廃ガスが流れる空間を提供する。
廃ガス流入口２１３はハウジング本体２１１の本体上板２１１ｅの一側に形成されて、反応チャンバ１５０または連結管１７０が連結される。廃ガス流入口２１３は、反応チャンバ１５０で処理された工程廃ガスが冷却ハウジング２１０の内部に流入する経路を提供する。
廃ガス流出口２１５は、ハウジング本体２１１の本体上板２１１ｅの他側に形成されて、トラップ部３００が連結される。廃ガス流出口２１５は、反応副産物が除去された工程廃ガスがトラップ部３００に流出する経路を提供する。 The housing body 211 is formed in a substantially box shape with a hollow inside, and can be formed in a square box shape.
For example, the housing main body 211 can be formed including one side wall 211a, another side wall 211b, a front side wall 211c, a rear side wall 211d, a main body upper plate 211e, and a main body lower plate 211f.
The housing main body 211 accommodates the first cooling plate 230 and the second cooling plate 250 and provides a space through which process waste gas flows.
The waste gas inlet 213 is formed on one side of the main body upper plate 211e of the housing main body 211, and the reaction chamber 150 or the connection pipe 170 is connected thereto. The waste gas inlet 213 provides a path through which process waste gas processed in the reaction chamber 150 flows into the cooling housing 210.
The waste gas outlet 215 is formed on the other side of the main body upper plate 211e of the housing main body 211, and the trap unit 300 is connected thereto. The waste gas outlet 215 provides a path through which the process waste gas from which reaction byproducts are removed flows out to the trap unit 300.

第１隔壁２１７は板状であり、ハウジング本体２１１の一側壁２１１ａより狭い幅（ｗ）を有して形成される。
第１隔壁２１７は廃ガス流入口２１３を中心に反対側でハウジング本体２１１の一側壁２１１ａと対向する位置に形成される。すなわち、第１隔壁２１７とハウジング本体２１１の一側壁２１１ａの間に廃ガス流入口２１３が位置する。
また、第１隔壁２１７は一側端がハウジング本体２１１の前側壁２１１ｃに接触して、他の側端がハウジング本体２１１の後側壁２１１ｄから離隔して形成される。
したがって、第１隔壁２１７はハウジング本体２１１の一側の空間を二つに分離する。また、第１隔壁２１７は、ハウジング本体２１１の後側壁２１１ｄとの間に工程廃ガスが流れる第１隔壁ホール２１７ａを形成する。
第１隔壁ホール２１７ａは、廃ガス流入口２１３から流入した工程廃ガスが第１冷却板２３０に流れる通路として提供される。 The first partition 217 has a plate shape and is formed to have a width (w) narrower than the one side wall 211 a of the housing body 211.
The first partition 217 is formed at a position facing the one side wall 211 a of the housing body 211 on the opposite side with respect to the waste gas inlet 213. That is, the waste gas inlet 213 is located between the first partition wall 217 and the one side wall 211 a of the housing body 211.
The first partition 217 is formed such that one side end contacts the front side wall 211 c of the housing body 211 and the other side end is separated from the rear side wall 211 d of the housing body 211.
Therefore, the first partition 217 separates the space on one side of the housing body 211 into two. The first partition 217 forms a first partition hole 217a through which process waste gas flows between the rear wall 211d of the housing body 211.
The first partition hole 217 a is provided as a passage through which the process waste gas flowing in from the waste gas inlet 213 flows to the first cooling plate 230.

第２隔壁２１９は板状であり、ハウジング本体２１１の一側壁２１１ａと同一な幅を有して形成される。
第２隔壁２１９は、ハウジング本体２１１の他の側壁２１１ｂと第１隔壁２１７の間に位置して、廃ガス流出口２１５を中心に反対側でハウジング本体２１１の他の側壁２１１ｂと対向する位置に形成される。すなわち、第２隔壁２１９とハウジング本体２１１の他の側壁２１１ｂの間に廃ガス流出口２１５が位置する。
第２隔壁２１９は、一側端がハウジング本体２１１の前側壁２１１ｃに接触し、他の側端がハウジング本体２１１の後側壁２１１ｄに接触するように形成される。
また、第２隔壁２１９は、前側壁２１１ｃに接触する前側端の下部角に形成される第２隔壁ホール２１９ａを含んで形成される。
第２隔壁ホール２１９ａは、第１冷却板２３０を通過した工程廃ガスが第２冷却板２５０に流れる通路として提供される。 The second partition 219 has a plate shape and is formed to have the same width as the one side wall 211 a of the housing body 211.
The second partition wall 219 is located between the other side wall 211b of the housing body 211 and the first partition wall 217, and is located at a position opposite to the other side wall 211b of the housing body 211 on the opposite side with the waste gas outlet 215 as the center. It is formed. That is, the waste gas outlet 215 is located between the second partition 219 and the other side wall 211 b of the housing body 211.
The second partition wall 219 is formed such that one side end contacts the front side wall 211 c of the housing main body 211 and the other side end contacts the rear side wall 211 d of the housing main body 211.
In addition, the second partition 219 is formed including a second partition hole 219a formed at the lower corner of the front end that contacts the front side wall 211c.
The second partition hole 219 a is provided as a passage through which the process waste gas that has passed through the first cooling plate 230 flows to the second cooling plate 250.

ここで、第１隔壁２１７と第２隔壁２１９の配置は、第１隔壁ホール２１７ａと第２隔壁ホール２１９ａが互いに行き違うように配置される限り多様に変形することができる。
また、第２隔壁ホール２１９ａが、第１隔壁ホール２１７ａと同じ原理で第２隔壁２１９と前側壁２１１ｃの間の間隔によって形成されることが排除されるものではない。
第１冷却板２３０は、プラズマ処理部１００で分解されて流れる工程廃ガスを冷却して反応副産物を粉末形態で捕集する。
第１冷却板２３０は内部が中空である六面体板状であり、一側面から他側面に貫通する複数個のガス貫通管２３１を具備して形成される。 Here, the arrangement of the first barrier ribs 217 and the second barrier ribs 219 can be variously modified as long as the first barrier rib holes 217a and the second barrier rib holes 219a are arranged to cross each other.
In addition, it is not excluded that the second partition hole 219a is formed by the interval between the second partition 219 and the front side wall 211c on the same principle as the first partition hole 217a.
The first cooling plate 230 cools the process waste gas that is decomposed and flows in the plasma processing unit 100 and collects reaction byproducts in powder form.
The first cooling plate 230 has a hexahedral plate shape with a hollow inside, and includes a plurality of gas through pipes 231 penetrating from one side surface to the other side surface.

第１冷却板２３０は、上板と下板及び側板を結合して形成することができる。
また、第１冷却板２３０は、上部に第１冷却水流入口２３３と第１冷却水流出口２３５を含んで形成される。
第１冷却板２３０は、第１隔壁２１７と第２隔壁２１９の間の幅と高さに対応する面積を有し、第１隔壁２１７及び第２隔壁２１９と直交するように位置する。
また、第１冷却板２３０は、ハウジング本体２１１の前側壁２１１ｃと後側壁２１１ｄの間に複数個が一直線に離隔して配置され、すべて前側壁２１１ｃと平行に配置される。
ガス貫通管２３１は、中心軸が前側壁２１１ｃおよび後側壁２１１ｄを向くように具備され、中心軸が水平になるように具備することができる。
ガス貫通管２３１は、接する他の第１冷却板２３０のガス貫通管２３１と互いに貫通しないように形成される。
すなわち接する二つの第１冷却板２３０に形成されるガス貫通管２３１は、前側壁２１１ｃと後側壁２１１ｄを向く方向に行き違うように配置される。
これによって工程廃ガスの移動経路が増えるので、冷却効率を高めることができる。
さらに、工程廃ガスは第１冷却板２３０の間をジグザグに流れながらガス貫通管２３１を通過するので、第１冷却板２３０と接触面積が増加する。 The first cooling plate 230 may be formed by combining an upper plate, a lower plate, and a side plate.
In addition, the first cooling plate 230 is formed including a first cooling water inlet 233 and a first cooling water outlet 235 in the upper part.
The first cooling plate 230 has an area corresponding to the width and height between the first partition 217 and the second partition 219, and is positioned to be orthogonal to the first partition 217 and the second partition 219.
The plurality of first cooling plates 230 are arranged in a straight line between the front side wall 211c and the rear side wall 211d of the housing body 211, and are all arranged in parallel with the front side wall 211c.
The gas through pipe 231 may be provided such that the central axis faces the front side wall 211c and the rear side wall 211d, and the central axis is horizontal.
The gas through pipe 231 is formed so as not to penetrate the gas through pipe 231 of the other first cooling plate 230 in contact therewith.
That is, the gas penetration pipes 231 formed on the two first cooling plates 230 in contact with each other are arranged so as to cross in the direction facing the front side wall 211c and the rear side wall 211d.
As a result, the number of process waste gas movement paths increases, so that the cooling efficiency can be increased.
Furthermore, since the process waste gas passes through the gas through pipe 231 while flowing in a zigzag manner between the first cooling plates 230, the contact area with the first cooling plate 230 increases.

一方、第１冷却板２３０は、内部を流れる冷却水によって冷却され、ガス貫通管２３１を通過して流れる工程廃ガスを冷却し、粉末状となった副生成物が捕集されるようにする。
冷却水は、第１冷却水流入口２３３に流入して第１冷却板２３０の内部を流れた後、第１冷却水流出口２３５に流出する。
第１冷却水流入口２３３と第１冷却水流出口２３５は、それぞれ第１冷却板２３０の上板、下板または側板のいずれか一つの位置に形成することができる。
第２冷却板２５０は、第１冷却板２３０を経て流入する工程廃ガスが、冷却管２５５を流れる冷却水によって冷却されるメッシュ網２５１を経て冷却され、析出した反応副産物が捕集されるようにする。
第２冷却板２５０は、第２隔壁２１９と冷却ハウジング２１０の他の側壁２１１ｂの間で水平を成すように位置して、複数個が上下方向に離隔して配置される。 On the other hand, the first cooling plate 230 is cooled by the cooling water flowing inside, and cools the process waste gas flowing through the gas through pipe 231 so that the powdery by-product is collected. .
The cooling water flows into the first cooling water inlet 233 and flows through the first cooling plate 230, and then flows out to the first cooling water outlet 235.
The first cooling water inflow port 233 and the first cooling water outflow port 235 may be formed at any one position of the upper plate, the lower plate, or the side plate of the first cooling plate 230, respectively.
In the second cooling plate 250, the process waste gas flowing in through the first cooling plate 230 is cooled through the mesh net 251 cooled by the cooling water flowing through the cooling pipe 255, and the precipitated reaction by-products are collected. To.
A plurality of the second cooling plates 250 are positioned so as to be horizontal between the second partition 219 and the other side wall 211b of the cooling housing 210, and a plurality of the second cooling plates 250 are spaced apart in the vertical direction.

また、第２冷却板２５０は、他の側壁２１１ｂと第２隔壁２１９の間の距離より狭い幅とハウジング本体２１１の前側壁２１１ｃと後側壁２１１ｄの間の距離に対応する長さを有するように形成される。ここで、第２冷却板２５０の大きさは、メッシュ網２５１の大きさを意味する。
これによって、第２冷却板２５０は他の側壁２１１ｂまたは第２隔壁２１９との間に間隔を形成するようになる。この間隔は、工程廃ガスが流れる第２冷却ホール２５０ａとして提供される。
したがって、冷却効率の向上のために、第２冷却ホール２５０ａはジグザグ形態に配置されることが好ましい。そのために、複数個の第２冷却板２５０は冷却ハウジング２１０の他の側壁２１１ｂと第２隔壁２１９に相互に接するように形成される。
第２冷却板２５０は、メッシュ網２５１と支持バー２５３と冷却管２５５を含んで形成される。
工程廃ガスは、一部がメッシュ網２５１の間を通過しながら上部に流れて、残りの一部は第２冷却ホール２５０ａを通過しながらジグザグに流れるようになる。
したがって、第２冷却ホール２５０ａは、工程廃ガスがメッシュ網２５１と接触する時間を増加させて、メッシュ網２５１に多くの反応副産物が積もった場合にも工程廃ガスの流れを円滑にする。 In addition, the second cooling plate 250 has a width corresponding to a width narrower than the distance between the other side wall 211b and the second partition 219 and a distance between the front side wall 211c and the rear side wall 211d of the housing body 211. It is formed. Here, the size of the second cooling plate 250 means the size of the mesh net 251.
Accordingly, the second cooling plate 250 forms a space between the other side wall 211b or the second partition 219. This interval is provided as a second cooling hole 250a through which process waste gas flows.
Therefore, the second cooling holes 250a are preferably arranged in a zigzag shape in order to improve cooling efficiency. Therefore, the plurality of second cooling plates 250 are formed in contact with the other side wall 211b of the cooling housing 210 and the second partition 219.
The second cooling plate 250 includes a mesh net 251, a support bar 253, and a cooling pipe 255.
Part of the process waste gas flows upward while passing between the mesh nets 251, and the remaining part of the process waste gas flows zigzag while passing through the second cooling holes 250 a.
Therefore, the second cooling hole 250a increases the time during which the process waste gas contacts the mesh network 251 and smoothes the flow of the process waste gas even when a large amount of reaction byproducts accumulates on the mesh network 251.

ここで、メッシュ網２５１はワイヤーが格子形状に結合されて上下に貫通する複数個のホールが形成される一般的なメッシュ網または平板形状で、上下に貫通する複数個のホールが形成される打孔板で成り立つことができる。
メッシュ網２５１は、上部メッシュ網２５１ａと下部メッシュ網２５１ｂを含み、垂直方向に互いに離隔して形成され得る。
これとは異なり、メッシュ網２５１は上部メッシュ網２５１ａまたは下部メッシュ網２５１ｂだけで形成することができることはもちろんである。
工程廃ガスは、メッシュ網２５１の多数のホールを上下に貫通しながら冷却される。 Here, the mesh net 251 is a general mesh net or flat plate shape in which a plurality of holes penetrating vertically are formed by connecting wires in a lattice shape, and a mesh net 251 is formed in which a plurality of holes penetrating vertically are formed. It can consist of a perforated plate.
The mesh net 251 includes an upper mesh net 251a and a lower mesh net 251b, and may be formed to be separated from each other in the vertical direction.
Unlike this, the mesh network 251 can be formed of only the upper mesh network 251a or the lower mesh network 251b.
The process waste gas is cooled while penetrating a number of holes in the mesh net 251 up and down.

支持バー２５３はバー形状に形成され、上部メッシュ網２５１ａと下部メッシュ網２５１ｂの両側をそれぞれ支持する。支持バー２５３は、第２隔壁２１９と他の側壁２１１ｂに両端が結合されてメッシュ網２５１を支持する。
冷却管２５５は、内部が中空であるパイプで形成される。冷却管２５５は、多数回折り曲げられた形状（ジグザグ形状）で具備されて、両側端は冷却ハウジング２１０の他の側壁２１１ｂの外部に延長するように形成される。冷却管２５５は、上部メッシュ網２５１ａと下部メッシュ網２５１ｂの間に位置する。 The support bar 253 is formed in a bar shape and supports both sides of the upper mesh net 251a and the lower mesh net 251b. The support bar 253 supports the mesh net 251 by being coupled to the second partition 219 and the other side wall 211b at both ends.
The cooling pipe 255 is formed of a pipe having a hollow inside. The cooling pipe 255 is formed in a bent shape (zigzag shape), and both ends are formed to extend to the outside of the other side wall 211 b of the cooling housing 210. The cooling pipe 255 is located between the upper mesh net 251a and the lower mesh net 251b.

メッシュ網２５１が、上部メッシュ網２５１ａまたは下部メッシュ網２５１ｂだけで形成される場合、メッシュ網２５１の上面または下面に結合して具備される。
冷却管２５５は、外部の冷却水供給管（図示せず）と連結されて、冷却水の供給を受けるように具備される。
これによって、冷却管２５５に接触する上部メッシュ網２５１ａと下部メッシュ網２５１ｂが冷却される。
工程廃ガスは、冷却管２５５とメッシュ網２５１を経ながら冷却されるので、冷却水と直接的な接触なしに効率的な反応副産物の捕集ができる。 When the mesh net 251 is formed of only the upper mesh net 251a or the lower mesh net 251b, the mesh net 251 is connected to the upper surface or the lower surface of the mesh net 251.
The cooling pipe 255 is connected to an external cooling water supply pipe (not shown) and is provided to receive the cooling water.
Accordingly, the upper mesh net 251a and the lower mesh net 251b that are in contact with the cooling pipe 255 are cooled.
Since the process waste gas is cooled through the cooling pipe 255 and the mesh net 251, the reaction by-product can be efficiently collected without direct contact with the cooling water.

トラップ部３００は、トラップハウジング３１０及びトラップ板３３０を含んで形成される。
トラップ部３００は、冷却部２００を通過して上昇する工程廃ガスに含まれている反応副産物を冷却して追加で捕集する。
トラップ部３００は、第２冷却板２５０を通過する工程廃ガスに反応副産物の量が少ない場合には、省略することができる。 The trap part 300 includes a trap housing 310 and a trap plate 330.
The trap unit 300 cools and additionally collects reaction byproducts contained in the process waste gas that passes through the cooling unit 200 and rises.
The trap unit 300 can be omitted when the amount of reaction by-products in the process waste gas passing through the second cooling plate 250 is small.

トラップハウジング３１０は、内部が中空である筒形状に形成され、円筒形状に形成され得る。
トラップハウジング３１０は、トラップ流入口３１１とトラップ流出口３１３を具備して形成される。
トラップハウジング３１０のトラップ流入口３１１は、トラップハウジング３１０の下部に形成され、ハウジング本体２１１の廃ガス流出口２１５と結合される。
トラップ流入口３１１は、廃ガス流出口２１５から流出する工程廃ガスがトラップハウジング３１０の内部に流入するようにする。
トラップ流出口３１３は、トラップハウジング３１０の上部に形成され、反応部４００と結合される。
トラップハウジング３１０の内部を通過した工程廃ガスは、トラップ流出口３１３を通じて流出して反応部４００に流入する。 The trap housing 310 is formed in a cylindrical shape having a hollow inside, and may be formed in a cylindrical shape.
The trap housing 310 is formed to include a trap inlet 311 and a trap outlet 313.
A trap inlet 311 of the trap housing 310 is formed at a lower portion of the trap housing 310 and is connected to a waste gas outlet 215 of the housing body 211.
The trap inlet 311 allows process waste gas flowing out from the waste gas outlet 215 to flow into the trap housing 310.
The trap outlet 313 is formed at the top of the trap housing 310 and is coupled to the reaction unit 400.
The process waste gas that has passed through the inside of the trap housing 310 flows out through the trap outlet 313 and flows into the reaction unit 400.

トラップ板３３０は、第１トラップ板３３１と第２トラップ板３３３を含んで形成される。
トラップ板３３０は、第１トラップ板３３１と第２トラップ板３３３がトラップハウジング３１０の内部で垂直方向に互いに離隔するように相互に積層して形成される。
第１トラップ板３３１と第２トラップ板３３３は、別途のトラップ支持棒３３５によって支持されて離隔される。
トラップ板３３０は、下部から上部に流れながら接触する工程廃ガスに含まれている反応副産物を捕集する。
第１トラップ板３３１は、トラップハウジング３１０の内部水平断面に対応する形状に形成され、外周面がトラップハウジングの内周面と隣接するか接触するように形成される。
また、第１トラップ板３３１は、中央部分に形成される第１トラップホール３３１ａを含んで形成される。
第１トラップホール３３１ａは、トラップ流入口３１１を通過して流入する工程廃ガスが上部に流れる通路として提供される。 The trap plate 330 is formed including a first trap plate 331 and a second trap plate 333.
The trap plate 330 is formed by stacking the first trap plate 331 and the second trap plate 333 so as to be separated from each other in the vertical direction inside the trap housing 310.
The first trap plate 331 and the second trap plate 333 are supported and separated by a separate trap support bar 335.
The trap plate 330 collects reaction by-products contained in the process waste gas that contacts while flowing from the lower part to the upper part.
The first trap plate 331 is formed in a shape corresponding to the internal horizontal cross section of the trap housing 310 and is formed so that the outer peripheral surface is adjacent to or in contact with the inner peripheral surface of the trap housing.
The first trap plate 331 is formed including a first trap hole 331a formed in the central portion.
The first trap hole 331a is provided as a passage through which process waste gas flowing through the trap inlet 311 flows.

工程廃ガスは、トラップ流入口３１１を通じて流入した後に第１トラップ板３３１の下面と接触した後に、または直接第１トラップホール３３１ａを通過して上昇する。
第２トラップ板３３３は、トラップハウジング３１０の内部水平断面に対応する形状に形成され、第１トラップ板３３１より小さな直径を有するように形成される。
したがって、第２トラップ板３３３は、外周面がトラップハウジング３１０の内周面と離隔し、トラップハウジング３１０の内周面との間に第２トラップホール３３３ａを形成する。
第２トラップホール３３３ａは、第１トラップホール３３１ａを通過して流入する工程廃ガスが上部に流れる通路として提供される。
工程廃ガスは、第１トラップホール３３１ａを通じて上昇し第２トラップ板３３３の下面と接触した後に、第２トラップホール３３３ａを通過して上昇する。
第１トラップ板３３１と第２トラップ板３３３が相互に積層して形成されるので、工程廃ガスは第１トラップホール３３１ａと第２トラップホール３３３ａを順次に通過しながらジグザグに第１トラップ板３３１と第２トラップ板３３３の間を流れる。 The process waste gas rises after flowing through the trap inlet 311 and then contacting the lower surface of the first trap plate 331 or directly through the first trap hole 331a.
The second trap plate 333 is formed in a shape corresponding to the internal horizontal cross section of the trap housing 310 and has a smaller diameter than the first trap plate 331.
Accordingly, the second trap plate 333 has an outer peripheral surface that is separated from the inner peripheral surface of the trap housing 310, and a second trap hole 333 a is formed between the second trap plate 333 and the inner peripheral surface of the trap housing 310.
The second trap hole 333a is provided as a passage through which process waste gas flowing through the first trap hole 331a flows.
The process waste gas rises through the first trap hole 331a and comes into contact with the lower surface of the second trap plate 333, and then rises through the second trap hole 333a.
Since the first trap plate 331 and the second trap plate 333 are formed by laminating each other, the process trapped gas passes through the first trap hole 331a and the second trap hole 333a in order and zigzags the first trap plate 331. And between the second trap plate 333.

一方、本実施形態において、トラップ部３００には上述した注入チャンバ１３０、反応チャンバ１５０のように、触媒ガスが注入されるように多数の第３触媒ガス注入管１５３をさらに連結することもできる。
触媒ガスは、アンモニア（ＮＨ３）を含むことができる。
これによって、トラップ部３００内で未反応工程廃ガスの処理効率を向上させることができる。 On the other hand, in the present embodiment, a large number of third catalyst gas injection pipes 153 may be further connected to the trap unit 300 such that the catalyst gas is injected as in the injection chamber 130 and the reaction chamber 150 described above.
The catalyst gas can include ammonia (NH 3 ).
Thereby, the processing efficiency of unreacted process waste gas can be improved in the trap unit 300.

反応部４００は、反応ハウジング４１０と支持板４３０及びアミン系物質層４５０を含んで形成される。
反応部４００は、冷却部２００またはトラップ部３００の上部に位置して、冷却部２００またはトラップ部３００を通り過ぎた工程廃ガスが流入する。
反応部４００は、工程廃ガス含まれている水溶性ガスを酸塩基反応によってアミン系物質層４５０に固定して除去する。 The reaction unit 400 includes a reaction housing 410, a support plate 430, and an amine material layer 450.
The reaction unit 400 is positioned above the cooling unit 200 or the trap unit 300, and the process waste gas that has passed through the cooling unit 200 or the trap unit 300 flows into the reaction unit 400.
The reaction unit 400 fixes and removes the water-soluble gas contained in the process waste gas on the amine-based material layer 450 by an acid-base reaction.

反応ハウジング４１０は内部が中空である筒形状に形成され、円筒形状に形成する。
反応ハウジング４１０は、反応流入口４１１と反応流出口４１３を具備する。
反応ハウジング４１０の反応流入口４１１は、反応ハウジング４１０の下部に形成され、トラップハウジング３１０のトラップ流出口３１３と連通して、トラップ流出口３１３から流出する工程廃ガスが反応ハウジング４１０の内部に流入する。
反応流出口４１３は、反応ハウジング４１０の内部を通り過ぎた工程廃ガスを外部に排出する通路として提供される。
反応流出口４１３は、反応ハウジング４１０の一側に具備され、アミン系物質層４５０の最上層の上側ならどこに設置してもよい。 The reaction housing 410 is formed in a cylindrical shape having a hollow inside, and is formed in a cylindrical shape.
The reaction housing 410 includes a reaction inlet 411 and a reaction outlet 413.
A reaction inlet 411 of the reaction housing 410 is formed at a lower portion of the reaction housing 410, communicates with the trap outlet 313 of the trap housing 310, and process waste gas flowing out from the trap outlet 313 flows into the reaction housing 410. To do.
The reaction outlet 413 is provided as a passage for discharging process waste gas that has passed through the inside of the reaction housing 410 to the outside.
The reaction outlet 413 is provided on one side of the reaction housing 410 and may be installed anywhere above the uppermost layer of the amine-based material layer 450.

一方、反応ハウジング４１０は、上部を開口して設置することができ、この場合上部開口を密封する反応上部板４１５をさらに含んで構成される。
ここで、反応流出口４１３が反応上部板４１５に形成され得る。
反応上部板４１５は、反応ハウジング４１０の上部開口を開閉するように具備される。
反応上部板４１５は、反応ハウジング４１０内に位置するアミン系物質層４５０の交換が必要な場合、反応ハウジング４１０から一時的に分離して反応ハウジング４１０の上部を開放する。 Meanwhile, the reaction housing 410 can be installed with an upper opening, and in this case, the reaction housing 410 further includes a reaction upper plate 415 that seals the upper opening.
Here, a reaction outlet 413 may be formed in the reaction upper plate 415.
The reaction upper plate 415 is provided to open and close the upper opening of the reaction housing 410.
The reaction upper plate 415 is temporarily separated from the reaction housing 410 to open the upper portion of the reaction housing 410 when the amine-based material layer 450 located in the reaction housing 410 needs to be replaced.

支持板４３０は板状に形成され、上面から下面に貫通する多数の支持ホール４３１を具備して形成される。
支持板４３０は、外周面に沿って形成される垂直板４３３をさらに具備して形成され得る。
支持板４３０は複数個形成され、垂直方向に互いに離隔して位置する。
支持板４３０は上部にアミン系物質層４５０が配置され、支持ホール４３１を通過して上昇する工程廃ガスがアミン系物質層４５０と接触させる。
垂直板４３３は支持板４３０の外周から下方に延長して形成され、アミン系物質層４５０の外周によって支持される。 The support plate 430 is formed in a plate shape and includes a plurality of support holes 431 penetrating from the upper surface to the lower surface.
The support plate 430 may further include a vertical plate 433 formed along the outer peripheral surface.
A plurality of support plates 430 are formed and are spaced apart from each other in the vertical direction.
The support plate 430 has an amine-based material layer 450 disposed thereon, and the process waste gas rising through the support hole 431 is brought into contact with the amine-based material layer 450.
The vertical plate 433 extends downward from the outer periphery of the support plate 430 and is supported by the outer periphery of the amine-based material layer 450.

アミン系物質層４５０はアミン系物質の粉末または固まりが積層して、内部に多数の氣孔を含んで形成される。
アミン系物質層は、アミン系物質自体で形成されるか、アミン系物質及びそれを一定形態を維持するように支持する他の物質が混合して形成され得る。 The amine-based material layer 450 is formed by laminating a powder or a mass of an amine-based material and including a large number of pores therein.
The amine-based material layer may be formed of the amine-based material itself or a mixture of the amine-based material and another material that supports the material to maintain a certain form.

アミン系物質は、カルバミド（ウレア）、アミノ酪酸、ジフェニルアミン、３，４−又は３，５−ジアミノ安息香酸、グルタミン酸、ラウリルアミン（Ｎ−ドデシルアミン）、メチルヘキシルアミン、ニコチンプトレスシンステアリルアミン（オクタデシルアミン）及び牛脂アミンの中から選ばれる少なくとも一つの物質を含むことができる。
アミン系物質層４５０は、下部に流入して上部に流れる工程廃ガスに含まれている水溶性ガスを捕集する。 Amine substances include carbamide (urea), aminobutyric acid, diphenylamine, 3,4- or 3,5-diaminobenzoic acid, glutamic acid, laurylamine (N-dodecylamine), methylhexylamine, nicotine putrescine stearylamine (octadecyl). Amine) and at least one substance selected from beef tallow amine.
The amine-based material layer 450 collects water-soluble gas contained in the process waste gas that flows into the lower part and flows into the upper part.

アミン系物質は、工程廃ガス内に含まれているハロゲン化水素化合物のような水溶性ガスと酸塩基反応を起こして、水溶性ガスを捕集する。
例えば、アミン系物質にカルバミドを使用する場合、カルバミドは下記の主反応式または副反応式によってハロゲン化水素化合物と反応してハロゲン化水素化合物を捕集する。
主反応式によると、ハロゲン化水素化合物はカルバミドのアミノ基の水素原子と結合し、ハロゲン族元素による置換は発生しない。
カルバミドは、ハロゲン化水素化合物と反応して結合することによって粉末状態がエマルジョン状態に変化する。また、副反応式によると、カルバミドは熱がある場合にカルボニル基とアミノ基に分解されて、カルボニル基はＣＯ２に転換されてアミノ基はハロゲン化水素化合物と反応してＮＨ４Ｘに変換される。 The amine-based material causes an acid-base reaction with a water-soluble gas such as a hydrogen halide compound contained in the process waste gas, and collects the water-soluble gas.
For example, when carbamide is used as the amine-based material, the carbamide collects the hydrogen halide compound by reacting with the hydrogen halide compound according to the following main reaction formula or side reaction formula.
According to the main reaction formula, the hydrogen halide compound is bonded to the hydrogen atom of the amino group of carbamide, and substitution with a halogen group element does not occur.
The carbamide reacts with and binds to the hydrogen halide compound to change the powder state into an emulsion state. In addition, according to the side reaction formula, carbamide is decomposed into a carbonyl group and an amino group when heated, the carbonyl group is converted into CO 2 , and the amino group reacts with a hydrogen halide compound to be converted into NH 4 X. Is done.

（主反応式）

Figure 2015061725
(Main reaction formula)
Figure 2015061725

（副反応式）

Figure 2015061725
(Side reaction formula)
Figure 2015061725

次に、本発明の一実施形態による工程廃ガス処理用スクラバの作用について説明する。
半導体工程などで発生する工程廃ガスは、工程廃ガス注入管１３１を通じて注入チャンバ１３０の内部に流入する。
プラズマトーチ１１０は、プラズマ火炎を形成して注入チャンバ１３０に提供する。
工程廃ガスは、注入チャンバ１３０の内部でプラズマ火炎と接触して、反応チャンバ１５０に流入する。
工程廃ガスは、プラズマ火炎と接触しながら反応して分解及び解離される。 Next, the operation of the process waste gas treatment scrubber according to the embodiment of the present invention will be described.
Process waste gas generated in a semiconductor process or the like flows into the injection chamber 130 through the process waste gas injection pipe 131.
The plasma torch 110 forms a plasma flame and provides it to the injection chamber 130.
Process waste gas contacts the plasma flame inside the injection chamber 130 and flows into the reaction chamber 150.
Process waste gas reacts in contact with the plasma flame and is decomposed and dissociated.

工程廃ガスは、連結管１７０を通じて冷却されながら一部が反応副産物に形成され、冷却部２００に流入する。
工程廃ガスは、冷却ハウジング２１０の一側に形成される廃ガス流入口２１３を通じてハウジング本体２１１の一側壁２１１ａと第１隔壁２１７の間に流入する。
工程廃ガスは、また第１隔壁２１７の第１隔壁ホール２１７ａを通じて第１隔壁２１７と第２隔壁２１９の間の空間に流れながら第１冷却板２３０と接触する。
第１冷却板２３０は、流入する工程廃ガスと接触しながら工程廃ガスを冷却して反応副産物を捕集する。
第１冷却板２３０は、第１冷却水流入口２３３から流入して内部を流れる冷却水によって冷却され、持続的に工程廃ガスを冷却して反応副産物を捕集する。
工程廃ガスは、第１冷却板２３０に形成されるガス貫通管２３１を通過して流れる。 A part of the process waste gas is formed as a reaction byproduct while being cooled through the connection pipe 170, and flows into the cooling unit 200.
The process waste gas flows between the one side wall 211a of the housing body 211 and the first partition wall 217 through a waste gas inlet 213 formed on one side of the cooling housing 210.
The process waste gas contacts the first cooling plate 230 while flowing into the space between the first partition 217 and the second partition 219 through the first partition hole 217a of the first partition 217.
The first cooling plate 230 collects reaction byproducts by cooling the process waste gas while in contact with the inflowing process waste gas.
The first cooling plate 230 is cooled by the cooling water flowing from the first cooling water inlet 233 and flowing through the inside, and continuously cools the process waste gas and collects reaction byproducts.
The process waste gas flows through the gas through pipe 231 formed in the first cooling plate 230.

工程廃ガスは、第１冷却板２３０をすべて通過した後、第２隔壁２１９に形成される第２隔壁ホール２１９ａを通じて第２隔壁２１９とハウジング本体２１１の他の側壁２１１ｂの間の空間に流入する。
第２冷却板２５０は、工程廃ガスがメッシュ網２５１と冷却管２５５と接触して通過するようにしながら冷却して反応副産物を捕集する。
第２冷却板２５０は、一側と他側に第２冷却ホール２５０ａを形成して、工程廃ガスが第２冷却板２５０の間をジグザグに流れるようにしながらメッシュ網２５１と接触する時間を増加させる。
工程廃ガスは、第２冷却板２５０をすべて通過した後、廃ガス流出口２１５を通じて流出してトラップ流入口３１１を通じてトラップハウジング３１０の内部に流入する。 The process waste gas passes through the first cooling plate 230 and then flows into the space between the second partition 219 and the other side wall 211b of the housing body 211 through the second partition hole 219a formed in the second partition 219. .
The second cooling plate 250 collects reaction byproducts by cooling while allowing the process waste gas to pass through the mesh net 251 and the cooling pipe 255.
The second cooling plate 250 forms a second cooling hole 250a on one side and the other side to increase the time for contact with the mesh net 251 while allowing process waste gas to flow between the second cooling plates 250 in a zigzag manner. Let
The process waste gas passes through the second cooling plate 250 and then flows out through the waste gas outlet 215 and flows into the trap housing 310 through the trap inlet 311.

トラップ部３００は、トラップ流入口３１１を通じて流入する工程廃ガスがトラップ板３３０と接触しながら上部に流れるようにする。
トラップ板３３０は、工程廃ガスが第１トラップ板３３１及び第２トラップ板３３３と接触しながら冷却されるようにして反応副産物を追加に捕集する。
工程廃ガスは、第１トラップ板３３１の第１トラップホール３３１ａと第２トラップ板３３３の第２トラップホール３３３ａを相互に通過しながらジグザグに流れるようになる。
工程廃ガスは、トラップ板３３０をすべて通過した後、トラップハウジング３１０のトラップ流出口３１３を通じて流出し、反応ハウジング４１０の反応流入口４１１を通じて反応ハウジング４１０の内部に流入する。
反応部４００のアミン系物質層４５０は、工程廃ガスと接触しながら前述した主反応式と副反応式によって工程廃ガスに含まれているハロゲン化水素化合物のような水溶性ガスと酸塩基反応を進行して水溶性ガスを捕集して固定する。
工程廃ガスは、アミン系物質層４５０を通過した後、反応ハウジング４１０の反応流出口４１３を通じて外部に流出する。 The trap unit 300 allows the process waste gas flowing in through the trap inlet 311 to flow upward while being in contact with the trap plate 330.
The trap plate 330 additionally collects reaction byproducts such that the process waste gas is cooled while being in contact with the first trap plate 331 and the second trap plate 333.
The process waste gas flows in a zigzag manner while passing through the first trap hole 331a of the first trap plate 331 and the second trap hole 333a of the second trap plate 333.
The process waste gas passes through the trap plate 330, then flows out through the trap outlet 313 of the trap housing 310, and flows into the reaction housing 410 through the reaction inlet 411 of the reaction housing 410.
The amine-based material layer 450 of the reaction unit 400 reacts with a water-soluble gas such as a hydrogen halide compound contained in the process waste gas by the main reaction formula and the sub reaction formula described above while contacting with the process waste gas. To collect and fix the water-soluble gas.
The process waste gas passes through the amine-based material layer 450 and then flows out through the reaction outlet 413 of the reaction housing 410.

以上、説明したとおり、本発明の一実施形態による工程廃ガス処理用スクラバは、冷却部２００の第１冷却板２３０と第２冷却板２５０に供給されて循環する冷却水以外に別途の水を使用せず、工程廃ガスとの直接接触がないので廃水排出が全くなく、廃水を処理するための水処理施設を必要としない。
したがって、本発明の工程廃ガス処理用スクラバは、親環境的な方法で廃ガスを処理する。
さらに、本発明の工程廃ガス処理用スクラバは、プラズマのような熱エネルギーを用いて廃ガスを完全に分解、解離させて、分解、解離された廃ガスを冷却して粉末状の反応副産物（パウダー副産物）に変換させることによって、廃ガスの排出濃度をさらに低くすることができる。
また、本発明の一実施形態による工程廃ガス処理用スクラバは、概して電気のみを使用するため管理が容易で、運用費用を減少させることができる。 As described above, the process waste gas treatment scrubber according to the embodiment of the present invention supplies water other than the cooling water supplied to the first cooling plate 230 and the second cooling plate 250 of the cooling unit 200 and circulated. Since it is not used and there is no direct contact with process waste gas, there is no waste water discharge, and no water treatment facility for treating waste water is required.
Accordingly, the process waste gas treatment scrubber of the present invention treats waste gas in an environmentally friendly manner.
Furthermore, the process waste gas processing scrubber of the present invention completely decomposes and dissociates the waste gas using thermal energy such as plasma, cools the decomposed and dissociated waste gas, and forms a powdery reaction byproduct ( By converting it into a powder byproduct, the exhaust gas concentration can be further reduced.
In addition, the process waste gas treatment scrubber according to the embodiment of the present invention is easy to manage because it generally uses only electricity, and can reduce operation costs.

図７は、本発明の他の実施形態による工程廃ガス処理用スクラバを示した図である。
本実施形態による工程廃ガス処理用スクラバは、他の構成において、図１ないし図６に記載したスクラバと大同小異だが、トラップ部の構成において差異がある。以下では、その差異に対して説明し、残りの構成に対する説明は省略する。
図７に示したとおり、本実施形態において、トラップ部は、フィルター部に代替される。
フィルター部３５０は略円筒形態であり、水平断面形状が円形を成すように形成される。
フィルター部３５０は冷却部２００の下流に設置され、パウダー副産物をフィルタリングする。すなわち、フィルター部３５０はパウダー副産物を除去した残りの流体のみを通過させる。 FIG. 7 is a diagram showing a process waste gas treatment scrubber according to another embodiment of the present invention.
The process waste gas treatment scrubber according to the present embodiment is different from the scrubber described in FIGS. 1 to 6 in other configurations, but there is a difference in the configuration of the trap portion. Hereinafter, the difference will be described, and the description of the remaining configuration will be omitted.
As shown in FIG. 7, in this embodiment, the trap part is replaced with a filter part.
The filter portion 350 has a substantially cylindrical shape, and is formed so that the horizontal sectional shape is circular.
The filter unit 350 is installed downstream of the cooling unit 200 and filters powder by-products. That is, the filter unit 350 allows only the remaining fluid from which the powder by-products have been removed to pass through.

また、メッシュ網を経る冷却管２５５をフィルター部３５０に連結することで、フィルター部３５０の温度を一定温度に維持させることができる。
具体的に、フィルター部３５０は円筒状本体と、本体の内側に設置されたフィルターを含む。
円筒状本体は二重隔壁形態に形成され、二重隔壁の内側に冷却流体が一定時間滞留可能になっている。
冷却管２５５は、二重隔壁に連結して具備される。
フィルターは、内部に中空部が形成された形態をし、パウダー副産物を除外した残りの流体がフィルターを通過して中空部に案内されるように具備される。
フィルターの中空部は、排出管と連結して具備される。 Further, by connecting the cooling pipe 255 passing through the mesh net to the filter unit 350, the temperature of the filter unit 350 can be maintained at a constant temperature.
Specifically, the filter unit 350 includes a cylindrical main body and a filter installed inside the main body.
The cylindrical main body is formed in a double partition shape, and the cooling fluid can stay inside the double partition for a certain period of time.
The cooling pipe 255 is connected to the double partition wall.
The filter has a shape in which a hollow portion is formed therein, and the remaining fluid excluding the powder by-product passes through the filter and is guided to the hollow portion.
The hollow portion of the filter is connected to the discharge pipe.

図８は、本発明のまた他の実施形態による工程廃ガス処理用スクラバを示した図及び図９は図８の工程廃ガス処理用スクラバを他の方向から見た図である。
本実施形態による工程廃ガス処理用スクラバは、他の構成において、図１ないし図６に記載のスクラバと大同小異であるが、反応チャンバ１５０にＹ字連結管１３８を通じて二個の冷却部２００が連結され、それぞれの冷却部２００にフィルター部３５０またはトラップ部３００が連結される点に特徴がある。
すなわち、冷却部２００及びフィルター部３５０（またはトラップ部３００）が一対ずつ装着され、これらは一つの反応部４００に連結される。
したがって、一側の冷却部２００及びフィルター部３５０（またはトラップ部３００）が維持補修される場合には、他の側の冷却部２００及びフィルター部３５０（またはトラップ部３００）が動作できるので、本実施形態による工程廃ガス処理用スクラバの稼動停止状態の発生を防止できる。 FIG. 8 is a view showing a process waste gas treatment scrubber according to another embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a view of the process waste gas treatment scrubber of FIG. 8 viewed from another direction.
The process waste gas treatment scrubber according to the present embodiment is different from the scrubber shown in FIGS. 1 to 6 in other configurations, but the two cooling units 200 are connected to the reaction chamber 150 through the Y-shaped connecting pipe 138. The filter unit 350 or the trap unit 300 is connected to each cooling unit 200.
That is, the cooling unit 200 and the filter unit 350 (or the trap unit 300) are mounted in pairs, and these are connected to one reaction unit 400.
Accordingly, when the cooling unit 200 and the filter unit 350 (or the trap unit 300) on one side are maintained and repaired, the cooling unit 200 and the filter unit 350 (or the trap unit 300) on the other side can be operated. Generation | occurrence | production of the operation stop state of the scrubber for process waste gas processing by embodiment can be prevented.

１００ プラズマ処理部
１１０ プラズマトーチ
１３０ 注入チャンバ
１３１ 工程廃ガス注入管
１３３ 触媒ガス注入管
１３８ Ｙ字連結管
１５０ 反応チャンバ
１５３ 第３触媒ガス注入管
１７０ 連結管
２００ 冷却部
２１０ 冷却ハウジング
２１１ ハウジング本体
２１１ａ 一側壁
２１１ｂ 他の側壁
２１１ｃ 前側壁
２１１ｄ 後側壁
２１１ｅ 本体上板
２１１ｆ 本体下板
２１３ 排ガス流入口
２１５ 廃ガス流出口
２１７ 第１隔壁
２１７ａ 第１隔壁ホール
２１９ 第２隔壁
２１９ａ 第２隔壁ホール
２３０ 第１冷却板
２３１ ガス貫通管
２３３ 第１冷却水流入口
２３５ 第１冷却水流出口
２５０ 第２冷却板
２５０ａ 第２冷却ホール
２５１ メッシュ網
２５１ａ 上部メッシュ網
２５１ｂ 下部メッシュ網
２５３ 支持バー
２５５ 冷却管
３００ トラップ部
３１０ トラップハウジング
３１１ トラップ流入口
３１３ トラップ流出口
３３０ トラップ板
３３１ 第１トラップ板
３３１ａ 第１トラップホール
３３３ 第２トラップ板
３３３ａ 第２トラップホール
３３５ トラップ支持棒
３５０ フィルター部
４００ 反応部
４１０ 反応ハウジング
４１１ 反応流入口
４１３ 反応流出口
４１５ 反応上部板
４３０ 支持板
４３１ 支持ホール
４３３ 垂直板
４５０ アミン系物質層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Plasma processing part 110 Plasma torch 130 Injection chamber 131 Process waste gas injection pipe 133 Catalytic gas injection pipe 138 Y character connection pipe 150 Reaction chamber 153 3rd catalyst gas injection pipe 170 Connection pipe 200 Cooling part 210 Cooling housing 211 Housing main body 211a One Side wall 211b Other side wall 211c Front side wall 211d Rear side wall 211e Main body upper plate 211f Main body lower plate 213 Exhaust gas inlet 215 Waste gas outlet 217 First partition 217a First partition hole 219 Second partition 219a Second partition hole 230 First cooling Plate 231 Gas through pipe 233 First cooling water inlet 235 First cooling water outlet 250 Second cooling plate 250a Second cooling hole 251 Mesh net 251a Upper mesh net 251b Lower mesh net 253 Support bar 255 Cooling pipe 300 trap part 310 trap housing 311 trap inlet 313 trap outlet 330 trap plate 331 first trap plate 331a first trap hole 333 second trap plate 333a second trap hole 335 trap support rod 350 filter part 400 reaction part 410 reaction housing 411 Reaction inlet 413 Reaction outlet 415 Reaction upper plate 430 Support plate 431 Support hole 433 Vertical plate 450 Amine-based material layer

Claims (13)

工程廃ガスの処理流動経路に、工程廃ガスとアミン系物質とを接触させて前記工程廃ガスに含まれるハロゲン化水素化合物を含む水溶性ガスを酸塩基反応によって除去する反応部を有することを特徴とする工程廃ガス処理用スクラバ。   The process flow path of the process waste gas has a reaction section for contacting the process waste gas with an amine-based material to remove a water-soluble gas containing a hydrogen halide compound contained in the process waste gas by an acid-base reaction. Characteristic scrubber for process waste gas treatment. 前記工程廃ガスの処理流動経路中の前記反応部の上流に設置され、
前記工程廃ガスを設定された熱源によって加熱する熱源部と、
前記工程廃ガスを分解及び冷却して反応副産物を捕集する冷却部とを含むことを特徴とする請求項１に記載の工程廃ガス処理用スクラバ。 Installed upstream of the reaction section in the process flow path of the process waste gas,
A heat source part for heating the process waste gas by a set heat source;
The scrubber for process waste gas treatment according to claim 1, further comprising a cooling unit that decomposes and cools the process waste gas to collect reaction byproducts. 前記熱源部は、プラズマを発生させるプラズマトーチ、
流入する前記工程廃ガスを前記プラズマと接触させる注入チャンバ、及び
前記プラズマと前記工程廃ガスが接触し反応して前記工程廃ガスが分解される反応チャンバを含むことを特徴とする請求項２に記載の工程廃ガス処理用スクラバ。 The heat source unit is a plasma torch that generates plasma,
The method according to claim 2, further comprising: an injection chamber for bringing the inflowing process waste gas into contact with the plasma; and a reaction chamber in which the plasma and the process waste gas come into contact and react to decompose the process waste gas. The scrubber for process waste gas treatment as described. 前記冷却部は、前記熱源部から流出する前記工程廃ガスが流入する冷却ハウジングと、
流入した前記工程廃ガスを１次冷却して工程廃ガスの反応副産物を捕集する第１冷却板と、
前記第１冷却板を通過した前記工程廃ガスを２次冷却して前記工程廃ガスの反応副産物を捕集する第２冷却板とを含むことを特徴とする請求項２に記載の工程廃ガス処理用スクラバ。 The cooling section includes a cooling housing into which the process waste gas flowing out of the heat source section flows;
A first cooling plate for primarily cooling the inflowing process waste gas to collect reaction byproducts of the process waste gas;
The process waste gas according to claim 2, further comprising: a second cooling plate that secondarily cools the process waste gas that has passed through the first cooling plate and collects reaction byproducts of the process waste gas. Processing scrubber. 前記第１冷却板の一端と前記第２冷却板の一端は、互いに直交するように装着されたことを特徴とする請求項４に記載の工程廃ガス処理用スクラバ。   The scrubber for process waste gas treatment according to claim 4, wherein one end of the first cooling plate and one end of the second cooling plate are mounted so as to be orthogonal to each other. それぞれ複数個の前記第１、２冷却板が、設定された間隔を有して積層して設けられ、
前記工程廃ガスは、前記第１冷却板をすべて経た後に、前記第２冷却板を経るように設けられたことを特徴とする請求項５に記載の工程廃ガス処理用スクラバ。 A plurality of the first and second cooling plates are provided in a stacked manner with a set interval,
6. The process waste gas treatment scrubber according to claim 5, wherein the process waste gas is provided so as to pass through the second cooling plate after passing through the first cooling plate. 前記冷却部と前記反応部の間に設置され、
前記冷却部から流出する前記工程廃ガスを冷却して反応副産物を捕集した後、前記反応部に伝達するトラップ部をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の工程廃ガス処理用スクラバ。 Installed between the cooling unit and the reaction unit;
2. The process waste gas processing scrubber according to claim 1, further comprising a trap unit that cools the process waste gas flowing out of the cooling unit and collects reaction byproducts and then transmits the trapped reaction product. . 前記反応部は、
内部が中空であり、前記工程廃ガスが流入する反応流入口及び前記工程廃ガスが外部に流出する反応流出口を有する反応ハウジング、
板状であり、上面から下面に貫通する多数の支持ホールを有し、前記反応ハウジング内部に垂直方向に離隔して形成された支持板、及び
前記支持板の上面に具備される前記アミン系物質層であって、前記多数の支持ホールを通じて供給される前記工程廃ガスが通過させる多孔質のアミン系物質層を含むことを特徴とする請求項１に記載の工程廃ガス処理用スクラバ。 The reaction part is
A reaction housing that is hollow inside and has a reaction inlet through which the process waste gas flows and a reaction outlet through which the process waste gas flows out;
A plate-shaped support plate having a number of support holes penetrating from the upper surface to the lower surface, and spaced apart in the vertical direction inside the reaction housing, and the amine-based material provided on the upper surface of the support plate The process waste gas treatment scrubber according to claim 1, further comprising a porous amine-based material layer through which the process waste gas supplied through the plurality of support holes passes. 前記アミン系物質は、
カルバミド（ウレア）、アミノ酪酸、ジフェニルアミン、（Ｎ，Ｎ−ジアミノ安息香酸）、グルタミン酸、ラウリルアミン（Ｎ−ドデシルアミン）、メチルヘキシルアミン、ニコチンプトレスシンステアリルアミン（オクタデシルアミン）及び牛脂アミンの中から選ばれる少なくとも一つの物質を含むことを特徴とする請求項１に記載の工程廃ガス処理用スクラバ。 The amine material is
Among carbamide (urea), aminobutyric acid, diphenylamine, (N, N-diaminobenzoic acid), glutamic acid, laurylamine (N-dodecylamine), methylhexylamine, nicotine putrescine stearylamine (octadecylamine) and tallow amine The scrubber for process waste gas treatment according to claim 1, comprising at least one substance selected. 前記工程廃ガスはハロゲン族元素を含み、
前記注入チャンバまたは前記反応チャンバの内部に前記工程廃ガスの反応性を増加させる触媒ガスとして、ＮＨ３を供給することを特徴とする請求項３に記載の工程廃ガス処理用スクラバ。 The process waste gas contains a halogen group element,
The process waste gas treatment scrubber according to claim 3 , wherein NH 3 is supplied as a catalyst gas for increasing the reactivity of the process waste gas into the injection chamber or the reaction chamber. 前記トラップ部の内部に前記工程廃ガスの反応性を増加させる触媒ガスとして、ＮＨ３を供給することを特徴とする請求項７に記載の工程廃ガス処理用スクラバ。 The process waste gas treatment scrubber according to claim 7, wherein NH 3 is supplied as a catalyst gas for increasing the reactivity of the process waste gas into the trap portion. 前記冷却部と前記反応部の間に設置され、
前記冷却部から流出する前記工程廃ガスのパウダー副産物をフィルタリングするフィルター部をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の工程廃ガス処理用スクラバ。 Installed between the cooling unit and the reaction unit;
2. The process waste gas treatment scrubber according to claim 1, further comprising a filter unit that filters powder by-products of the process waste gas flowing out of the cooling unit. 前記トラップ部及び前記フィルター部のいずれか一つと前記冷却部が二つ以上具備されたことを特徴とする請求項７または請求項１２に記載の工程廃ガス処理用スクラバ。   The process waste gas treatment scrubber according to claim 7 or 12, wherein any one of the trap part and the filter part and two or more cooling parts are provided.
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